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21. 发明专利

TW201619728A 壓力式流量控制裝置审中-公开
简体标题：压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW201619728A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104123257
申请日：2015-07-17
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/03
CPC分类号： G05D7/0635
摘要：提供一種壓力式流量控制裝置，其在流體流量控制中，會達成縮短切換流量時的降落響應時間，而能夠提高降落響應特性。具備：本體(4)，設置有用以連通流體入口(1)與流體出口(2)之間的流體通路(3)；壓力控制用控制閥(5)，以水平姿態固定在本體(4)用以開關流體通路(3)；開關閥(6)，以垂直姿態固定在本體(4)用以開關壓力控制用控制閥(5)的下游側之流體通路(3)；孔口(7)，設置在開關閥(6)的上游側之流體通路(3)；以及壓力感測器(8)，固定在本體(4)用以檢測壓力控制用控制閥(5)與孔口(7)之間的流體通路(3)之內壓，前述流體通路(3)係具備：與壓力控制用控制閥(5)連接的水平姿態的第1通路部(3a)、連接第1通路部(3a)與孔口(7)的垂直姿態的第2通路部(3b)、以及連接第2通路部(3b)與壓力感測器(8)之水平姿態的第3通路部(3c)。
简体摘要：提供一种压力式流量控制设备，其在流体流量控制中，会达成缩短切换流量时的降落响应时间，而能够提高降落响应特性。具备：本体(4)，设置有用以连通流体入口(1)与流体出口(2)之间的流体通路(3)；压力控制用控制阀(5)，以水平姿态固定在本体(4)用以开关流体通路(3)；开关阀(6)，以垂直姿态固定在本体(4)用以开关压力控制用控制阀(5)的下游侧之流体通路(3)；孔口(7)，设置在开关阀(6)的上游侧之流体通路(3)；以及压力传感器(8)，固定在本体(4)用以检测压力控制用控制阀(5)与孔口(7)之间的流体通路(3)之内压，前述流体通路(3)系具备：与压力控制用控制阀(5)连接的水平姿态的第1通路部(3a)、连接第1通路部(3a)与孔口(7)的垂直姿态的第2通路部(3b)、以及连接第2通路部(3b)与压力传感器(8)之水平姿态的第3通路部(3c)。

22. 发明专利

TWI534575B 孔口板及壓力式流量控制裝置有权
简体标题：孔口板及压力式流量控制设备
公开(公告)号：TWI534575B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW103114392
申请日：2014-04-21
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 廣瀬 , HIROSE, TAKASHI
IPC分类号： G05D7/01 , G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , F16L55/02718

23. 发明专利

TWI525734B 半導體製造裝置之原料氣體供給裝置有权
简体标题：半导体制造设备之原料气体供给设备
公开(公告)号：TWI525734B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW101117394
申请日：2012-05-16
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/45561 , C23C16/52 , Y10T137/86485

24. 发明专利

TWI512279B 脆性破壞性板材之固定構造及使用其之由脆性破壞性板材所構成的光透過窗板之固定方法有权
简体标题：脆性破坏性板材之固定构造及使用其之由脆性破坏性板材所构成的光透过窗板之固定方法
公开(公告)号：TWI512279B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW103115533
申请日：2014-04-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 薬師神忠幸 , YAKUSHIJIN, TADAYUKI
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/33 , G01N21/27
CPC分类号： G01J1/0403 , G01J1/0407 , G01J1/42 , G01J3/0205 , G01J5/0014 , G01J5/0875 , G01N21/0303 , G01N21/05 , G01N21/33 , G02B1/02 , G02B7/007 , G02B27/022 , G02B27/028

25. 发明专利

TWI483089B 流體控制裝置有权
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TWI483089B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW099105894
申请日：2010-03-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：廣瀨潤 , HIROSE, JUN , 手塚一幸 , TEZUKA, KAZUYUKI , 內田陽平 , UCHIDA, YOHEI , 小艾睦典 , KOYOMOGI, MUTSUNORI , 松田隆博 , MATSUDA, TAKAHIRO , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： C23C16/45561 , H01L21/67017 , Y10T137/0396

26. 发明专利

TWI481740B 原料氣化供給裝置有权
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI481740B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485

27. 发明专利

TWI480531B 壓力檢測器之安裝構造有权
简体标题：压力检测器之安装构造
公开(公告)号：TWI480531B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW103109920
申请日：2014-03-17
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 日本電產科寶電子股份有限公司 , NIDEC COPAL ELECTRONICS CORPORATION
发明人：土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 深澤政紀 , FUKAZAWA, MASANORI , 石黒勝巳 , ISHIGURO, KATSUMI
IPC分类号： G01L19/00
CPC分类号： F16L21/03 , F16L21/04 , F16L41/008 , G01L9/0051 , G01L19/003 , G01L19/145 , G01L19/147

28. 发明专利

TWI470187B 氣體供應裝置用流量控制器之流量測量裝置及流量測量方法有权
简体标题：气体供应设备用流量控制器之流量测量设备及流量测量方法
公开(公告)号：TWI470187B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW100145975
申请日：2011-12-13
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： G01F1/00 , G01F15/02 , G01F25/00 , G05D16/20
CPC分类号： G01F5/00 , G01F1/34 , G01F1/86 , G01F15/046

29. 发明专利

TWI452610B 半導體製造設備用之氣體供給裝置有权
简体标题：半导体制造设备用之气体供给设备
公开(公告)号：TWI452610B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW097130660
申请日：2008-08-12
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/52

30. 发明专利

TWI445058B 原料的氣化供給裝置有权
简体标题：原料的气化供给设备
公开(公告)号：TWI445058B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101108841
申请日：2012-03-15
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45512 , C23C16/4481 , C23C16/45557 , C23C16/52 , Y10T137/7837

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