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111. 发明专利

TW200537252A 具有晶圓邊緣曝光功能之晶圓對準器 WAFER ALIGNER WITH WEE(WAFER EDGE EXPOSURE)FUNCTION 审中-公开
简体标题：具有晶圆边缘曝光功能之晶圆对准器 WAFER ALIGNER WITH WEE(WAFER EDGE EXPOSURE)FUNCTION
公开(公告)号：TW200537252A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：TW093126246
申请日：2004-08-31
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：王俊勝 WANG, CHUNSHENG , 劉曉强 LIU, LOUIE , 滕立功 TURN, LIKONG , 劉恆信 LIU, HENGHSIN , 廖啓宏 LIAO, CHIHUNG , 蔣欣俊 CHIANG, HSINCHUN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7011
摘要：一種改良的光阻塗佈及顯影系統，包括一軌道單元及一掃描單元。此軌道單元具有可於晶圓上塗佈光阻之一塗佈裝置。此掃描單元包括一先進晶圓預對準模組、一曝光檯以及一顯影模組。先進的晶圓預對準模組可用來進行晶圓邊緣曝光(Wafer Edge Exposure，WEE)，通常需要獨立的WEE模組做為軌道單元的一部份。藉由將WEE功能與掃描單元中的晶圓預對準模組相結合，軌道單元中將不再需要WEE模組，並且WEE模組也不須再重覆執行晶圓對準及置中。
简体摘要：一种改良的光阻涂布及显影系统，包括一轨道单元及一扫描单元。此轨道单元具有可于晶圆上涂布光阻之一涂布设备。此扫描单元包括一雪铁龙晶圆预对准模块、一曝光台以及一显影模块。雪铁龙的晶圆预对准模块可用来进行晶圆边缘曝光(Wafer Edge Exposure，WEE)，通常需要独立的WEE模块做为轨道单元的一部份。借由将WEE功能与扫描单元中的晶圆预对准模块相结合，轨道单元中将不再需要WEE模块，并且WEE模块也不须再重复运行晶圆对准及置中。

112. 发明专利

TW200533887A 微影設備、校正方法、校正板、裝置製造方法及其所製造之裝置 LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD OF CALIBRATION, CALIBRATION PLATE, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY 失效
简体标题：微影设备、校正方法、校正板、设备制造方法及其所制造之设备 LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD OF CALIBRATION, CALIBRATION PLATE, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
公开(公告)号：TW200533887A
公开(公告)日：2005-10-16
申请号：TW093140847
申请日：2004-12-28
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：里昂馬丁里維瑟 LEVASIER, LEON MARTIN , 安司特亞賈庫伯安昔塔博英瑪 BRUINSMA, ANASTASIUS JACOBUS ANICETUS , 賈庫巴菲德利克菲索克林哈瑪 KLINKHAMER, JACOB FREDRIK FRISO , 捷瑞特喬漢斯尼梅捷 NIJMEIJER, GERRIT JOHANNES , 派踏愛玻迪納瑪革利薩戴克-羅格 DEKKERS-ROG, PETRA ALBERTINA MARGARETHA
IPC分类号： G01B , G03F
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70516 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7034 , Y10T29/49771
摘要：可使用一具有至少一對準標記物(alignment marker)及至少一高度輪廓之校正板來執行根據本發明之一實施例之方法。首先，使用一對準感應器來安置該校正板。接著藉由一高度感應器來量測該高度輪廓。隨後將該校正板旋轉大體上180度並重複該等兩個操作。此過程產生兩個量測得之高度輪廓，將其加以比較以發現一最佳擬合。用以找到該最佳擬合之移位量被用來確定該對準標記物與該高度感應器之量測點之X、Y位置之間的距離。
简体摘要：可使用一具有至少一对准标记物(alignment marker)及至少一高度轮廓之校正板来运行根据本发明之一实施例之方法。首先，使用一对准感应器来安置该校正板。接着借由一高度感应器来量测该高度轮廓。随后将该校正板旋转大体上180度并重复该等两个操作。此过程产生两个量测得之高度轮廓，将其加以比较以发现一最佳拟合。用以找到该最佳拟合之移位量被用来确定该对准标记物与该高度感应器之量测点之X、Y位置之间的距离。

