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1. 发明授权

KR100749145B1 보호막 부착 실리콘 보트 및 그 제조방법, 그를 이용하여열처리된 실리콘 웨이퍼 有权
标题翻译：具有保护膜的硅船，其制造方法和使用硅船热硅氧烷处理
公开(公告)号：KR100749145B1
公开(公告)日：2007-08-14
申请号：KR1020017012865
申请日：2001-02-09
申请人： 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
发明人： 코바야시노리히로 , 아키야마쇼지 , 타마츠카마사로 , 시노미야마사루
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/67316
摘要： 실리콘 웨이퍼를 열처리할 때에 이 웨이퍼를 지지하는 실리콘 보트에 있어서, 상기 보트의 표면에 열산화막으로 되는 보호막이 직접 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 실리콘 보트. 실리콘 보트를 아르곤, 수소, 또는 아르곤과 수소의 혼합가스중에서 1000℃이상의 온도범위에서 10분간 이상 체류시켜 보트표면의 자연산화막을 제거하고, 그 후 산소를 함유하는 분위기중에서 열처리함으로써 보트표면에 산화막으로 되는 보호막을 성장시킨다. 이 실리콘 보트를 이용하여, 아르곤 또는 아르곤과 수소의 혼합가스에 의해 노분위기중에서 실리콘웨이퍼를 열처리한다. 이것에 의해 웨이퍼에 금속오염을 일으키는 것이 없고, 보호막의 박리, 웨이퍼표면의 손상, 파티클의 발생을 방지하는 웨이퍼 열처리용 보트, 및 웨이퍼의 열처리방법이 제공된다.

열산화막, 보호막, 실리콘 보트, 금속오염

2. 发明公开

KR1020160101130A 웨이퍼 보트 审中-实审
标题翻译： WAFER BOAT
公开(公告)号：KR1020160101130A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：KR1020167019575
申请日：2014-12-19
申请人： 센트로테에름 인터내셔널 아게
发明人： 라이헤르트,안드레아스 , 켈러,안드레아스
IPC分类号： H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67316 , H01L21/67109 , H01L21/67313 , H01L21/67346 , H01L21/67383
摘要： 웨이퍼들, 특히반도체웨이퍼들을수용하기위한웨이퍼보트로서,웨이퍼보트는, 석영으로만들어진적어도 2 개의기다란수용요소들―각각은복수개의평행한수용슬롯들을가지며, 이슬롯들은수용요소들의길이방향연장부에대해횡방향으로연장함―; 및 2 개의단부플레이트들을가지며, 이들사이에서, 수용요소들이배열되고, 부착되어수용요소들의수용슬롯들이정렬된다. 안정성을증가시키기위해서, 웨이퍼보트는복수개의부착편들을포함하며, 상기부착편들을통해서, 수용요소들이단부플레이트들에부착되며, 각각의부착편은수용슬롯들을포함하는수용요소들의수용섹션의둘레만큼적어도 1.5 배큰 둘레를가지며, 각각의부착편은단부플레이트및 수용요소중 적어도하나에용접되거나접합된다. 상기와조합될수 있는추가의실시예에서, 수용요소들각각은단부플레이트들에인접한적어도하나의이완슬롯, 바람직하게는수용슬롯들의깊이보다작은깊이를갖는적어도 2 개의이완슬롯들을갖는다. 적어도 2 개의이완슬롯들이제공될때, 그의깊이는엔트플레이트들에대해증가된거리와함께증가된다.

