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1. 发明专利

TW202031097A 真空處理裝置及真空處理裝置之清潔方法审中-公开
简体标题：真空处理设备及真空处理设备之清洁方法
公开(公告)号：TW202031097A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108148190
申请日：2019-12-27
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：宮谷武尚 , MIYAYA, TAKEHISA , 神保洋介 , JIMBO, YOSUKE , 山本良明 , YAMAMOTO, YOSHIAKI , 江藤謙次 , ETO, KENJI , 阿部洋一 , ABE, YOICHI
IPC分类号： H05H1/42 , H05H7/14 , C23C16/54
摘要：本發明之真空處理裝置係進行電漿處理之真空處理裝置。真空處理裝置具有：電極凸緣，其連接於高頻電源；簇射板，其與上述電極凸緣離開而對向，與上述電極凸緣一起作為陰極；絕緣隔板，其設置於上述簇射板之周圍；處理室，其於上述簇射板之與上述電極凸緣相反側配置被處理基板；電極框，其安裝於上述電極凸緣之上述簇射板側；及滑動板，其安裝於上述簇射板之成為上述電極框側之周緣部。上述電極框與上述滑動板可對應於上述簇射板升降溫時產生之熱變形而滑動，且由上述簇射板、上述電極凸緣及上述電極框包圍之空間可密封。上述簇射板藉由貫通設置於上述簇射板之周緣部之長孔之支持構件而受上述電極框支持。上述長孔形成為可供上述支持構件對應於上述簇射板升降溫時產生之熱變形而於上述長孔內相對移動。於上述長孔設有與上述長孔連通而供給淨化氣體之氣孔。上述氣孔與由上述簇射板、上述電極凸緣、上述電極框及上述滑動板包圍之空間連通。
简体摘要：本发明之真空处理设备系进行等离子处理之真空处理设备。真空处理设备具有：电极凸缘，其连接于高频电源；簇射板，其与上述电极凸缘离开而对向，与上述电极凸缘一起作为阴极；绝缘隔板，其设置于上述簇射板之周围；处理室，其于上述簇射板之与上述电极凸缘相反侧配置被处理基板；电极框，其安装于上述电极凸缘之上述簇射板侧；及滑动板，其安装于上述簇射板之成为上述电极框侧之周缘部。上述电极框与上述滑动板可对应于上述簇射板升降温时产生之热变形而滑动，且由上述簇射板、上述电极凸缘及上述电极框包围之空间可密封。上述簇射板借由贯通设置于上述簇射板之周缘部之长孔之支持构件而受上述电极框支持。上述长孔形成为可供上述支持构件对应于上述簇射板升降温时产生之热变形而于上述长孔内相对移动。于上述长孔设有与上述长孔连通而供给净化气体之气孔。上述气孔与由上述簇射板、上述电极凸缘、上述电极框及上述滑动板包围之空间连通。

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