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1. 发明专利

TW201104355A 適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備 LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA 审中-公开
简体标题：适用于大面积曝光之拼接式激光干涉微影设备 LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA
公开(公告)号：TW201104355A
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW098124659
申请日：2009-07-22
申请人：國立清華大學
发明人：傅建中 , 林柏瑄
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70408
摘要：一種適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備包含一本體、一雷射光波供應單元、一反射機構、一L形固定機構以及一基板載台。雷射光波供應單元固定於本體上，用以提供一雷射光波。反射機構係可移動且可轉動地安裝於本體上。L形固定機構係安裝於本體上並包含一第一固定座以及一第二固定座。第一固定座上面固定有一呈直立狀態之第一反射鏡。第二固定座連接至第一固定座，用以固定一呈水平狀態之光罩，並實質上垂直於第一固定座。基板載台係可移動地安裝於本體上，並位於第二固定座的下方，用以承載一基板。藉此，可以得到拼接式的大面積圖案。
简体摘要：一种适用于大面积曝光之拼接式激光干涉微影设备包含一本体、一激光光波供应单元、一反射机构、一L形固定机构以及一基板载台。激光光波供应单元固定于本体上，用以提供一激光光波。反射机构系可移动且可转动地安装于本体上。L形固定机构系安装于本体上并包含一第一固定座以及一第二固定座。第一固定座上面固定有一呈直立状态之第一反射镜。第二固定座连接至第一固定座，用以固定一呈水平状态之光罩，并实质上垂直于第一固定座。基板载台系可移动地安装于本体上，并位于第二固定座的下方，用以承载一基板。借此，可以得到拼接式的大面积图案。

2. 发明专利

TW201826031A 多光子吸收微影加工系統审中-公开
简体标题：多光子吸收微影加工系统
公开(公告)号：TW201826031A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106100703
申请日：2017-01-10
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：傅建中 , FU, CHIEN-CHUNG , 葉哲瑋 , YEH, CHE-WEI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/213
摘要：一種多光子吸收微影加工系統，用以加工一待加工物。多光子吸收微影加工系統包括一飛秒雷射光源、一空間光調變器、一透鏡陣列及一載台。飛秒雷射光源用以發出一飛秒雷射光束，空間光調變器配置於飛秒雷射光束的傳遞路徑上，以將飛秒雷射光束調變成一調制光束。透鏡陣列配置於調制光束的傳遞路徑上，以將調制光束分成多道子光束，並使這些子光束分別聚焦於位於待加工物的多個位置點上，以在這些位置點上產生多光子吸收反應。載台用以承載待加工物。載台與透鏡陣列適於在三個維度上相對移動。
简体摘要：一种多光子吸收微影加工系统，用以加工一待加工物。多光子吸收微影加工系统包括一飞秒激光光源、一空间光调制器、一透镜数组及一载台。飞秒激光光源用以发出一飞秒激光光束，空间光调制器配置于飞秒激光光束的传递路径上，以将飞秒激光光束调制成一调制光束。透镜数组配置于调制光束的传递路径上，以将调制光束分成多道子光束，并使这些子光束分别聚焦于位于待加工物的多个位置点上，以在这些位置点上产生多光子吸收反应。载台用以承载待加工物。载台与透镜数组适于在三个维度上相对移动。

3. 发明专利

TW201416802A 以光纖作為空間濾波器與擴束器之雷射干涉微影設備审中-公开
简体标题：以光纤作为空间滤波器与扩束器之激光干涉微影设备
公开(公告)号：TW201416802A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW101139863
申请日：2012-10-29
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：傅建中 , FU, CHIEN CHUNG , 孫宜嶙 , SUN, YI LIN , 麥達維 , MIKOLAS, DAVID GERARD , 林寶德 , LIN, PAO TE , 張恩獎 , CHANG, EN CHIANG , 黃則斌 , HUANG, TZE BIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408
摘要：於雷射干涉微影設備中，雷射光源提供第一雷射光束，光學元件組合係光學耦接至雷射光源，接收並處理第一雷射光束以提供第二雷射光束。曝光載台用於承載待曝物。光纖組接收第二雷射光束並將其處理成不具有空間雜訊的單一模態的穩定同調第三雷射光束。利用第三雷射光束於待曝物上產生干涉圖案。在雷射光源的輸出端至曝光載台的光路中，不存在有針孔空間濾波器及擴束器。
简体摘要：于激光干涉微影设备中，激光光源提供第一激光光束，光学组件组合系光学耦接至激光光源，接收并处理第一激光光束以提供第二激光光束。曝光载台用于承载待曝物。光纤组接收第二激光光束并将其处理成不具有空间噪声的单一模态的稳定同调第三激光光束。利用第三激光光束于待曝物上产生干涉图案。在激光光源的输出端至曝光载台的光路中，不存在有针孔空间滤波器及扩束器。

4. 发明专利

TWI360236B 自我分離層之製造方法 MANUFACTURING METHOD OF SELF-SEPARATION LAYER 有权
简体标题：自我分离层之制造方法 MANUFACTURING METHOD OF SELF-SEPARATION LAYER
公开(公告)号：TWI360236B
公开(公告)日：2012-03-11
申请号：TW096149043
申请日：2007-12-20
申请人：國立清華大學
发明人：傅建中 , 郭浩中 , 陳政寰
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/0254 , C30B25/02 , C30B25/18 , C30B29/403 , H01L21/0237 , H01L21/02513 , H01L21/02639
摘要：一種自我分離層之製造方法包含以下步驟：於一基板上形成複數個凸部；於此等凸部上成長一主要材料層；及分離主要材料層與基板。
简体摘要：一种自我分离层之制造方法包含以下步骤：于一基板上形成复数个凸部；于此等凸部上成长一主要材料层；及分离主要材料层与基板。

