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1. 发明公开

KR1020060032137A 전자선장치, 전자선 검사방법, 전자선 검사장치, 노광조건 결정방법, 패턴검사방법, 기판검사방법, 패턴검사장치, 기판검사장치 및 검출기 위치결정방법 有权
标题翻译：电子束装置，电子束检查方法，电子束检查装置，图案检查方法和曝光条件确定方法
公开(公告)号：KR1020060032137A
公开(公告)日：2006-04-14
申请号：KR1020057021353
申请日：2004-04-26
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 노지노부하루 , 사타케도루 , 소부카와히로시 , 김바도시후미 , 하타케야마마사히로 , 요시카와쇼지 , 무라카미다케시 , 와타나베겐지 , 가리마타츠토무 , 스에마츠겐이치 , 다베유타카 , 다지마료 , 도야마게이이치
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/05 , H01J37/28 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2817
摘要： A system for further increasing an inspection speed or a throughput in an SEM-system inspection device. An inspection device which inspects the surface of a substrate adjusts an electron beam produced from an electron source (26.6) by a primary optical system (26.1) to apply it to a substrate with a desired sectional shape. The electron beam is adjusted so as to keep an unevenness in electron beam illuminance to up to 10%. Electrons emitted from a sample are detected by a detector (26.4).
摘要翻译：一种用于在SEM系统检查装置中进一步增加检查速度或吞吐量的系统。检查基板的表面的检查装置通过主光学系统（26.1）调整由电子源（26.6）产生的电子束，以将其施加到具有所需截面形状的基板。调整电子束以将电子束照度的不均匀度保持在10％以下。通过检测器（26.4）检测从样品发射的电子。

2. 发明公开

KR1020170095831A 양적 2차 전자 검출 审中-实审
标题翻译：定量二次电子检测
公开(公告)号：KR1020170095831A
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：KR1020177013815
申请日：2015-10-21
申请人： 사이언스투모로우, 엘엘씨
发明人： 죠티아그라왈,죠티 , 수바다르쉬나약,수바다르쉬 , 데이빗씨조이,데이빗
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/285
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495
摘要： 고체상태장치들(SSD) 기반전자-카운터들을이용한정량적이차전자검출기(QSED)는반도체들, 나노재료들및 생물학적샘플들과같은재료에서임계치수계측측정을가능하게한다(도 3). 방법들및 장치들은다수의고체상태검출기들을포함하는고체상태검출기들의어레이로정량적검출을가져온다. 어레이는다수의고체상태검출기들로이차전자들의개수를센싱하여, 카운터모드에서시간디지털컨버터로이차전자들의개수를카운트(계수)한다.
摘要翻译：使用基于固态器件（SSD）的电子计数器的定量二次电子检测器（QSED）使得能够在诸如半导体，纳米材料和生物样品的材料中进行临界度量衡测量（图3）。该方法和设备导致包括多个固态检测器的固态检测器阵列中的定量检测。该阵列用许多固态检测器检测二次电子的数量，并计数与时间数字转换器相反的二次电子的数量。

3. 发明授权

KR101248561B1 검출장치 및 검사장치 有权
标题翻译：检测装置和检测装置
公开(公告)号：KR101248561B1
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：KR1020087005973
申请日：2006-08-10
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 하타케야마마사히로 , 요시카와쇼지 , 스에마츠겐이치 , 가리마타츠토무 , 노지노부하루
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/29 , G01R31/302 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/261 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446
摘要： 검출장치의 교환작업에 따르는 시간의 손실을 삭감하기 위한 검사장치에 있어서, 시료(W)로부터 방출된 전자빔을 수취하여, 시료(W)를 나타내는 화상 데이터를 취득하는 복수의 검출장치(11, 12)와, 복수의 검출장치(11, 12) 중의 하나에 전자빔을 입사시키기 위한 변환기구(M)를 구비하고, 복수의 검출장치(11, 12)가 동일한 용기(MC) 내에 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. 복수의 검출장치(11, 12)는, 전자빔을 전기신호로 변환하는 전자센서를 구비하는 검출장치와 전자빔을 광으로 변환하고, 상기 광을 전기신호로 변환하는 광센서를 구비하는 검출장치와의 임의의 조합일 수 있다. 변환기구(M)는, 기계적 이동기구이어도 전자빔 편향기이어도 된다.

