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11. 发明专利

TWI361470B 處理裝置 PROCESSING APPARATUS 有权
简体标题：处理设备 PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TWI361470B
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW096134913
申请日：2007-09-19
申请人：佳能股份有限公司
发明人：平野真一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/7075 , G03F7/70991 , H01L21/67276
摘要：一種處理置包含：一處理單元，架構以處理一物件；及一控制器，架構以送出一信號，用以要求一外部裝置，以在該該處理裝置進入該外部裝置可以執行傳輸的一狀態之前，執行該物件的傳輸進出該處理裝置。
简体摘要：一种处理置包含：一处理单元，架构以处理一对象；及一控制器，架构以送出一信号，用以要求一外部设备，以在该该处理设备进入该外部设备可以运行传输的一状态之前，运行该对象的传输进出该处理设备。

12. 发明专利

TW201131308A 曝光機台、圖案化薄膜的形成方法、圖案化光阻層的形成方法、主動元件陣列基板以及圖案化薄膜 EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF FORMING PATTERND LAYER, METHOD OF FORMING PATTERND PHOTORESIST LAYER, ACTIVE DEVICE ARRAY SUBSTRATE AND PATTERNED LAYER 审中-公开
简体标题：曝光机台、图案化薄膜的形成方法、图案化光阻层的形成方法、主动组件数组基板以及图案化薄膜 EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF FORMING PATTERND LAYER, METHOD OF FORMING PATTERND PHOTORESIST LAYER, ACTIVE DEVICE ARRAY SUBSTRATE AND PATTERNED LAYER
公开(公告)号：TW201131308A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099107470
申请日：2010-03-15
申请人：友達光電股份有限公司
发明人：蕭祥志 , 廖達文 , 楊志敏 , 陳珊芳 , 張雅萍 , 楊啟宏 , 廖崇源
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/20 , G02F1/133526 , G02F1/134309 , G03B27/58 , G03F1/14 , G03F7/70208 , Y10T428/24802
摘要：一種曝光機台,適於對一薄膜上的一光阻層進行曝光,以於光阻層上形成多個條狀曝光圖案,而曝光機台包括一光源、一透鏡組以及一光罩。透鏡組配置於光阻層與光源之間,透鏡組包括多個彼此平行排列之條狀透鏡,其中任二相鄰條狀透鏡的重疊區域定義為一透鏡接合區域,而透鏡接合區域以外的區域則定義為多個透鏡區域。光罩配置於光阻層與透鏡組之間,其中光罩具有多個遮光圖案,遮光圖案的外輪廓對應於條狀曝光圖案,而各遮光圖案分別具有一條狀開口,且條狀開口的延伸方向實質上平行於遮光圖案的延伸方向。
简体摘要：一种曝光机台,适于对一薄膜上的一光阻层进行曝光,以于光阻层上形成多个条状曝光图案,而曝光机台包括一光源、一透镜组以及一光罩。透镜组配置于光阻层与光源之间,透镜组包括多个彼此平行排列之条状透镜,其中任二相邻条状透镜的重叠区域定义为一透镜接合区域,而透镜接合区域以外的区域则定义为多个透镜区域。光罩配置于光阻层与透镜组之间,其中光罩具有多个遮光图案,遮光图案的外轮廓对应于条状曝光图案,而各遮光图案分别具有一条状开口,且条状开口的延伸方向实质上平行于遮光图案的延伸方向。

13. 发明专利

TW201104355A 適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備 LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA 审中-公开
简体标题：适用于大面积曝光之拼接式激光干涉微影设备 LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA
公开(公告)号：TW201104355A
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW098124659
申请日：2009-07-22
申请人：國立清華大學
发明人：傅建中 , 林柏瑄
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70408
摘要：一種適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備包含一本體、一雷射光波供應單元、一反射機構、一L形固定機構以及一基板載台。雷射光波供應單元固定於本體上，用以提供一雷射光波。反射機構係可移動且可轉動地安裝於本體上。L形固定機構係安裝於本體上並包含一第一固定座以及一第二固定座。第一固定座上面固定有一呈直立狀態之第一反射鏡。第二固定座連接至第一固定座，用以固定一呈水平狀態之光罩，並實質上垂直於第一固定座。基板載台係可移動地安裝於本體上，並位於第二固定座的下方，用以承載一基板。藉此，可以得到拼接式的大面積圖案。
简体摘要：一种适用于大面积曝光之拼接式激光干涉微影设备包含一本体、一激光光波供应单元、一反射机构、一L形固定机构以及一基板载台。激光光波供应单元固定于本体上，用以提供一激光光波。反射机构系可移动且可转动地安装于本体上。L形固定机构系安装于本体上并包含一第一固定座以及一第二固定座。第一固定座上面固定有一呈直立状态之第一反射镜。第二固定座连接至第一固定座，用以固定一呈水平状态之光罩，并实质上垂直于第一固定座。基板载台系可移动地安装于本体上，并位于第二固定座的下方，用以承载一基板。借此，可以得到拼接式的大面积图案。

