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1. 发明公开

KR1020080074751A 배기 가스 처리 장치 有权
标题翻译：用于处理排气的装置
公开(公告)号：KR1020080074751A
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：KR1020080011049
申请日：2008-02-04
申请人： 클린 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 아와지토시오 , 나카야마다카시
IPC分类号： B01D53/32
CPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01D2251/206 , B01D2251/304 , B01D2251/402 , B01D2251/404 , B01D2251/604 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2259/818 , H05H1/24 , H05H1/48 , H05H2245/121 , Y10S422/906
摘要： An exhaust gas treatment system is provided to increase the treatment volume of the exhaust gas by increasing the diameter of the reaction tube, and to improve the harm removing performance by stabilizing the state of generation of plasma without requiring a water membrane, thereby extending the plasma length. An exhaust gas treatment system comprises: a reaction tube(1) for introducing exhaust gas(G); an upper electrode(2) installed in the air above the reaction tube; a lower electrode(3) installed under the reaction tube; and a spray nozzle(4) for spraying an electrolyte solution(D) between the upper electrode and the lower electrode to generate plasma(P) in the reaction tube by spraying the electrolyte solution between the upper and lower electrodes, thereby forming a path of electric current between the electrodes. The exhaust gas treatment system further comprises: a water-cooling jacket(11) installed around the reaction tube to cool the reaction tube during the generation of plasma and clean the reaction tube by overflowing water(H) in it during stopping of the plasma; and a power supply unit(5) from which a high-voltage current is applied to the upper electrode. The water of the water-cooling jacket is introduced from the bottom part of the water-cooling jacket, flows from an overflow line(12) into a water tank(6), and is discharged from an overflow line(62) during the generation of plasma. The reaction tube is cleaned by closing a valve(13) of the overflow line(12) during stopping of the plasma, thereby overflowing the water in the reaction tube.
摘要翻译：提供废气处理系统以通过增加反应管的直径来增加废气的处理量，并且通过稳定等离子体的产生状态而不需要水膜来改善危害消除性能，从而延长等离子体长度。废气处理系统包括：用于引入废气（G）的反应管（1）; 安装在反应管上方的空气中的上电极（2）安装在反应管下方的下电极（3）; 以及用于在上部电极和下部电极之间喷射电解质溶液（D）的喷嘴（4），通过在上部和下部电极之间喷射电解质溶液而在反应管中产生等离子体（P），由此形成电极之间的电流。排气处理系统还包括：安装在反应管周围的水冷套（11），用于在产生等离子体期间冷却反应管，并在等离子体停止期间溢出其中的水（H）来清洁反应管; 以及向上部电极施加高压电流的电源单元（5）。水冷套管的水从水冷套管的底部引入，从溢流管线（12）流入水箱（6），并在生成期间从溢流管线（62）排出的等离子体通过在等离子体停止期间关闭溢流管线（12）的阀（13）来清洁反应管，从而使反应管中的水溢出。

2. 发明授权

KR101464997B1 배기 가스 처리 장치 有权
标题翻译：废气处理装置
公开(公告)号：KR101464997B1
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：KR1020080011049
申请日：2008-02-04
申请人： 클린 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 아와지토시오 , 나카야마다카시
IPC分类号： B01D53/32
CPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01D2251/206 , B01D2251/304 , B01D2251/402 , B01D2251/404 , B01D2251/604 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2259/818 , H05H1/24 , H05H1/48 , H05H2245/121 , Y10S422/906
摘要： [과제] 반응관의 지름을 크게 함으로써 배기 가스의 처리량을 증대시킴과 아울러 수막을 필요로 하지 않고 플라즈마의 발생 상태를 안정화시켜 플라즈마장(plasma length)을 늘림으로써 제해 성능을 높일 수 있는 배기 가스 처리 장치를 제공하는 것이다.
[해결 수단] 배기 가스(G)를 도입하는 반응관(1)과, 반응관(1)의 상부측에서 공중에 설치된 상부 전극(2)과, 반응관(1)의 하부측에 설치된 하부 전극(3)과, 상부 전극(2)과 하부 전극(3) 사이에 전해질 용액(D)을 분무하는 분무 노즐(4)을 구비하고, 상부 전극(2)과 하부 전극(3) 사이에 전해질 용액(D)을 분무함으로써 전극(2,3)간에 전류의 경로를 형성해서 반응관(1) 내에 플라즈마(P)를 발생시킨다.
배기 가스 처리 장치
摘要翻译： [问题]本发明提供一种废气处理装置，其能够通过增大反应管的直径来提高废气的处理量，并且能够稳定等离子体的生成状态而不需要水膜并且增加等离子体长度，提供一种装置。