4. 发明授权

KR100888688B1 검출장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：检测设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR100888688B1
公开(公告)日：2009-03-13
申请号：KR1020020054248
申请日：2002-09-09
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 , 가부시끼가이샤 도시바
发明人： 하타케야마마사히로 , 무라카미다케시 , 사타케도루 , 노지노부하루 , 나가하마이치로타 , 야마자키유이치로
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/244 , G01N21/9501 , G03F1/84 , H01J37/285 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446
摘要： 본 발명의 샘플 표면상의 미세한 기하학적 배열(geometry)을 검출하는 검출장치에 있어서, 조사빔은 대기와 다른, 상이한 환경에 놓여진 샘플에 조사되고, 상기 샘플로부터 발산된 2차방사선은 센서에 의하여 검출되며, 상기 센서는 상이한 환경의 내부에 배치되고, 상기 센서로부터의 검출신호를 처리하는 상기 처리장치는 상이한 환경의 외부에 배치되며, 전달수단은 상기 센서로부터 상기 처리장치로 검출신호를 전달한다.

5. 发明授权

KR101487359B1 시료 표면 검사방법 및 검사장치 有权
标题翻译：检测样品表面的方法和装置
公开(公告)号：KR101487359B1
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：KR1020087018240
申请日：2007-01-24
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 노지노부하루 , 나이토요시히코 , 소부카와히로시 , 데라오겐지 , 하타케야마마사히로 , 오쿠무라가츠야
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/20 , G01N23/225 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/265 , G01R31/307 , H01J37/04 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要： 정밀도가 좋은 시료 표면 검사를 행할 수 있는 방법 및 장치를 제공한다. 전자선식 시료 표면 검사장치를 이용하여 시료 표면을 검사하는 방법에 있어서, 상기 시료 표면 검사장치의 전자총으로부터 발생한 전자빔을 상기 시료 표면에 조사하고, 상기 시료 표면으로부터 발생한 2차 전자를 검출기의 전자 검출면을 향하여 결상시켜 상기 시료 표면을 검사하는 방법에서, 상기 검출기의 검출면에서의 상기 2차 전자의 결상 조건을, 상기 시료 표면의 전위가 상기 시료 표면에 조사된 전자빔의 양에 따라 변화하도록 제어하는 것에 특징이 있다.

6. 发明授权

KR101052335B1 전자선장치, 전자선 검사방법, 전자선 검사장치, 노광조건 결정방법, 패턴검사방법, 기판검사방법, 패턴검사장치, 기판검사장치 및 검출기 위치결정방법 有权
公开(公告)号：KR101052335B1
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：KR1020057021353
申请日：2004-04-26
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 노지노부하루 , 사타케도루 , 소부카와히로시 , 김바도시후미 , 하타케야마마사히로 , 요시카와쇼지 , 무라카미다케시 , 와타나베겐지 , 가리마타츠토무 , 스에마츠겐이치 , 다베유타카 , 다지마료 , 도야마게이이치
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/05 , H01J37/28 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2817
摘要： SEM 방식의 검사장치에서의 검사속도를 더욱 고속으로 하는, 즉 스루풋을 올리기 위한 방식이 제공된다. 기판의 표면을 검사하는 검사장치는, 전자원(25·1)으로부터 발생된 전자로부터 크로스오버를 만든 후, 시료(W)의 방향에 원하는 배율로 결상하여 크로스오버를 만든다. 상기 크로스오버를 통과시킬 때에 상기 크로스오버로부터 노이즈가 되는 전자를 개구에서 제거하여, 상기 크로스오버를 원하는 배율로 하고, 상기 크로스오버가 평행한 전자선이 되도록 조정하여 원하는 단면형상으로
기판을 조사한다. 이때의 전자선의 조도 불균일이 10% 이하가 되도록 전자선을 만든다. 시료(W)로부터 방출된 전자는 검출기(25·11)로 검출된다.

7. 发明公开

KR1020080087138A 시료 표면 검사방법 및 검사장치 有权
标题翻译：检测样品表面的方法和装置
公开(公告)号：KR1020080087138A
公开(公告)日：2008-09-30
申请号：KR1020087018240
申请日：2007-01-24
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 노지노부하루 , 나이토요시히코 , 소부카와히로시 , 데라오겐지 , 하타케야마마사히로 , 오쿠무라가츠야
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/20 , G01N23/225 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/265 , G01R31/307 , H01J37/04 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要： A method and an apparatus for performing highly accurate sample surface inspection are provided. The method is provided for inspecting sample surfaces by using an electron beam type sample surface inspecting apparatus. In the method, the sample surface is irradiated with an electron beam generated from an electron gun of the sample surface inspecting apparatus, a secondary electron generated from the sample surface is focused on the electron detecting surface of a detector, and the sample surface is inspected. The method is characterized in that the focusing conditions of the secondary electron on the detecting surface of the detector are controlled to have a potential on the sample surface change in accordance with the quantity of the electron beam applied on the sample surface.
摘要翻译：提供了一种用于执行高精度样品表面检查的方法和装置。该方法用于通过使用电子束型样品表面检查装置来检查样品表面。在该方法中，用从样品表面检查装置的电子枪产生的电子束照射样品表面，从样品表面产生的二次电子聚焦在检测器的电子检测表面上，并检查样品表面。该方法的特征在于，根据施加在样品表面上的电子束的量，将二次电子在检测器的检测表面上的聚焦条件控制为使样品表面上的电位发生变化。