14. 发明专利

TW200949466A 機台單元、曝光設備、及裝置製造方法 STAGE UNIT, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：机台单元、曝光设备、及设备制造方法 STAGE UNIT, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200949466A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：TW098111378
申请日：2009-04-06
申请人：佳能股份有限公司
发明人：大石伸司
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , H02K41/03 , H02K2201/18
摘要：一種機台單元包含以下元件。一定子包含一第一線圈陣列，其中在x方向延伸之第一線圈被配置在y方向，一第二線圈陣列，其中在x方向延伸之第二線圈被配置在y方向並且該第二線圈陣列是位在相鄰於在x方向之該第一線圈陣列，以及一第三線圈陣列，其中在y方向延伸之第三線圈被配置在x方向並且該第三線圈陣列覆蓋該等第一及第二線圈陣列。一可移動構件在該定子之上移動。一控制器藉由允許電流放大器供應電流至在該等第一、第二及第三線圈陣列中所包括之該等線圈，而控制該可移動構件的驅動。一開關能將該第一線圈連接至該第二線圈。
简体摘要：一种机台单元包含以下组件。一定子包含一第一线圈数组，其中在x方向延伸之第一线圈被配置在y方向，一第二线圈数组，其中在x方向延伸之第二线圈被配置在y方向并且该第二线圈数组是位在相邻于在x方向之该第一线圈数组，以及一第三线圈数组，其中在y方向延伸之第三线圈被配置在x方向并且该第三线圈数组覆盖该等第一及第二线圈数组。一可移动构件在该定子之上移动。一控制器借由允许电流放大器供应电流至在该等第一、第二及第三线圈数组中所包括之该等线圈，而控制该可移动构件的驱动。一开关能将该第一线圈连接至该第二线圈。

15. 发明专利

TW200836022A 曝光設備及裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200836022A
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW096149005
申请日：2007-12-20
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：藤井宏文 FUJII, HIROFUMI , 伊藤浩司 ITO, HIROSHI , 井上充 INOUE, MITSURU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70725 , G03F7/709
摘要：一包含投射光學系統且被組構來經由該投射光學系統而使基板暴露於光之曝光設備包含一支撐架,被組構來支撐投射光學系統;一物件,係藉由該支撐架來予以支撐,且可相對於該支撐架而移動;一致動器,被組構來驅動該物件;一偵測器,被組構來偵測該物件與該支撐架之間的相對位置:以及一控制器,被組構而根據該偵測器的輸出來實施該致動器的控制,以致使該物件隨著該支撐架而動。該控制器被組構而根據該偵測器的輸出,與致使該物件隨著該支撐架而動之該控制並行地實施該支撐架之振動的估算。
简体摘要：一包含投射光学系统且被组构来经由该投射光学系统而使基板暴露于光之曝光设备包含一支撑架,被组构来支撑投射光学系统;一对象,系借由该支撑架来予以支撑,且可相对于该支撑架而移动;一致动器,被组构来驱动该对象;一侦测器,被组构来侦测该对象与该支撑架之间的相对位置:以及一控制器,被组构而根据该侦测器的输出来实施该致动器的控制,以致使该对象随着该支撑架而动。该控制器被组构而根据该侦测器的输出,与致使该对象随着该支撑架而动之该控制并行地实施该支撑架之振动的估算。

16. 发明专利

TW200826638A 可放置正片與負片之夾持裝置 CLAMP CAPABLE OF FIXING A POSITIVE FILM AND A NEGATIVE FILM 失效
简体标题：可放置正片与负片之夹持设备 CLAMP CAPABLE OF FIXING A POSITIVE FILM AND A NEGATIVE FILM
公开(公告)号：TW200826638A
公开(公告)日：2008-06-16
申请号：TW095145920
申请日：2006-12-08
申请人：致伸科技股份有限公司 PRIMAX ELECTRONICS LTD.
发明人：湯錫添 TANG, HSI TIEN
IPC分类号： H04N , B41L
CPC分类号： G03B27/58
摘要：本發明係關於一種可放置正片與負片之夾持裝置,包括矩形夾承座以及矩形壓蓋,兩者皆具有二長邊及二短邊,矩形夾承座包括矩形凹部用以放置正片及負片於其中,矩形壓蓋之一短邊係樞接於矩形夾承座之一短邊,並被收納於矩形凹部內。
简体摘要：本发明系关于一种可放置正片与负片之夹持设备,包括矩形夹承座以及矩形压盖,两者皆具有二长边及二短边,矩形夹承座包括矩形凹部用以放置正片及负片于其中,矩形压盖之一短边系枢接于矩形夹承座之一短边,并被收纳于矩形凹部内。

