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1. 发明公开

KR1020160060287A 질화알루미늄을 이용한 보트 장치와 이를 제조하는 방법 有权
标题翻译：一种用于铝的船装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020160060287A
公开(公告)日：2016-05-30
申请号：KR1020140162285
申请日：2014-11-20
申请人： (주)티티에스
发明人： 고성근 , 임유동
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/22
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/22
摘要： 본발명은냉간등방가압성형몰드에산화이트륨(YTTRIUM OXIDE YO), 산소(O), 탄소(C), 칼슘(Ca), 철(Fe), 실리콘(Si) 중적어도어느하나가포함되는질화알루미늄파우더를충진하는단계, 질화알루미늄파우더가냉간등방가압성형몰드에충진완료되면냉간등방가압성형하는단계, 냉간등방가압성형이완료되어생성되는질화알루미늄성형체를탈지하는단계, 자연냉각을시킨질화알루미늄성형체를소결하는단계및 소결된질화알루미늄성형체를가공하는단계를포함하여보트용로드를제조하는것을특징으로하는질화알루미늄을이용한보트장치를제조하는방법을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种使用氮化铝的船用装置的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：在氧化钇Y_2O_3，氧（O），碳（C），钙（C）等中填充氮等氮化物粉末，（Ca），铁（Fe）和硅（Si）; 当冷等静压模具完全填充氮化铝粉末时，进行冷等静压; 从通过冷等静压的完成产生的氮化铝成型体中除去脂肪酸; 烧结自然冷却的氮化铝成型体; 并处理烧结的氮化铝成型体。本发明是使用氮化铝，其具有高导热性和优异的陶瓷耐腐蚀性，并且防止在工艺或洗涤过程中磨损造成的颗粒。

2. 发明授权

KR101537960B1 종형 열처리용 보트 및 이를 이용한 실리콘 웨이퍼의 열처리 방법 有权
标题翻译：垂直热处理船和硅波热处理方法
公开(公告)号：KR101537960B1
公开(公告)日：2015-07-20
申请号：KR1020107022245
申请日：2009-04-09
申请人： 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
发明人： 고바야시,타케시
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/22 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/4581 , C23C16/4583 , H01L21/324 , H01L21/67098 , H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 본발명은, 보트본체의지지부의각각에탈착가능하게장착되어, 피처리기판이재치되는지지보조부재를구비한종형열처리용보트로서, 지지보조부재는, 지지부에장착되는가이드부재와, 피처리기판이재치되는판 형상의기판지지부재를가지며, 가이드부재는상면에구멍이형성되고기판지지부재는가이드부재의구멍에끼워넣어져서위치되고, 피처리기판의재치면의높이위치가, 가이드부재의상면의높이위치보다높고, 기판지지부재는, 탄화규소등으로이루어지고, 가이드부재는, 석영등으로이루어지는종형열처리용보트이다. 이에의해, 지지보조부재를구비한종형열처리용보트에실리콘웨이퍼와같은피처리기판을실어아르곤등을이용한열처리를실시할때의, 실리콘웨이퍼로의 Fe 오염전사와실리콘웨이퍼이면의면 거칠어짐의양자를억제할수 있는종형열처리용보트및 이를이용한실리콘웨이퍼의열처리방법이제공된다.

3. 发明公开

KR1020110069097A 고온 환경에서 반도체 웨이퍼용 지지부 无效
标题翻译：支持高温环境中的半导体晶体管
公开(公告)号：KR1020110069097A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020117008651
申请日：2009-10-13
申请人： 썬에디슨, 인크.
发明人： 쉬브,레리,웨인 , 길모어,브라이언,로렌스 , 스나이더,티모씨,존
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/68735 , F27D5/0037 , H01L21/324 , H01L21/67109 , H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 본 발명은 다양한 온도를 포함하는 공정 동안 반도체 웨이퍼를 지지하기 위한 웨이퍼 지지부에 관한 것이다. 상기 웨이퍼 지지부는 상기 반도체 웨이퍼를 수용하기 위해 사용되는 상부 표면을 가진 바디를 포함하며, 따라서 상기 상부 표면의 일부분은 상기 웨이퍼를 지지한다. 상기 상부 표면은 오목한 영역의 바닥으로부터 상승하는 경사진 표면을 가진 오목한 영역을 갖는다. 상기 경사진 표면은 약 10도 이내의 경사각을 갖는다.

