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1. 发明公开

KR1020120127349A 플라즈마 모니터링 시스템 无效
标题翻译：监测等离子体系统
公开(公告)号：KR1020120127349A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR1020120095050
申请日：2012-08-29
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 정재훈 , 김학권 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065
摘要： PURPOSE: A system for monitoring plasma is provided to detect an arc using various methods according to the environment thereof by selectively detecting visible rays, ultraviolet rays, and infrared rays. CONSTITUTION: A spectroscope(108) is connected to a view port(120) of a chamber(100) through a first optical fiber(122). An arc detection sensor(110) is connected to the viewport through a second optical fiber(124). The arc detection sensor outputs sensing results as an electric signal. The spectroscope and the arc detection sensor are connected to a detection and control module(112) through a signal cable. The detection and control module detects an end point by analyzing data provided from the spectroscope. [Reference numerals] (108) Spectrometer; (110) Arc detection sensor; (112) Detection and control module
摘要翻译：目的：提供一种用于监测等离子体的系统，通过选择性地检测可见光线，紫外线和红外线，根据其环境利用各种方法检测电弧。构成：分光器（108）通过第一光纤（122）连接到腔室（100）的视口（120）。电弧检测传感器（110）通过第二光纤（124）连接到视口。电弧检测传感器将感测结果作为电信号输出。分光器和电弧检测传感器通过信号电缆连接到检测和控制模块（112）。检测和控制模块通过分析从分光镜提供的数据来检测终点。（附图标记）（108）光谱仪; （110）电弧检测传感器; （112）检测和控制模块

2. 发明授权

KR101106115B1 공정챔버의 플라즈마광 세기 감쇄장치 失效
标题翻译：处理室的等离子体光强衰减装置
公开(公告)号：KR101106115B1
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：KR1020090078258
申请日：2009-08-24
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 이동석 , 임영길 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 공정챔버의 플라즈마광 세기 감쇄장치를 개시한다. 상기 감쇄장치는 공정챔버의 전면투명창에 설치되는 어댑터에 플라즈마광의 세기를 감쇄시킬 수 있도록 하는 광 감쇄기를 구성한 것으로, 이를 통해 공정챔버에서 방출되는 전반적인 플라즈마광의 세기를 감쇄시켜 스펙트럼 분석에 의한 리크 검출시 필요로 하는 특정파장영역의 포화현상을 방지하여 공정챔버내의 리크 검출 및 공정 진행의 이상유무를 판단하는 프로세스가 오류없이 정밀하게 진행시키는 특징을 갖는다.
공정챔버, 분광기, 광섬유케이블, 감쇄커넥터

3. 发明授权

KR101419886B1 산소 감지를 위한 배기 라인을 포함하는 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基底处理装置，包括用于感应氧气的排气管
公开(公告)号：KR101419886B1
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：KR1020120127377
申请日：2012-11-12
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 강지호 , 유임수
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 산소 감지를 위한 배기 라인을 포함하는 기판 처리 장치가 제공된다. 상기 기판 처리 장치는, 공정 챔버로부터 돌출되는 가스 배기관, 가스 배기관과 연통하도록 가스 배기관으로부터 가스 배기관의 반대편을 향해서 차례로 위치되는 제 1 모니터 관, 모니터 밸브, 제 2 모니터 관, 제 2 모니터 관에 위치되는 모니터 센서, 가스 배기관 및 모니터 센서 사이에 위치되는 가스 흐름 제어망, 및 모니터 밸브, 가스 흐름 제어망 및 모니터 센서와 전기적으로 접속하는 제어부를 포함한다.

4. 发明公开

KR1020140060728A 산소 감지를 위한 배기 라인을 포함하는 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基底处理装置，包括用于感应氧气的排气管
公开(公告)号：KR1020140060728A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：KR1020120127377
申请日：2012-11-12
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 강지호 , 유임수
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67034 , F16L55/07 , G05D7/06
摘要： Provided is a substrate treating apparatus including an exhaust line for sensing oxygen. The substrate treating apparatus includes a gas exhaust pipe which protrudes from a process chamber, a first monitor pipe, a monitor valve, and a second monitor pipe which are successively located from the gas exhaust pipe to the opposite side of the gas exhaust pipe in order to be connected to the gas exhaust pipe, a monitor sensor which is located in the second monitor pipe, a gas flow control network and the monitor valve which are located between the gas exhaust pipe and the monitor sensor, and a control part which is electrically connected to the gas flow network and the monitor sensor.
摘要翻译：提供了一种包括用于感测氧气的排气管线的基板处理装置。基板处理装置包括从处理室突出的排气管，第一监视管，监视阀和第二监视管，其从排气管依次排列到排气管的相对侧，连接到排气管，位于第二监视管中的监视传感器，位于排气管和监视传感器之间的气体流量控制网络和监视阀，以及电气控制部连接到气体流量网络和监测传感器。