3. 发明公开

KR1020100110267A 배기 가스 처리 장치에 있어서의 자장에 의한 플라즈마의 제어 방법 및 그것을 이용한 배기 가스 처리 장치 有权
标题翻译：使用磁场和排气处理装置进行排气处理的等离子体的控制方法
公开(公告)号：KR1020100110267A
公开(公告)日：2010-10-12
申请号：KR1020100027253
申请日：2010-03-26
申请人： 클린 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 아와지토시오 , 나카야마타카시 , 타나카토시오
IPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01J19/08
CPC分类号： B01D53/32 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , H05H1/50 , H05H2245/1215 , B01D53/323 , B01D53/70 , B01D2259/814 , B01J19/08 , B01J19/087 , B01J19/088
摘要： PURPOSE: A waste gas processing device is provided to improve the processing efficiency of waste gas by controlling the state of plasma with the generation of a magnetic field. CONSTITUTION: A coil(71) is arranged in the peripheral part of a reaction pipe(1) and/or a water cooling jacket(11) as a magnetic field generator(7). When a current is supplied to the coil, a magnetic field is generated in a plasma waste unit. A charged particle forms the plasma with the operation of the magnetic field. The lorentz force is applied to the charged particle. The state of the plasma is controlled by the prevention of the scatter of the particle. The processing efficiency of the waste gas is improved by the plasma.
摘要翻译：目的：提供废气处理装置，通过产生磁场来控制等离子体的状态来提高废气的处理效率。构成：在作为磁场发生器（7）的反应管（1）和/或水冷套（11）的周边部分配置有线圈（71）。当向线圈提供电流时，在等离子体废料单元中产生磁场。带电粒子通过磁场的操作形成等离子体。洛伦兹力施加到带电粒子上。通过防止颗粒的散射来控制等离子体的状态。通过等离子体改善废气的处理效率。

4. 发明授权

KR101659389B1 배기 가스 처리 장치에 있어서의 자장에 의한 플라즈마의 제어 방법 및 그것을 이용한 배기 가스 처리 장치 有权
标题翻译：使用磁场和排气处理装置进行排气处理的等离子体的控制方法
公开(公告)号：KR101659389B1
公开(公告)日：2016-09-23
申请号：KR1020100027253
申请日：2010-03-26
申请人： 클린 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 아와지토시오 , 나카야마타카시 , 타나카토시오
IPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01J19/08
CPC分类号： B01D53/32 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , H05H1/50 , H05H2245/1215
摘要： [과제] 에너지의소비량을현저하게증대시키거나처리의절대량을저하시키지않고간이한방법및 구조로플라즈마에의해행해지는배기가스의처리효율을향상시킬수 있도록한 배기가스처리장치에있어서의자장에의한플라즈마의제어방법및 그것을이용한배기가스처리장치를제공하는것이다. [해결수단] 반응관(1) 내에도입된배기가스를반응관(1) 내에발생시킨플라즈마에의해분해하여처리하는배기가스처리장치에있어서반응관(1) 내에자장을발생시킴으로써반응관(1) 내에발생된플라즈마의상태를제어한다.
摘要翻译：问题 - 通过简单的方法和结构，在废气处理装置和废气处理装置的废气处理装置及废气处理装置中，通过磁场提供等离子体的控制方法，而不会极大地增加能量的消耗，或者不降低绝对量治疗。解决方案在通过在反应管1中产生的等离子体分解和处理引入到反应管1中的废气的排气处理装置中，通过在反应管1中产生磁场，产生的等离子体的状态对反应管1进行控制。

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