17. 发明专利

TW200822270A 處理裝置 PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：处理设备 PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW200822270A
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：TW096134913
申请日：2007-09-19
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 HIRANO, SHINICHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/7075 , G03F7/70991 , H01L21/67276
摘要：一種處理置包含:一處理單元,架構以處理一物件;及一控制器,架構以送出一信號,用以要求一外部裝置,以在該該處理裝置進入該外部裝置可以執行傳輸的一狀態之前,執行該物件的傳輸進出該處理裝置。
简体摘要：一种处理置包含:一处理单元,架构以处理一对象;及一控制器,架构以送出一信号,用以要求一外部设备,以在该该处理设备进入该外部设备可以运行传输的一状态之前,运行该对象的传输进出该处理设备。

18. 发明专利

TW261672B 二維三維兩用曬相機失效
简体标题：二维三维两用晒相机
公开(公告)号：TW261672B
公开(公告)日：1995-11-01
申请号：TW084100403
申请日：1995-01-18
申请人：影像技術國際公司
发明人：林烈容 , 勞國華
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/58 , G03B35/14 , G03B2206/004
摘要：本案係一種用以印製二維照片以及三維照片的兩用曬相機，其中裝有兩種曬印材料卡匣，分別供應二維用的與三維用的曬印材料。一個框架依照曬印的用法移動到其中的一個卡匣來提取一段曬印材料。同一個框架在曬印三維照片時將曬印材料移動到幾個不同的位置。一個化學處理器也包含在這個曬相機內，以使照片的沖洗作為曬印一貫作業過程中的一部份。
简体摘要：本案系一种用以印制二维照片以及三维照片的两用晒相机，其中装有两种晒印材料卡匣，分别供应二维用的与三维用的晒印材料。一个框架依照晒印的用法移动到其中的一个卡匣来提取一段晒印材料。同一个框架在晒印三维照片时将晒印材料移动到几个不同的位置。一个化学处理器也包含在这个晒相机内，以使照片的冲洗作为晒印一贯作业过程中的一部份。

19. 发明专利

TWI545682B 基板支持結構，箝夾準備單元及微影系統有权
简体标题：基板支持结构，箝夹准备单元及微影系统
公开(公告)号：TWI545682B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW099105115
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/58 , G03F7/707 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/006 , H01J2237/2005 , H01J2237/2007 , H01L21/00 , H01L21/6875 , Y10T29/49998 , Y10T428/249961

20. 发明专利

TW201445617A 基板載台、曝光裝置审中-公开
简体标题：基板载台、曝光设备
公开(公告)号：TW201445617A
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW103128271
申请日：2004-06-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：大和壯一 , OWA, SOICHI , 馬込伸貴 , MAGOME, NOBUTAKA , 蛭川茂 , HIRUKAWA, SHIGERU , 工藤芳彦 , KUDO, YOSHIHIKO , 井上次郎 , INOUE, JIRO , 河野博高 , KOHNO, HIROTAKA , 根井正洋 , NEI, MASAHIRO , 今井基勝 , IMAI, MOTOKATSU , 長坂博之 , NAGASAKA, HIROYUKI , 白石健一 , SHIRAISHI, KENICHI , 西井康文 , NISHII, YASUFUMI , 高岩宏明 , TAKAIWA, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716
摘要：提供一種曝光方法，係透過投影光學系統PL和液體1將圖案像投影在基板P上來對基板P進行曝光之際，將基板P之側面PB、背面PC進行撥液處理。藉由這種構成，將基板邊緣區域進行浸液曝光時，能良好地形成浸液區域，可在抑制液體向基板載台外部流出之狀態下進行曝光。
简体摘要：提供一种曝光方法，系透过投影光学系统PL和液体1将图案像投影在基板P上来对基板P进行曝光之际，将基板P之侧面PB、背面PC进行拨液处理。借由这种构成，将基板边缘区域进行浸液曝光时，能良好地形成浸液区域，可在抑制液体向基板载台外部流出之状态下进行曝光。

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