3. 发明公开

KR1020160089507A 열 에너지의 감소된 전달을 위한 기판 캐리어 审中-实审
标题翻译：用于减少热能传输的基板载体
公开(公告)号：KR1020160089507A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：KR1020167017053
申请日：2013-11-25
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 로프,안드레아스에발트 , 켈러,슈테판 , 쉬쓸러,우베 , 반게르트,슈테판 , 게베레,토마스 , 스파츠,노베르트
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/203
CPC分类号： H01J37/32724 , C23C14/50 , C23C16/4581 , H01J2237/3321 , H01J2237/3323 , H01L21/67316 , H01L21/67346 , H01L31/1876 , H01L31/1896 , H01L21/203 , H01L21/67098 , H01L21/6734 , H01L21/6773
摘要： 본개시내용에따라, 반도체기판핸들링시스템들및 기판캐리어가제공된다. 프로세싱될기판을홀딩하기위한, 그리고운송디바이스를이용하여프로세싱지역에서또는프로세싱지역을통해기판을운송하기위한기판캐리어는기판을홀딩하기위한주 부분; 운송디바이스에의해지지되도록이루어진제 1 단부부분; 및주 부분을제 1 단부부분과연결하는적어도하나의제 1 중간부분을포함한다. 적어도하나의제 1 중간부분은주 부분과제 1 단부부분사이의열 에너지전달을감소시키도록이루어진하나또는그 초과의컷-아웃들을포함한다.

4. 发明公开

KR1020170135903A 웨이퍼 보트 및 웨이퍼들용 처리 장치 审中-实审
标题翻译：晶圆舟和晶圆加工设备
公开(公告)号：KR1020170135903A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020177031924
申请日：2016-04-01
申请人： 센트로테에름 인터내셔널 아게
发明人： 크리크,미하엘 , 로테,랄프 , 레르히,빌프리드 , 레흘리,요하네스
IPC分类号： H01L21/673 , H01J37/32
CPC分类号： C23C14/34 , B65G21/20 , H01J37/32715 , H01L21/28 , H01L21/67313 , H01L21/67316 , H01L21/67346
摘要： 디스크-형상웨이퍼들, 특히반도체또는광전지애플리케이션들용반도체웨이퍼들의플라즈마처리를위한웨이퍼보트들, 및웨이퍼들용플라즈마처리디바이스가설명된다. 웨이퍼보트는, 웨이퍼또는웨이퍼쌍의에지지역을수용하기위한복수의수용슬롯들을각각가지는, 서로평행하게배열된복수의제 1 수용엘리먼트들뿐만아니라, 각각전기전도성이고적어도하나의웨이퍼또는하나의웨이퍼쌍의에지지역을수용하기위한적어도하나의함몰부를가지는, 서로평행하게배열된복수의제 2 수용엘리먼트들을가진다. 대안적인웨이퍼보트는수용될웨이퍼들의높이의절반미만인높이를가지는, 서로평행하게배열된복수의전기전도성, 플레이트형상수용엘리먼트들을가지며, 수용엘리먼트들각각은웨이퍼들을수용하기위한대향측부들상에적어도 3개의수용엘리먼트들을가진다. 웨이퍼보트들은플라즈마처리디바이스의프로세싱챔버에수용될수 있고, 플라즈마처리디바이스는, 프로세싱챔버내의프로세스가스분위기를제어하거나모니터링하기위한수단, 및웨이퍼보트에수용된바로인접한웨이퍼들간에전압을인가하기위하여웨이퍼보트의전기전도성수용엘리먼트들에적절한방식으로연결될수 있는적어도하나의전력원을가진다.
摘要翻译：圆盘形晶片，特别是半导体或光伏应用中，在晶舟的等离子体处理装置，以及用于半导体晶片的等离子体处理所述晶片进行说明。的晶片舟，晶片，或每一个具有多个收容槽，用于接收所述的晶片对的边缘区域，以及多个第一接收元件的布置彼此平行，各自是导电的，至少一个晶片或晶片并且多个第二接收元件彼此平行地布置，并具有至少一个用于接收该对边缘区域的凹陷。一种替代晶舟具有具有比晶片的高度，相互平行排列的多个导电的高度更小的半，板形接收元件被容纳，容纳元件，其中的每一个，至少在相对侧上，用于接收晶片它有三个接受元素。晶片舟皿的和被容纳在等离子体处理装置，等离子体处理装置包括处理室：处理器装置，用于控制或在处理腔室监测的气体气氛，并且为了晶片舟到容纳在晶片舟直接相邻晶片之间施加电压并且至少一个电源可以以适当的方式连接到系统的导电接收元件。