5. 实用新型

KR2020140001508U 기판 검사장치 无效
标题翻译：玻璃检查装置
公开(公告)号：KR2020140001508U
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：KR2020120007844
申请日：2012-09-03
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 강지호 , 전은지
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/47
摘要： 본 고안은 기판에 서로 다른 방향에서 서로 다른 각도로 광을 조사하여 기판으로부터 반사되는 반사 광을 획득하여 기판을 검사함으로써, 다양한 종류의 기판 검사에 사용할 수 있으며, 검출 정확도를 높일 수 있는 기판 검사장치에 관한 것이다.
본 고안은 검사대; 상기 검사대에 설치되고, 'ㅁ'자형으로 형성되어, 상기 검사대를 기판이 통과 시 상부 또는 하부에서 상기 기판에 서로 다른 방향에서 서로 다른 각도로 광을 조사하는 조명부; 상기 검사대에 설치되고, 상기 조명부로부터 조사되어 상기 기판에서 반사 및 산란되는 광을 획득하여 상기 기판의 표면을 촬영하는 카메라 모듈; 및 상기 조명부와 상기 카메라 모듈의 동작을 제어하고, 상기 카메라 모듈에 의해 촬영된 이미지 정보로부터 상기 기판의 표면에 대한 품질 상태를 검사하는 검사유닛을 포함하는 기판 검사장치를 제공한다.

6. 发明公开

KR1020120127351A 플라즈마 모니터링 시스템 无效
标题翻译：监测等离子体系统
公开(公告)号：KR1020120127351A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR1020120095065
申请日：2012-08-29
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 정재훈 , 김학권 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , H01L21/205
摘要： PURPOSE: A system for monitoring plasma is provided to rapidly detect an arc generated in an end point and a chamber using a spectroscope, an arc detection sensor, and a detection and control module. CONSTITUTION: Optical fibers(122,124) are connected to a viewport(120) of a chamber(100). An arc detection sensor(110) is connected to the optical fiber. The arc detection sensor outputs sensing results into an electric signal. A detection and control module(112) is connected to the arc detection sensor. The detection and control module detects the arc by analyzing the electric signal which is outputted from the arc detection sensor. [Reference numerals] (108) Spectroscope; (110) Arc sensor; (112) Detection/control module
摘要翻译：目的：提供一种用于监测等离子体的系统，用于使用分光计，电弧检测传感器和检测和控制模块快速检测在终点和室中产生的电弧。构成：光纤（122,124）连接到腔室（100）的视口（120）。电弧检测传感器（110）连接到光纤。电弧检测传感器将感测结果输出为电信号。检测和控制模块（112）连接到电弧检测传感器。检测和控制模块通过分析从电弧检测传感器输出的电信号来检测电弧。（附图标记）（108）分光镜; （110）电弧传感器; （112）检测/控制模块

7. 发明公开

KR1020120126418A 플라즈마 모니터링 시스템 无效
标题翻译：监测等离子体系统
公开(公告)号：KR1020120126418A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR1020110044181
申请日：2011-05-11
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 정재훈 , 김학권 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065
摘要： PURPOSE: A plasma monitoring system is provided to rapidly detect arc generated within a chamber and an end point of an etching process by using a spectroscope, an arc detection sensor, and a detection and control sensor. CONSTITUTION: A viewport(120) is directly combined with a chamber(100). A hole or a groove is formed on a part of the viewport. A visible light converting part converts ultraviolet rays or infrared rays of arc light generated in the chamber into visible rays. An arc detection sensor(110) senses the visible rays transferred through optical fiber(124). A spectroscope(108) is used for checking the state of plasma. A detection and control module module(112) detects an end point by analyzing data provided from the spectroscope. [Reference numerals] (108) Spectroscope; (110) Arc detection sensor; (112) Detection and control module module
摘要翻译：目的：提供等离子体监测系统，通过使用分光计，电弧检测传感器和检测与控制传感器来快速检测在腔室内产生的电弧和蚀刻过程的终点。构成：视口（120）与腔室（100）直接组合。在视口的一部分上形成孔或凹槽。可见光转换部将室内产生的电弧光的紫外线或红外线转换为可见光。电弧检测传感器（110）感测通过光纤（124）传送的可见光线。使用分光镜（108）来检查等离子体的状态。检测和控制模块模块（112）通过分析从分光镜提供的数据来检测终点。（附图标记）（108）分光镜; （110）电弧检测传感器; （112）检测和控制模块模块