113. 发明专利

TW200528933A 對齊晶圓之方法 METHOD FOR ALIGNING WAFER 失效
简体标题：对齐晶圆之方法 METHOD FOR ALIGNING WAFER
公开(公告)号：TW200528933A
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：TW093137829
申请日：2004-12-07
申请人：海力士半導體股份有限公司 HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人：潘槿道 BAN, KEUN DO
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70633 , G03F9/7011 , G03F9/7015 , H01L21/682
摘要：本發明揭示一種對齊晶圓之方法，該方法包括：在一曝光裝置中載入並對齊一第一晶圓；從該第一晶圓的複數個晶圓對齊標記中選擇一無缺陷的晶圓對齊標記，並在一工作檔案中將該等無缺陷的晶圓對齊標記儲存為一灰階的參考影像；載入一第二晶圓，並將該第二晶圓的複數個晶圓對齊標記儲存為灰階的晶圓對齊標記影像；分別將該第二晶圓的該等複數個晶圓對齊標記影像中的每一個與該第一晶圓的該參考影像逐像素地進行比較，以獲得該等複數個晶圓對齊標記影像中每一個的匹配值；將該等複數個匹配值中的每一個與該曝光裝置中所設定的一最小值進行比較；用該參考影像來取代所具有的匹配值小於該最小值的該晶圓對齊標記影像；及使用一晶圓對齊感測器來獲得一底層的一對齊資訊。
简体摘要：本发明揭示一种对齐晶圆之方法，该方法包括：在一曝光设备中加载并对齐一第一晶圆；从该第一晶圆的复数个晶圆对齐标记中选择一无缺陷的晶圆对齐标记，并在一工作文档中将该等无缺陷的晶圆对齐标记存储为一灰阶的参考影像；加载一第二晶圆，并将该第二晶圆的复数个晶圆对齐标记存储为灰阶的晶圆对齐标记影像；分别将该第二晶圆的该等复数个晶圆对齐标记影像中的每一个与该第一晶圆的该参考影像逐像素地进行比较，以获得该等复数个晶圆对齐标记影像中每一个的匹配值；将该等复数个匹配值中的每一个与该曝光设备中所设置的一最小值进行比较；用该参考影像来取代所具有的匹配值小于该最小值的该晶圆对齐标记影像；及使用一晶圆对齐传感器来获得一底层的一对齐信息。

114. 发明专利

TW200428555A 用以決定一基材相對於一支撐平臺之位置的方法與設備 METHODS AND APPARATUS FOR DETERMINING A POSITION OF A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE 失效
简体标题：用以决定一基材相对于一支撑平台之位置的方法与设备 METHODS AND APPARATUS FOR DETERMINING A POSITION OF A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE
公开(公告)号：TW200428555A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093104365
申请日：2004-02-20
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：栗田伸一 KURITA, SHINICHI , 比爾伊曼紐 BEER, EMANUEL , 艾德嘎爾凱爾博格 KEHRBERG, EDGAR , 馬提阿斯布魯兒 BRUNER, MATTHIAS
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70666 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/7011 , H01L21/67265
摘要：茲提供一種包括數個探針之感應系統，該等探針係以間隔關係配置在一用於支撐基材之站台的周圍。每一探針包括一偵測部，其係用以由一已知起始位置移向該基材(由該站台所支撐)的邊緣；偵測該基材(由該站台所支撐)之邊緣；在偵測之後產生一偵測訊號；且在偵測後停止移向該基材之邊緣。一控制器可用於判定該基材相對於該站台之邊緣位置，其係依據各偵測部之該已知起始位置及每一偵測部所產生之偵測訊號作判定。本發明並提供許多其他的態樣。
简体摘要：兹提供一种包括数个探针之感应系统，该等探针系以间隔关系配置在一用于支撑基材之站台的周围。每一探针包括一侦测部，其系用以由一已知起始位置移向该基材(由该站台所支撑)的边缘；侦测该基材(由该站台所支撑)之边缘；在侦测之后产生一侦测信号；且在侦测后停止移向该基材之边缘。一控制器可用于判定该基材相对于该站台之边缘位置，其系依据各侦测部之该已知起始位置及每一侦测部所产生之侦测信号作判定。本发明并提供许多其他的态样。

