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11. 发明专利

TWI382149B 雙臂光纖干涉儀之干涉臂長度差的測量有权
简体标题：双臂光纤干涉仪之干涉臂长度差的测量
公开(公告)号：TWI382149B
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：TW097148700
申请日：2008-12-15
申请人：任世達安控光電有限公司 , NXTAR FIBER OPTIC SECURITY CO., LTD.
发明人：黃世巨 , HUANG, SHIH CHU
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02

12. 发明专利

TW201833521A 進行時間解析干涉測量方法及裝置审中-公开
简体标题：进行时间解析干涉测量方法及设备
公开(公告)号：TW201833521A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107108251
申请日：2018-03-12
申请人：柏林工業大學 , TECHNISCHE UNIVERSITAET BERLIN
发明人：雷曼麥克 , LEHMANN, MICHAEL , 尼爾曼朵爾 , NIERMANN, TORE , 華格內爾特歐迦 , WAGNER, TOLGA
IPC分类号： G01J9/02 , G01B9/025
摘要：本發明的實施例涉及一種進行時間解析干涉測量的方法，該方法包括下列步驟：生成至少兩個相干波，使該至少兩個相干波重疊並產生干涉圖樣，在給定曝光時間內測量干涉圖樣，由此形成測量干涉值，以及分析測量干涉值並且從測量干涉值中提取振幅和/或相位資訊。在曝光時間的至少一個時間段（以下稱為受干擾時間段）中，干涉圖樣被有意干擾或破壞，使得對應的測量干涉值描述受干擾或受破壞的干涉圖樣。在曝光時間的至少一個其他時間段（以下稱為未受干擾時間段）中，干涉圖樣未受干擾或至少與受干擾時間段相比受到較少干擾，使得對應的測量干涉值描述未受干擾或干擾較少的干涉圖樣。在整個給定曝光時間期間被測量的測量干涉值被濾波，其中在至少一個受干擾時間段測量的這些干涉值被減少、抑制或丟棄。經濾波的干涉值被分析，並且振幅和/或相位資訊從經濾波的干涉值中被提取。
简体摘要：本发明的实施例涉及一种进行时间解析干涉测量的方法，该方法包括下列步骤：生成至少两个相干波，使该至少两个相干波重叠并产生干涉图样，在给定曝光时间内测量干涉图样，由此形成测量干涉值，以及分析测量干涉值并且从测量干涉值中提取振幅和/或相位信息。在曝光时间的至少一个时间段（以下称为受干扰时间段）中，干涉图样被有意干扰或破坏，使得对应的测量干涉值描述受干扰或受破坏的干涉图样。在曝光时间的至少一个其他时间段（以下称为未受干扰时间段）中，干涉图样未受干扰或至少与受干扰时间段相比受到较少干扰，使得对应的测量干涉值描述未受干扰或干扰较少的干涉图样。在整个给定曝光时间期间被测量的测量干涉值被滤波，其中在至少一个受干扰时间段测量的这些干涉值被减少、抑制或丢弃。经滤波的干涉值被分析，并且振幅和/或相位信息从经滤波的干涉值中被提取。

13. 发明专利

TW201736810A 相位偏移量測定裝置审中-公开
简体标题：相位偏移量测定设备
公开(公告)号：TW201736810A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106101785
申请日：2017-01-19
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：米澤良 , YONEZAWA, MAKOTO
IPC分类号： G01J9/02 , G01M11/00 , G01N21/27 , G01N21/45 , G03F1/84
CPC分类号： G01J9/02 , G01M11/00 , G01N21/27 , G01N21/45 , G03F1/84
摘要：本發明係一種測定相位偏移遮罩15之相位偏移量的裝置，從光源1至對雙重干涉像進行攝影之攝像裝置2的單一光路上具備有：繞射格子7，係使得直線偏光進行繞射而生成複數繞射光；諾瑪斯基稜鏡11，係生成相位偏移遮罩15之圖案的橫錯雙重像，並使得通過相位偏移遮罩15之圖案部18以及相位偏移部19的繞射光產生干涉；以及移動機構2，係使得諾瑪斯基稜鏡11滑動於雙重像之生成方向上。
简体摘要：本发明系一种测定相位偏移遮罩15之相位偏移量的设备，从光源1至对双重干涉像进行摄影之摄像设备2的单一光路上具备有：绕射格子7，系使得直线偏光进行绕射而生成复数绕射光；诺玛斯基棱镜11，系生成相位偏移遮罩15之图案的横错双重像，并使得通过相位偏移遮罩15之图案部18以及相位偏移部19的绕射光产生干涉；以及移动机构2，系使得诺玛斯基棱镜11滑动于双重像之生成方向上。

14. 发明专利

TW201506354A 可見光之即時波長修正系統审中-公开
简体标题：可见光之实时波长修正系统
公开(公告)号：TW201506354A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW102128632
申请日：2013-08-09
申请人：智泰科技股份有限公司 , 3DFAMILY TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：范光照 , FAN, KUANG CHAO , 許智欽 , HSU, CHIH CHIN
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/18 , G01J9/02
摘要：一種可見光之即時波長修正系統，其包括一繞射光柵、一聚焦透鏡及一光點位置感測器。繞射光柵是依據光學繞射原理使特定波長的平行光束產生一特定的繞射角，聚焦透鏡及光點位置感測器是依據自動視準儀原理，感測出平行光束之波長值受到環境因素的影響所產生的繞射角變化，以提供實際波長值的即時修正。此即時波長修正系統具有結構簡單及低成本的優點，適合應用於任何雷射位移干涉儀。此外，本發明亦可使用雷射二極體為光源以縮小整體雷射位移干涉儀尺寸，適合作為短行程奈米定位平台的位移感測器。
简体摘要：一种可见光之实时波长修正系统，其包括一绕射光栅、一聚焦透镜及一光点位置传感器。绕射光栅是依据光学绕射原理使特定波长的平行光束产生一特定的绕射角，聚焦透镜及光点位置传感器是依据自动视准仪原理，传感出平行光束之波长值受到环境因素的影响所产生的绕射角变化，以提供实际波长值的实时修正。此实时波长修正系统具有结构简单及低成本的优点，适合应用于任何激光位移干涉仪。此外，本发明亦可使用激光二极管为光源以缩小整体激光位移干涉仪尺寸，适合作为短行程奈米定位平台的位移传感器。