5. 发明专利

TWI401541B 適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備有权
简体标题：适用于大面积曝光之拼接式激光干涉微影设备
公开(公告)号：TWI401541B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW098124659
申请日：2009-07-22
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：傅建中 , FU, CHIEN CHUNG , 林柏瑄 , LIN, PO HSUAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70408

6. 发明专利

TWI396142B 一種三維影像補密重建方法有权
简体标题：一种三维影像补密重建方法
公开(公告)号：TWI396142B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW097134928
申请日：2008-09-11
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：江安世 , CHIANG, ANN SHYN , 張修明 , CHANG, HSIU MING , 陳家和 , CHEN, CHIA HE , 傅建中 , FU, CHIEN CHUNG , 謝昌煥 , HSIEH, CHANG HUAIN
IPC分类号： G06T15/00

7. 发明专利

TWI315715B 三維高深寬比之微結構之形成方法 METHOD OF FORMING 3D HIGH ASPECT RATIO MICRO STRUCTURES 有权
简体标题：三维高深宽比之微结构之形成方法 METHOD OF FORMING 3D HIGH ASPECT RATIO MICRO STRUCTURES
公开(公告)号：TWI315715B
公开(公告)日：2009-10-11
申请号：TW096109828
申请日：2007-03-22
申请人：國立清華大學
发明人：傅建中 , 黃恒賫 , 楊文呈
IPC分类号： B81C , G03F
CPC分类号： G03F7/2032
摘要：一種三維高深寬比之微結構之形成方法，包含以下步驟：配置一光罩於一基材上，該光罩具有複數個貫通開口，該等貫通開口具有至少兩種不同的尺寸，藉以透過該等貫通開口露出該基材；於該光罩與該基材上形成一負光阻層；以一光源透過該基材及該光罩之該等貫通開口照射該負光阻層，以形成複數個感光部分及一未感光部分；及移除該未感光部分，以留下該等感光部分而形成複數個錐狀柱，各該錐狀柱具有與該基材接觸之一底部及位於該底部反側之一頂部，該頂部之一頂部面積略小於該底部之一底部面積，且該等錐狀柱可以具有至少兩種不同的高度。
简体摘要：一种三维高深宽比之微结构之形成方法，包含以下步骤：配置一光罩于一基材上，该光罩具有复数个贯通开口，该等贯通开口具有至少两种不同的尺寸，借以透过该等贯通开口露出该基材；于该光罩与该基材上形成一负光阻层；以一光源透过该基材及该光罩之该等贯通开口照射该负光阻层，以形成复数个感光部分及一未感光部分；及移除该未感光部分，以留下该等感光部分而形成复数个锥状柱，各该锥状柱具有与该基材接触之一底部及位于该底部反侧之一顶部，该顶部之一顶部面积略小于该底部之一底部面积，且该等锥状柱可以具有至少两种不同的高度。

8. 发明专利

TWI484307B 以光纖作為空間濾波器與擴束器之雷射干涉微影設備有权
简体标题：以光纤作为空间滤波器与扩束器之激光干涉微影设备
公开(公告)号：TWI484307B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW101139863
申请日：2012-10-29
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：傅建中 , FU, CHIEN CHUNG , 孫宜嶙 , SUN, YI LIN , 麥達維 , MIKOLAS, DAVID GERARD , 林寶德 , LIN, PAO TE , 張恩獎 , CHANG, EN CHIANG , 黃則斌 , HUANG, TZE BIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408

9. 发明专利

TWI386679B 具可翻轉樣本功能之樣本承載設備有权
简体标题：具可翻转样本功能之样本承载设备
公开(公告)号：TWI386679B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW096149044
申请日：2007-12-20
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：傅建中 , FU, CHIEN CHUNG , 張修明 , CHANG, HSIU MING , 江安世 , CHIANG, ANN SHYN
IPC分类号： G02B21/34
CPC分类号： G02B21/26

10. 发明专利

TW201011688A 一種三維影像補密重建方法 METHOD OF 3D IMAGE RECONSTITUTION WITH COMPLEMENTARY FUSION 审中-公开
简体标题：一种三维影像补密重建方法 METHOD OF 3D IMAGE RECONSTITUTION WITH COMPLEMENTARY FUSION
公开(公告)号：TW201011688A
公开(公告)日：2010-03-16
申请号：TW097134928
申请日：2008-09-11
申请人：國立清華大學
发明人：江安世 , 張修明 , 陳家和 , 傅建中 , 謝昌煥
IPC分类号： G06T
摘要：一種三維影像補密重建方法，特指一種藉由表格記錄三維正交空間中經對準及等向性化之第一組影像資料和第二組以上之影像資料，取各組影像堆疊中已知影像強度之體素置於同一相關座標之索引位置，並參考鄰近之已知影像強度值，輔以三維線性或非線性內插方法以推測未知體素之強度及位置，如此可將單一影像中漏失的體素補密，增加縱深方向之影像解析度，以提高重建三維影像資料之準確度。
简体摘要：一种三维影像补密重建方法，特指一种借由表格记录三维正交空间中经对准及等向性化之第一组影像数据和第二组以上之影像数据，取各组影像堆栈中已知影像强度之体素置于同一相关座标之索引位置，并参考邻近之已知影像强度值，辅以三维线性或非线性内插方法以推测未知体素之强度及位置，如此可将单一影像中漏失的体素补密，增加纵深方向之影像分辨率，以提高重建三维影像数据之准确度。

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