115. 发明专利

TW594852B 製作晶圓試片的方法及藉其評估光罩圖案間疊對位準(MASK REGISTRATION)的方法有权
简体标题：制作晶圆试片的方法及藉其评估光罩图案间叠对位准(MASK REGISTRATION)的方法
公开(公告)号：TW594852B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW092124185
申请日：2003-09-02
申请人：南亞科技股份有限公司 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION
发明人：吳文彬 WU, WEN BIN , 蕭智元 HSIAO, CHIH YUAN , 毛惠民 MAO, HUI MIN
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70633 , G03F9/7011
摘要：一種評估兩光罩間疊對位準的方法。首先，以具有第一光罩圖案之第一光罩進行微影製程，以定義蝕刻晶圓而形成第一曝光圖案。接著，在該晶圓表面覆蓋光阻層，並以具有第二光罩圖案之第二光罩定義該光阻層而形成第二曝光圖案。其次，量測晶圓上的第一曝光圖案與第二曝光圖案於X方向、Y方向或X與Y方向的偏移值。之後，校正該偏移值之曝光變形值(scaling)與疊對偏移值(overlay offset)以得到第一與第二光罩圖案間的疊對位準。最後，判定疊對位準是否合於一定規格。伍、(一)、本案代表圖為：第3圖。
(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：
S302～S312：流程步驟。
简体摘要：一种评估两光罩间叠对位准的方法。首先，以具有第一光罩图案之第一光罩进行微影制程，以定义蚀刻晶圆而形成第一曝光图案。接着，在该晶圆表面覆盖光阻层，并以具有第二光罩图案之第二光罩定义该光阻层而形成第二曝光图案。其次，量测晶圆上的第一曝光图案与第二曝光图案于X方向、Y方向或X与Y方向的偏移值。之后，校正该偏移值之曝光变形值(scaling)与叠对偏移值(overlay offset)以得到第一与第二光罩图案间的叠对位准。最后，判定叠对位准是否合于一定规格。伍、(一)、本案代表图为：第3图。 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明： S302～S312：流程步骤。

116. 发明专利

TW200403544A 掃描曝光裝置及方法 SCANNING EXPOSURE APPARATUS AND METHOD 失效
简体标题：扫描曝光设备及方法 SCANNING EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW200403544A
公开(公告)日：2004-03-01
申请号：TW092117473
申请日：2003-06-26
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：香田徹 , 筒井慎二
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70358 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , G03F9/7034
摘要：一種掃描曝光裝置包含一照射光學系統用以使用弧形照射光照射蔽罩上之一圖案；一投影光學系統用以投射由照射光學系統所照射之蔽罩上之圖案於一板上；一蔽罩平台用以掃描蔽罩；一板平台用以掃描該板，掃描曝光裝置對投影光學系統同步相對掃描蔽罩平台及板平台；一蔽罩支持機構用以支持蔽罩之周邊；及一蔽罩平台傾斜機構，用以安排由弧形照射光所照射之一區域中之圖案於投影光學系統之目標表面方焦平面中，其中，蔽罩由於其本身重量引起自受支持之周邊變形。
简体摘要：一种扫描曝光设备包含一照射光学系统用以使用弧形照射光照射蔽罩上之一图案；一投影光学系统用以投射由照射光学系统所照射之蔽罩上之图案于一板上；一蔽罩平台用以扫描蔽罩；一板平台用以扫描该板，扫描曝光设备对投影光学系统同步相对扫描蔽罩平台及板平台；一蔽罩支持机构用以支持蔽罩之周边；及一蔽罩平台倾斜机构，用以安排由弧形照射光所照射之一区域中之图案于投影光学系统之目标表面方焦平面中，其中，蔽罩由于其本身重量引起自受支持之周边变形。

117. 发明专利

TW200307853A 校正方法,校正基材,微影蝕刻裝置和組件製造方法 CALIBRATION METHODS, CALIBRATION SUBSTRATES, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHODS 失效
简体标题：校正方法,校正基材,微影蚀刻设备和组件制造方法 CALIBRATION METHODS, CALIBRATION SUBSTRATES, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHODS
公开(公告)号：TW200307853A
公开(公告)日：2003-12-16
申请号：TW092103966
申请日：2003-02-24
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：喬利羅夫 JOERI LOF , 亨利克斯威海莫斯馬利亞凡布爾 HENRICUS WILHELMUS MARIA VAN BUEL , 成昆桂 CHENG-QUN GUI , 富蘭西可斯古德利杜斯卡波比奈 FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER BIJNEN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F9/7011 , G03F9/7084
摘要：本發明揭示使用在其相對之側上具有參考記號的一透明校正基材，以便校正一前到後側之對準系統。一平板被置入，以便將該對準系統之焦點位置從該校正基材上表面置換至底表面。
简体摘要：本发明揭示使用在其相对之侧上具有参考记号的一透明校正基材，以便校正一前到后侧之对准系统。一平板被置入，以便将该对准系统之焦点位置从该校正基材上表面置换至底表面。