8. 发明公开

KR1020160127697A 전자 식별 태그, 태그를 이용한 이벤트 메시지 서비스 제공 방법 및 그 장치 无效
标题翻译：射频识别标签使用标签提供事件消息服务的方法和装置
公开(公告)号：KR1020160127697A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020160106190
申请日：2016-08-22
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 강지호
IPC分类号： G06K19/077 , G06K19/073 , G06K17/00
摘要： 전자식별태그, 태그를이용한이벤트메시지서비스제공방법및 그장치가개시된다. 전자식별태그는, 칩; 및일면에형성되며, 상기칩과전기적으로연결되는안테나를포함하되, 타면에이벤트메시지생성또는확인을위한고유식별정보가인쇄될수 있다.

9. 发明授权

KR101106116B1 공정챔버의 리크 검출 방법 有权
标题翻译：处理室泄漏检测方法
公开(公告)号：KR101106116B1
公开(公告)日：2012-01-20
申请号：KR1020090088613
申请日：2009-09-18
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 김학권 , 강지호 , 엄준희 , 차영진
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 공정챔버의 리크 검출 방법을 개시한다. 상기 리크 검출 방법은 제품 생산시의 공정변화 후 공정챔버의 플라즈마 광 에미션들을 검출하여 광 에미션들의 인텐시티에 대한 피크값을 비교하고, 비교결과 스펙범위내에서 광 에미션들의 인텐시티 비교값에 대한 편차비율 변화량이 정상상태에서 기 설정된 편차비율에 해당되지 않을 경우에만 리크가 발생한 것으로 판단하도록 한 것이며, 이를 통해 공정챔버에서의 리크 발생여부를 오류없이 보다 정확하고 빠르게 판단함은 물론, 미세한 리크 검출이 가능하도록 하는 한편, 잦은 경보음 출력에 따른 공정진행의 방해원인을 제거한 것이다.
공정챔버, 리크, 플라즈마 광 에미션, 인텐시티, 스펙

10. 发明公开

KR1020110020577A 공정챔버의 플라즈마광 세기 감쇄장치 失效
标题翻译：等离子体光强度衰减装置
公开(公告)号：KR1020110020577A
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：KR1020090078258
申请日：2009-08-24
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 이동석 , 임영길 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/02
摘要： PURPOSE: A plasma light intensity attenuation apparatus of a process chamber is provided to perform a leakage detection process in a process chamber by preventing the saturation in a specific band region required for detecting leakage. CONSTITUTION: In a plasma light intensity attenuation apparatus of a process chamber, an adapter(102) is formed in the front transparent window of a process chamber. One end of the optical fiber cable(C) is connected to the adapter. An attenuator(10) attenuates the intensity of plasma discharged from the front transparent window to transmit it to an optical cable. The attenuation connector comprises a first flow path(U1), an attenuation flow path(U3), and a second fluid path(U2). A condensing lens(20) condense plasma light.
摘要翻译：目的：提供一种处理室的等离子体光强度衰减装置，通过防止检测泄漏所需的特定带区域的饱和度，在处理室中进行泄漏检测处理。构成：在处理室的等离子体光强度衰减装置中，在处理室的前透明窗口中形成适配器（102）。光纤电缆（C）的一端连接到适配器。衰减器（10）衰减从前透明窗口排出的等离子体的强度，以将其传输到光缆。衰减连接器包括第一流路（U1），衰减流路（U3）和第二流体路径（U2）。聚光透镜（20）冷凝等离子体光。

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