15. 发明专利

TWI452257B 狀態量測裝置及狀態量測方法有权
简体标题：状态量测设备及状态量测方法
公开(公告)号：TWI452257B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW098111945
申请日：2009-04-10
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU , 大川內真 , OKAWAUCHI, MAKOTO
IPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02 , G01J9/02

16. 发明专利

TW201341766A 非線性光學相位匹配之相位頻譜量測系統以及其量測方法审中-公开
简体标题：非线性光学相位匹配之相位频谱量测系统以及其量测方法
公开(公告)号：TW201341766A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101112643
申请日：2012-04-10
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：楊尚達 , YANG, SHANGDA
IPC分类号： G01J9/02 , G02F1/35
CPC分类号： G01J9/02
摘要：一種非線性光學相位匹配之相位頻譜量測系統，包含寬頻光源、第一分光鏡、第一非線性晶體、第二非線性晶體以及光譜儀。第一分光鏡用以接收寬頻光源，並產生第一光波及第二光波。第一非線性晶體用以供第一光波通過，並將第一光波轉換成第三光波，且第三光波具有一參考相位頻譜。第二非線性晶體用以供第二光波通過，並將第二光波轉換成一具有預設波長之第四光波。光譜儀用以接收第三光波及第四光波，並產生一干涉頻譜。因此，藉由分析干涉頻譜的條紋疏密變化即可在未知寬頻光源相位頻譜的情形下量測出第二非線性晶體之相位匹配之相位頻譜。
简体摘要：一种非线性光学相位匹配之相位频谱量测系统，包含宽带光源、第一分光镜、第一非线性晶体、第二非线性晶体以及光谱仪。第一分光镜用以接收宽带光源，并产生第一光波及第二光波。第一非线性晶体用以供第一光波通过，并将第一光波转换成第三光波，且第三光波具有一参考相位频谱。第二非线性晶体用以供第二光波通过，并将第二光波转换成一具有默认波长之第四光波。光谱仪用以接收第三光波及第四光波，并产生一干涉频谱。因此，借由分析干涉频谱的条纹疏密变化即可在未知宽带光源相位频谱的情形下量测出第二非线性晶体之相位匹配之相位频谱。

17. 发明专利

TWI692617B 具有像素化相移光罩之干涉儀及執行干涉儀量測之方法有权
简体标题：具有像素化相移光罩之干涉仪及运行干涉仪量测之方法
公开(公告)号：TWI692617B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW107146420
申请日：2018-12-21
申请人：美商耐諾股份有限公司 , NANOMETRICS INCORPORATED
发明人：史密斯耐吉 P , SMITH, NIGEL P.
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02 , G01N21/892 , G02B27/10

18. 发明专利

TW201918687A 雙光學量測補償系統审中-公开
简体标题：双光学量测补偿系统
公开(公告)号：TW201918687A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106137886
申请日：2017-11-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳世昌 , CHEN, SHIH-CHANG , 劉東昇 , LIU, TUNG-SHENG , 洪揚 , HONG, YANG
IPC分类号： G01J1/20 , G01J9/02
摘要：一種雙光學量測補償系統，適用於一機台。機台包括控制器、工作平台、工作頭。系統包括至少一第一以及第二光學感測模組以及一處理模組。第一及第二光學感測模組分別產生工作頭相對於工作平台的一位置點的第一量測值與第二量測值。第一光學感測模組的定位精度低於第二光學感測模組的定位精度。處理模組電性連接機台，用以接收第一以及第二量測值，處理模組根據第二量測值計算第一量測值相對於位置點的偏差量，控制器接收偏差量，並根據偏差量修正運動指令。
简体摘要：一种双光学量测补偿系统，适用于一机台。机台包括控制器、工作平台、工作头。系统包括至少一第一以及第二光学传感模块以及一处理模块。第一及第二光学传感模块分别产生工作头相对于工作平台的一位置点的第一量测值与第二量测值。第一光学传感模块的定位精度低于第二光学传感模块的定位精度。处理模块电性连接机台，用以接收第一以及第二量测值，处理模块根据第二量测值计算第一量测值相对于位置点的偏差量，控制器接收偏差量，并根据偏差量修正运动指令。

19. 发明专利

TWI651019B 熱通量測定方法、基板處理系統及熱通量測定用構件有权
简体标题：热通量测定方法、基板处理系统及热通量测定用构件
公开(公告)号：TWI651019B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103145388
申请日：2014-12-25
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：輿水地鹽 , KOSHIMIZU, CHISHIO , 松土龍夫 , MATSUDO, TATSUO
IPC分类号： H05H1/00 , G01K17/20 , G01J9/02 , H01J37/32

20. 发明专利

TWI627388B 光柵測量裝置有权
简体标题：光栅测量设备
公开(公告)号：TWI627388B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW106125528
申请日：2017-07-28
申请人：上海微電子裝備(集團)股份有限公司
发明人：吳萍 , WU, PING , 張志平 , ZHANG, ZHIPING
IPC分类号： G01J3/24 , G01J9/02 , G01D5/38

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