专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI664313B 淋頭以及真空處理裝置有权
简体标题：淋头以及真空处理设备
公开(公告)号：TWI664313B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW106134056
申请日：2017-10-02
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：神保洋介 , JINBO, YOSUKE , 山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 茶谷宏紀 , CHATANI, HIRONORI , 西方靖 , NISHIKATA, OSAMU , 菊池亨 , KIKUCHI, TORU
IPC分类号： C23C16/54 , H01J37/32

2. 发明专利

TWI689062B 加熱基底及處理裝置有权
简体标题：加热基底及处理设备
公开(公告)号：TWI689062B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW108101777
申请日：2019-01-17
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：宮谷武尚 , MIYAYA, TAKEHISA , 神保洋介 , JIMBO, YOSUKE , 山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 江藤謙次 , ETO, KENJI , 阿部洋一 , ABE, YOICHI
IPC分类号： H01L23/34 , H05B1/00

3. 发明专利

TW201821642A 淋頭以及真空處理裝置审中-公开
简体标题：淋头以及真空处理设备
公开(公告)号：TW201821642A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106134056
申请日：2017-10-02
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：神保洋介 , JINBO, YOSUKE , 山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 茶谷宏紀 , CHATANI, HIRONORI , 西方靖 , NISHIKATA, OSAMU , 菊池亨 , KIKUCHI, TORU
IPC分类号： C23C16/54 , H01J37/32
摘要：本發明之課題在於使電漿密度之面內偏差均勻化。本發明之一形態之淋頭具備：頭本體及噴淋板。上述頭本體具有內部空間。上述噴淋板具有：複數個氣體噴出口，連通至上述內部空間；氣體噴出面，自上述複數個氣體噴出口噴出氣體以及複數個孔部，配置於上述氣體噴出面。上述噴淋板構成為上述複數個孔部之表面積自上述氣體噴出面之中心呈放射狀且階段性地增大。
简体摘要：本发明之课题在于使等离子密度之面内偏差均匀化。本发明之一形态之淋头具备：头本体及喷淋板。上述头本体具有内部空间。上述喷淋板具有：复数个气体喷出口，连通至上述内部空间；气体喷出面，自上述复数个气体喷出口喷出气体以及复数个孔部，配置于上述气体喷出面。上述喷淋板构成为上述复数个孔部之表面积自上述气体喷出面之中心呈放射状且阶段性地增大。

4. 发明专利

TW202031097A 真空處理裝置及真空處理裝置之清潔方法审中-公开
简体标题：真空处理设备及真空处理设备之清洁方法
公开(公告)号：TW202031097A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108148190
申请日：2019-12-27
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：宮谷武尚 , MIYAYA, TAKEHISA , 神保洋介 , JIMBO, YOSUKE , 山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 江藤謙次 , ETO, KENJI , 阿部洋一 , ABE, YOICHI
IPC分类号： H05H1/42 , H05H7/14 , C23C16/54
摘要：本發明之真空處理裝置係進行電漿處理之真空處理裝置。真空處理裝置具有：電極凸緣，其連接於高頻電源；簇射板，其與上述電極凸緣離開而對向，與上述電極凸緣一起作為陰極；絕緣隔板，其設置於上述簇射板之周圍；處理室，其於上述簇射板之與上述電極凸緣相反側配置被處理基板；電極框，其安裝於上述電極凸緣之上述簇射板側；及滑動板，其安裝於上述簇射板之成為上述電極框側之周緣部。上述電極框與上述滑動板可對應於上述簇射板升降溫時產生之熱變形而滑動，且由上述簇射板、上述電極凸緣及上述電極框包圍之空間可密封。上述簇射板藉由貫通設置於上述簇射板之周緣部之長孔之支持構件而受上述電極框支持。上述長孔形成為可供上述支持構件對應於上述簇射板升降溫時產生之熱變形而於上述長孔內相對移動。於上述長孔設有與上述長孔連通而供給淨化氣體之氣孔。上述氣孔與由上述簇射板、上述電極凸緣、上述電極框及上述滑動板包圍之空間連通。
简体摘要：本发明之真空处理设备系进行等离子处理之真空处理设备。真空处理设备具有：电极凸缘，其连接于高频电源；簇射板，其与上述电极凸缘离开而对向，与上述电极凸缘一起作为阴极；绝缘隔板，其设置于上述簇射板之周围；处理室，其于上述簇射板之与上述电极凸缘相反侧配置被处理基板；电极框，其安装于上述电极凸缘之上述簇射板侧；及滑动板，其安装于上述簇射板之成为上述电极框侧之周缘部。上述电极框与上述滑动板可对应于上述簇射板升降温时产生之热变形而滑动，且由上述簇射板、上述电极凸缘及上述电极框包围之空间可密封。上述簇射板借由贯通设置于上述簇射板之周缘部之长孔之支持构件而受上述电极框支持。上述长孔形成为可供上述支持构件对应于上述簇射板升降温时产生之热变形而于上述长孔内相对移动。于上述长孔设有与上述长孔连通而供给净化气体之气孔。上述气孔与由上述簇射板、上述电极凸缘、上述电极框及上述滑动板包围之空间连通。