4. 发明公开

KR1020100134010A 종형 열처리용 보트 및 이를 이용한 실리콘 웨이퍼의 열처리 방법 有权
标题翻译：垂直热处理船和硅波热处理方法
公开(公告)号：KR1020100134010A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：KR1020107022245
申请日：2009-04-09
申请人： 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
发明人： 고바야시,타케시
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/22 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/4581 , C23C16/4583 , H01L21/324 , H01L21/67098 , H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 본발명은, 보트본체의지지부의각각에탈착가능하게장착되어, 피처리기판이재치되는지지보조부재를구비한종형열처리용보트로서, 지지보조부재는, 지지부에장착되는가이드부재와, 피처리기판이재치되는판 형상의기판지지부재를가지며, 가이드부재는상면에구멍이형성되고기판지지부재는가이드부재의구멍에끼워넣어져서위치되고, 피처리기판의재치면의높이위치가, 가이드부재의상면의높이위치보다높고, 기판지지부재는, 탄화규소등으로이루어지고, 가이드부재는, 석영등으로이루어지는종형열처리용보트이다. 이에의해, 지지보조부재를구비한종형열처리용보트에실리콘웨이퍼와같은피처리기판을실어아르곤등을이용한열처리를실시할때의, 실리콘웨이퍼로의 Fe 오염전사와실리콘웨이퍼이면의면 거칠어짐의양자를억제할수 있는종형열처리용보트및 이를이용한실리콘웨이퍼의열처리방법이제공된다.

5. 发明公开

KR1020090004629A 제거가능한 서셉터를 구비하는 열적 배치 반응기 无效
标题翻译：具有可拆卸的SUSCEPTOR的热批量反应器
公开(公告)号：KR1020090004629A
公开(公告)日：2009-01-12
申请号：KR1020080062971
申请日：2008-06-30
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 메리,니르 , 유도브스키,죠셉
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/46 , H01L21/67306 , H01L21/67309 , Y10T428/13
摘要： A thermal batch reactor is provided to uniformly flow the gas and heat the substrate by equipping the plurality of susceptors in a batch process. A quartz chamber(101) is comprised in order to surround the processing volume. A heater is one or more removable heaters arranged outside the quartz chamber and comprises one or more heat zones. An external chamber(113) is comprised in order to surround one or more removable heaters and quartz chamber. A jet assembly is adhered to the quartz chamber In order to spray the gas to the chamber. An exhaustion pocket is arranged on one side of the quartz chamber and is faced with the jet assembly.
摘要翻译：提供热间歇反应器以使气体均匀地流动并且通过在批处理中装备多个基座来加热基板。包括石英室（101）以包围处理容积。加热器是布置在石英室外部的一个或多个可移除的加热器，并且包括一个或多个加热区。包括外部室（113）以便围绕一个或多个可移除的加热器和石英室。喷射组件粘附到石英室以便将气体喷射到腔室。排气袋布置在石英室的一侧，面向喷射组件。

6. 发明公开

KR1020060111931A 반도체 제조장치의 기판 로딩용 홀더 제조방법 및 이홀더가 장착된 배치식보트 有权
标题翻译：用于半导体的半自动保持器制造方法和保持架
公开(公告)号：KR1020060111931A
公开(公告)日：2006-10-31
申请号：KR1020050033906
申请日：2005-04-25
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 장택용 , 이병일
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67306
摘要： A method for manufacturing a wafer holder for a semiconductor manufacturing device and a batch-boat mounting the same are provided to simplify the holder manufacturing process by cutting a holder materials of a pipe shape for manufacturing a holder ring only. A method for manufacturing a wafer holder forms a support ring for fitting a semiconductor substrate(100) on a support panel of a disk. A holder materials of a pipe shape is formed. A holder ring(12) is formed by cutting the holder materials to a ring shape according to an arrangement space of the semiconductor substrate in a boat for loading the semiconductor substrate.
摘要翻译：提供一种制造用于半导体制造装置的晶片保持器和安装该半导体制造装置的间歇式舟皿的方法，以通过仅切割用于制造保持环的管形状的保持器材料来简化保持器制造过程。制造晶片保持器的方法形成用于将半导体衬底（100）安装在盘的支撑板上的支撑环。形成管状的保持材料。通过根据半导体衬底在用于加载半导体衬底的舟皿中的布置空间将保持器材料切割成环形形成保持环（12）。

7. 发明公开

KR1020060098742A 보트 어셈블리 无效
标题翻译：船组装
公开(公告)号：KR1020060098742A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020050018653
申请日：2005-03-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 함규환
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 종형로를 사용하는 웨이퍼 가공 장치의 보트 어셈블리는 다수의 웨이퍼를 적재하는 보트를 구비한다. 그리고, 홀더는 상기 보트의 하부에 구비되어 상기 보트를 지지하며, 내부에 다수의 슬롯이 형성되어 있다. 또한, 단열판은 상기 홀더에 일체로 구비되고, 상기 보트에 가해지는 열 손실에 따른 온도를 보상한다. 따라서, 상기 단열판이 상기 홀더에 일체로 형성되어 있기 때문에 상기 단열판의 혼용을 감소할 수 있다. 그 결과, 종래 기술에 비하여 증착된 막의 두께의 편차를 줄이고, 금속 오염을 억제할 수 있다.