118. 发明专利

TW200307180A 投影曝光裝置、位置對準裝置以及位置對準方法审中-公开
简体标题：投影曝光设备、位置对准设备以及位置对准方法
公开(公告)号：TW200307180A
公开(公告)日：2003-12-01
申请号：TW092108355
申请日：2003-04-11
申请人：亞多特克工程股份有限公司 ADTEC ENGINEERING CO., LTD.
发明人：平林洋一 HIRABAYASHI YOUICHI , 松本德嘉 MATSUMOTO NORIYOSHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7065
摘要：一種可做正確位置對準的投影曝光裝置。印刷電路板76置於移動平台70上的狀態下，由紫外線照明裝置6的紫外線光源60照亮光罩標記90時，光罩標記90的像通過投影曝光透鏡71與半反射鏡11，以紫外線反射面鏡10反射，再通過分光器34與成像透鏡32，成像於CCD30上，並由影像辨識裝置2對其中心座標做計測。其次，由紅外線照明裝置5的紅外線光源50照亮印刷電路板標記91，標記91的像通過紫外線反射面鏡10、半反射鏡11、分光器34、反射鏡43、成像透鏡42以及分光器52，成像於CCD40上。對應於紫外線用的CCD30上的光罩標記90的中心座標，使紅外線用CCD40上的印刷電路板標記91的中心座標吻合，控制移動機構81，使移動平台70在XY及θ方向旋轉移動而做位置對準。
简体摘要：一种可做正确位置对准的投影曝光设备。印刷电路板76置于移动平台70上的状态下，由紫外线照明设备6的紫外线光源60照亮光罩标记90时，光罩标记90的像通过投影曝光透镜71与半反射镜11，以紫外线反射面镜10反射，再通过分光器34与成像透镜32，成像于CCD30上，并由影像辨识设备2对其中心座标做计测。其次，由红外线照明设备5的红外线光源50照亮印刷电路板标记91，标记91的像通过紫外线反射面镜10、半反射镜11、分光器34、反射镜43、成像透镜42以及分光器52，成像于CCD40上。对应于紫外线用的CCD30上的光罩标记90的中心座标，使红外线用CCD40上的印刷电路板标记91的中心座标吻合，控制移动机构81，使移动平台70在XY及θ方向旋转移动而做位置对准。

119. 发明专利

TW550668B 載台裝置、曝光裝置及元件製造方法失效
简体标题：载台设备、曝光设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW550668B
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW091116668
申请日：2002-07-26
申请人：尼康股份有限公司
发明人：奧村正彥 , 平野哲也
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F9/7011 , G03F7/70733 , G03F7/7075 , G03F9/7046
摘要：持續維持曝光製程的高生產率，且能達成2個載台在進行動作時所要求的精度。
載台控制系統19，在以一載台WST1實施曝光動作時，邊下達用來抑制該載台控制性能下降的限制要件，邊在另一載台WST2實施對準動作。據此，即能抑制因一載台的動作而導致另一載台曝光動作的控制性能降低。因此，能一方面藉由2個載台的同時並行處理來維持曝光製程的高量產率，另一方面能確實達成各個載台在進行動作時所要求的精度。
简体摘要：持续维持曝光制程的高生产率，且能达成2个载台在进行动作时所要求的精度。载台控制系统19，在以一载台WST1实施曝光动作时，边下达用来抑制该载台控制性能下降的限制要件，边在另一载台WST2实施对准动作。据此，即能抑制因一载台的动作而导致另一载台曝光动作的控制性能降低。因此，能一方面借由2个载台的同时并行处理来维持曝光制程的高量产率，另一方面能确实达成各个载台在进行动作时所要求的精度。

120. 发明专利

TW378280B 相容性光罩失效
简体标题：兼容性光罩
公开(公告)号：TW378280B
公开(公告)日：2000-01-01
申请号：TW087111934
申请日：1998-07-22
申请人：聯瑞積體電路股份有限公司
发明人：王永成 , 夏啓明
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7096 , G03F1/38 , G03F1/42 , G03F7/70433 , G03F7/70541 , G03F7/70991 , G03F9/7011 , G03F9/7084
摘要：一種相容性光罩，在線網玻璃上，包括預對準標記、第一對準標記，作為在ASML步進機的光罩對準標記;第二對準標記，作為在NIKON步進機的光罩對準標記;第一條碼，為ASML步進機的辨識條碼;以及第二條碼，為NIKON步進機的辨識條碼。另外有一層鉻膜覆蓋在線網玻璃上，一薄膜表層覆蓋在鉻膜上，用以防止光罩表面沾上微粒。
简体摘要：一种兼容性光罩，在线网玻璃上，包括预对准标记、第一对准标记，作为在ASML步进机的光罩对准标记;第二对准标记，作为在NIKON步进机的光罩对准标记;第一条码，为ASML步进机的辨识条码;以及第二条码，为NIKON步进机的辨识条码。另外有一层铬膜覆盖在线网玻璃上，一薄膜表层覆盖在铬膜上，用以防止光罩表面沾上微粒。

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