5. 发明专利

TWI682485B 升降銷及真空處理裝置有权
简体标题：升降销及真空处理设备
公开(公告)号：TWI682485B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW107127647
申请日：2018-08-08
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 神保洋介 , JINBO, YOSUKE , 宮谷武尚 , MIYAYA, TAKEHISA , 江藤謙次 , ETO, KENJI , 阿部洋一 , ABE, YOICHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/687

6. 发明专利

TWI524461B 離子束照射裝置有权
简体标题：离子束照射设备
公开(公告)号：TWI524461B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW102104738
申请日：2013-02-07
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 金永杜 , KIM, YOUNG-DOO , 帯施與司德 , OBISE, YOSHINORI , 岡山智彥 , OKAYAMA, SATOHIRO
IPC分类号： H01L21/68 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776

7. 发明专利

TW201336013A 離子束照射裝置审中-公开
简体标题：离子束照射设备
公开(公告)号：TW201336013A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW102104738
申请日：2013-02-07
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 金永杜 , KIM, YOUNG-DOO , 帯施與司德 , OBISE, YOSHINORI , 岡山智彥 , OKAYAMA, SATOHIRO
IPC分类号： H01L21/68 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
摘要：本發明之離子束照射裝置(10)具備：真空槽(14)，其係收容保持基板(S)之搬運托盤(T)；搬運部，其係於真空槽(14)內，在搬運方向搬運搬運托盤(T)；離子束照射部(21L,21U)，其係在真空槽(14)內之指定的照射位置照射離子束；及位置檢測部(23A~23D)，其係檢測搬運托盤(T)之位置。位置檢測部(23A~23D)通過搬運托盤(T)之搬運，在指定之拍攝位置拍攝顯示搬運托盤(T)中之部位，並排列於搬運方向之相互不同的各個複數個指標，依據該拍攝之指標，檢測搬運托盤(T)對拍攝位置之位置。
简体摘要：本发明之离子束照射设备(10)具备：真空槽(14)，其系收容保持基板(S)之搬运托盘(T)；搬运部，其系于真空槽(14)内，在搬运方向搬运搬运托盘(T)；离子束照射部(21L,21U)，其系在真空槽(14)内之指定的照射位置照射离子束；及位置检测部(23A~23D)，其系检测搬运托盘(T)之位置。位置检测部(23A~23D)通过搬运托盘(T)之搬运，在指定之拍摄位置拍摄显示搬运托盘(T)中之部位，并排列于搬运方向之相互不同的各个复数个指针，依据该拍摄之指针，检测搬运托盘(T)对拍摄位置之位置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式