8. 发明公开

KR1020060081524A 보트 어셈블리 无效
标题翻译：船组装
公开(公告)号：KR1020060081524A
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：KR1020050001999
申请日：2005-01-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 종형로를 사용하는 웨이퍼 가공 장치의 보트 어셈블리는 다수의 웨이퍼가 적재되는 보트, 상기 보트의 하부에서 되어 상기 보트를 지지하며 내부에 다수의 슬롯이 형성되는 홀더 및 상기 홀더의 슬롯에 삽입되며 상기 홀더의 하부로의 열 손실을 보상하기 위한 다수의 단열판을 포함하고, 상기 보트, 홀더 및 단열판은 일체로 형성된다. 상기 보트 어셈블리는 탄화규소 재질로 형성한다. 따라서 상기 보트 어셈블리를 반영구적으로 사용할 수 있고, 웨이퍼 가공 장치의 정비시 해체가 용이하다.

9. 发明公开

KR1020050016547A 반도체를 제조하는 공정에서 사용하는 실리카유리지그 및그 제조방법 有权
标题翻译：用于制造半导体的工艺中使用的二氧化硅玻璃和制造二氧化硅玻璃的方法
公开(公告)号：KR1020050016547A
公开(公告)日：2005-02-21
申请号：KR1020047020224
申请日：2003-12-02
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 후쿠이 신에쯔 세끼에이
发明人： 이토치카시 , 이와미토시후미 , 키무라히로유키
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67306
摘要： 반도체를 제조하는 공정에서 사용하는 실리카유리지그에 있어서, 그 표면의 일부 또는 전부에 중심선평균거칠기 Ra로 0.1~20㎛의 요철이 존재하고, 또한 경미한 표층에칭처리에 대해서도 표면상태의 변화가 작은 것을 특징으로 하는 실리카 유리지그로서, 사용시에 반도체소자를 오염하는 파티클의 발생이 없고, 게다가 사용을 거듭해도 처리조건의 변동이 적다. 또, 본 발명의 실리카유리지그는, 실리카 유리의 표면에 물리적표층제거수단과 화학적표층제거수단에 의한 처리를 번갈아 2회 이상 반복 적용함으로써 용이하게 제조할 수 있다.

10. 实用新型

KR2020110009124U 보트 有权
标题翻译：船
公开(公告)号：KR2020110009124U
公开(公告)日：2011-09-26
申请号：KR2020100002828
申请日：2010-03-18
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/324 , B65D85/86 , B65D85/48
CPC分类号： H01L21/67306 , H01L21/67309
摘要： 기판의 양 장변측에 배치되는 수직 프레임을 지지 로드에 의해 연결하고 지지 로드 상에는 최소한의 면적으로 기판과 접촉하며 기판을 지지하는 지지핀을 설치하여 기판처리시 기판의 온도가 전체적으로 균일하도록 하고 기판처리 도중 기판의 변형을 방지하는 보트가 개시된다. 본 고안에 의한 보트는, 배치식 기판처리 장치에서 기판처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버 내에 배치되고 복수개의 기판이 로딩되는 보트로서, 기판(10)의 장변 방향을 따라 배치되는 복수개의 단위 보트 유닛(200)을 포함하고, 단위 보트 유닛(200)은 기판(10)의 양 장변측에 대향되게 배치되는 제1 및 제2 수직 프레임(300A, 300B), 제1 및 제2 수직 프레임(300A, 300B)을 연결하는 복수개의 지지 로드(320), 지지 로드(320) 상에 설치되는 복수개의 지지핀(330)을 포함하며, 기판(10)은 지지핀(330) 상에 안착되는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：由设置在两个长衬底到支承杆与支承杆和至少在基板与接触和衬底的衬底处理期间由安装支撑销支撑的形成在衬底的温度的区域的一侧是均匀的作为一个整体的基板处理垂直框架连接公开了一种在该过程中防止基板变形的船。船本发明中，作为设置在船和多个基板在一个分批式基板处理装置被装载在腔室中以用于执行衬底处理过程提供了一个空间，其中多个被布置沿着基板10的长边方向，第一和第二纵框架（300A，300B），所述第一和第二垂直框架，其包括一个单元船单元200，和单元船单元200被相对地设置两个在基板10的长边，连接支撑杆300A和300B的多个支撑杆320和安装在支撑杆320上的多个支撑销330.基板10安装在支撑销330上和被表征。

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