5. 发明公开

KR1020120087658A 웨이퍼 캐리어 无效
标题翻译：散热器
公开(公告)号：KR1020120087658A
公开(公告)日：2012-08-07
申请号：KR1020110008997
申请日：2011-01-28
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 양형우 , 최희석 , 김범철 , 이정배 , 김인곤
IPC分类号： H01L21/673 , B65D85/38 , B65D85/86
CPC分类号： H01L21/67316 , B65D85/38
摘要： PURPOSE: A wafer carrier is provided to stably install a wafer by changing a shape of a slot to be identical to a bending direction of the wafer. CONSTITUTION: Slots(108) is integrally projected to an inner circumferential side of a sidewall of a frame(106). The slots are arranged at a predetermined interval. The slots vertically form a curved shape having the same direction with a bending direction of a wafer. A support(112) is integrally formed in a lower portion of the frame. The support supports the frame.
摘要翻译：目的：提供晶片载体以通过改变与晶片的弯曲方向相同的槽的形状来稳定地安装晶片。构成：槽（108）一体地投影到框架（106）的侧壁的内周侧。槽以预定间隔布置。槽垂直地形成与晶片的弯曲方向具有相同方向的弯曲形状。支架（112）整体形成在框架的下部。支持支持框架。

6. 发明授权

KR101858345B1 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 有权
公开(公告)号：KR101858345B1
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR1020160086061
申请日：2016-07-07
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 마츠오카,다츠루 , 히로세,요시로 , 하시모토,요시토모
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3105 , H01L21/60
CPC分类号： H01L21/02126 , C23C16/45531 , H01L21/0214 , H01L21/0228 , H01L21/67109 , H01L21/67316
摘要： 기판상에형성하는막의막질을향상시킨다. 처리실내의기판에대하여소정원소를포함하는원료를공급하는공정과, 처리실내로부터원료를제거하는공정과, 처리실내의기판에대하여질소, 탄소및 수소를포함하는제1 반응체를공급하는공정과, 처리실내로부터제1 반응체를제거하는공정과, 처리실내의기판에대하여산소를포함하는제2 반응체를공급하는공정과, 처리실내로부터제2 반응체를제거하는공정을비동시로행하는사이클을소정횟수행함으로써, 기판상에막을형성하는공정을갖고, 원료를제거하는공정의실시시간을, 제1 반응체를제거하는공정의실시시간보다도길게하거나, 또는, 제2 반응체를제거하는공정의실시시간을, 제1 반응체를제거하는공정의실시시간보다도길게한다.

7. 实用新型

KR200377160Y1 반도체 웨이퍼 보트 失效
标题翻译：半导体晶片船
公开(公告)号：KR200377160Y1
公开(公告)日：2005-03-11
申请号：KR2020040035263
申请日：2004-12-13
申请人： 김원기
发明人： 김원기
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67316
摘要： 본 고안은 보트의 재질을 열변형에 강한 금속재로 제작함과 동시에 슬롯부의 격벽을 원형으로 형성하고 보트 표면에 보호피막을 형성하여 웨이퍼가 슬롯에 적재될 때 격벽에 의해 스크레치가 발생하는 것을 미연에 방지하여 웨이퍼의 불량 요인을 제거함으로써 수율을 높인 반도체 웨이퍼 보트에 관한 것이다.
상기 본 고안은 반도체 웨이퍼(1)를 이송하기 위해 웨이퍼(1)를 적재하기 위한 다수의 슬롯(13)을 갖는 웨이퍼 보트에 있어서, 상기 슬롯(13)을 형성하기 위한 격벽(11)이 전체적으로 원형으로 이루어지며, 표면에 보호피막(15)이 형성된 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1020170007160A 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 审中-实审
标题翻译：制造半导体器件基板处理设备和程序的方法
公开(公告)号：KR1020170007160A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：KR1020160086061
申请日：2016-07-07
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 마츠오카,다츠루 , 히로세,요시로 , 하시모토,요시토모
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3105 , H01L21/60
CPC分类号： H01L21/02126 , C23C16/45531 , H01L21/0214 , H01L21/0228 , H01L21/67109 , H01L21/67316
摘要： 기판상에형성하는막의막질을향상시킨다. 처리실내의기판에대하여소정원소를포함하는원료를공급하는공정과, 처리실내로부터원료를제거하는공정과, 처리실내의기판에대하여질소, 탄소및 수소를포함하는제1 반응체를공급하는공정과, 처리실내로부터제1 반응체를제거하는공정과, 처리실내의기판에대하여산소를포함하는제2 반응체를공급하는공정과, 처리실내로부터제2 반응체를제거하는공정을비동시로행하는사이클을소정횟수행함으로써, 기판상에막을형성하는공정을갖고, 원료를제거하는공정의실시시간을, 제1 반응체를제거하는공정의실시시간보다도길게하거나, 또는, 제2 반응체를제거하는공정의실시시간을, 제1 반응체를제거하는공정의실시시간보다도길게한다.
摘要翻译：制造半导体器件的方法包括通过执行预定次数的周期在衬底上形成膜。该循环包括非同时执行：在处理室中将含有预定元素的前体供应到基底，从处理室中除去前体，向基底提供含有氮，碳和氢的第一反应物，将第一反应物从所述处理室将含有氧的第二反应物供应到所述基材，以及从所述处理室除去所述第二反应物。除去前体的作用的时间段被设定为长于除去第一反应物的作用的时间段，或者将除去第二反应物的作用的时间段设定为长于去除第一反应物的行为。

9. 发明公开

KR1020140057929A 발광 소자 및 이를 구비한 조명 시스템 审中-实审
标题翻译：发光装置及其照明灯具
公开(公告)号：KR1020140057929A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：KR1020120124302
申请日：2012-11-05
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 정지은 , 정다은
IPC分类号： H01L33/48
CPC分类号： H01L33/44 , H01L21/67316 , H01L21/6733 , H01L21/67366 , H01L24/97 , H01L33/22 , H01L33/486 , H01L33/54 , H01L33/62 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2924/12041 , H01L2924/3025 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
摘要： The embodiment of the present invention relates to a light emitting device. The light emitting device according to the embodiment of the present invention includes: a body with a cavity; first and second lead frames which are separately arranged in the cavity; a gap part which is arranged between the first and second lead frames; a bonding material which is extended to the upper side of the first lead frame or the second lead frame from at least one among the sides of the cavity; a light emitting chip which is arranged on the first lead frame or the second lead frame; and a molding member which is arranged in the cavity and is bonded to the bonding material.
摘要翻译：本发明的实施例涉及发光器件。根据本发明实施例的发光器件包括：具有空腔的主体; 第一和第二引线框架分别设置在空腔中; 布置在第一和第二引线框架之间的间隙部分; 接合材料，其从所述空腔的所述侧面中的至少一个侧延伸到所述第一引线框架或所述第二引线框架的上侧; 布置在所述第一引线框架或所述第二引线框架上的发光芯片; 以及模制构件，其布置在所述空腔中并且结合到所述接合材料。

10. 发明公开

KR1020130084498A 웨이퍼 카세트용 쿠션 有权
标题翻译：水晶枕套
公开(公告)号：KR1020130084498A
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：KR1020120005322
申请日：2012-01-17
申请人： 주식회사 케이엠에이치하이텍
发明人： 박종인 , 최호성 , 김희승 , 유승윤
IPC分类号： H01L21/673 , B65D85/38 , B65D85/86
CPC分类号： H01L21/67316 , B65D85/30
摘要： PURPOSE: A cushion for a wafer cassette is provided to have stable bearing power by directing pressurization bearing power of a support part to the center of a wafer. CONSTITUTION: A concave part is formed at the center of a first elastic body (120). Convex parts are formed at both sides of the concave part. The convex part connects a pair of fixing parts. A support part (130) is formed on the convex parts of the first elastic body and is in contact with an end part of a wafer. A second elastic body connects an outer end part of the support part and the convex part of the elastic body. The second elastic body is elastically transformed in the opposite direction of the first elastic body.
摘要翻译：目的：提供用于晶片盒的垫子，通过将支撑部件的加压承受力引导到晶片的中心来具有稳定的轴承功率。构成：在第一弹性体（120）的中心形成凹部。凸部形成在凹部的两侧。凸部连接一对固定部。支撑部分（130）形成在第一弹性体的凸部上并且与晶片的端部接触。第二弹性体连接支撑部的外端部和弹性体的凸部。第二弹性体在第一弹性体的相反方向弹性变形。

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