8. 发明公开

KR1020080036145A 검출장치 및 검사장치 有权
标题翻译：检测装置和检测装置
公开(公告)号：KR1020080036145A
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：KR1020087005973
申请日：2006-08-10
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 하타케야마마사히로 , 요시카와쇼지 , 스에마츠겐이치 , 가리마타츠토무 , 노지노부하루
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/29 , G01R31/302 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/261 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446
摘要： An inspection device for reducing time loss incident to a detection device replacing operation, comprising a plurality of detection devices (11, 12) for receiving an electron beam emitted from a sample (W) to obtain image data representing the sample (W), a switching mechanism (M) for having one of the plurality of detection devices (11, 12) receive an electron beam, characterized in that the plurality of detection devices (11, 12) are disposed in the same container (MC). The plurality of detection devices (11, 12) each can be a combination of a detection device provided with an electronic sensor for converting an electron beam into an electric signal and another detection device provided with an optical sensor for converting an electron beam into light and then converting the light into an electric signal. The switching mechanism (M) may be a mechanical moving mechanism or an electron beam deflector.
摘要翻译：一种用于减少入射到检测装置更换操作的时间损失的检查装置，包括用于接收从样品（W）发射的电子束以获得表示样品（W）的图像数据的多个检测装置（11,12），用于使所述多个检测装置（11,12）中的一个检测装置（11,12）接收电子束的切换机构（M），其特征在于，所述多个检测装置（11,12）设置在同一容器（MC）中。多个检测装置（11,12）各自可以是设置有用于将电子束转换成电信号的电子传感器的检测装置和设置有用于将电子束转换成光的光学传感器的检测装置的组合，然后将光转换成电信号。切换机构（M）可以是机械移动机构或电子束偏转器。

9. 发明公开

KR1020170047244A 주사 전자 현미경과 샘플 검사 및 리뷰 방법 审中-实审
标题翻译：扫描电子显微镜和样品检查和审查方法
公开(公告)号：KR1020170047244A
公开(公告)日：2017-05-04
申请号：KR1020177005215
申请日：2015-08-28
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 브라운데이비드엘 , 추앙융-호알렉스 , 필든존 , 트림플마르셀 , 장징징 , 콘타라토데비스 , 아이어벤카트라만
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , G06T1/00 , H01L31/00
CPC分类号： G01N30/72 , G01T1/24 , G06F19/00 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J49/02 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/24475 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592 , H01L27/1464 , H01L27/14659 , H01L27/14661 , H01L31/00
摘要： 주사전자현미경은다중픽셀고상전자검출기를통합한다. 다중픽셀고상검출기는후방산란된및/또는이차전자를검출할수도있다. 다중픽셀고상검출기는아날로그디지털변환기및 다른회로를통합할수도있다. 다중픽셀고상검출기는입사전자의에너지를대략적으로결정할수도있고및/또는전자신호를프로세싱하거나또는분석하기위한회로를포함할수도있다. 다중픽셀고상검출기는, 약 100 MHz 또는그 이상의속도와같은고속동작에적합하다. 주사전자현미경은, 패턴화되지않은반도체웨이퍼, 패턴화된반도체웨이퍼, 레티클또는포토마스크와같은샘플을리뷰, 검사또는측정하기위해사용될수도있다. 샘플을리뷰또는검사하는방법이또한설명된다.
摘要翻译：扫描电子显微镜结合了一个多像素固态电子探测器。多像素固态检测器可以检测背散射和/或二次电子。多像素固态检测器可以包含模数转换器和其他电路。多像素的固态检测器可以包括一个电路，用于处理或分析近似来确定和/或电子信号，以入射电子的能量。多像素固态检测器适用于高速操作，例如约100 MHz或更高的速度。扫描电子显微镜，这不是一个半导体晶片屏幕，图案化的半导体晶片上的图案，回顾了样品，诸如掩模版或光掩模，其可被用于检查或测量。还描述了审查或检查样本的方法。

10. 发明授权

KR101110224B1 샘플에서 반사된 전자들을 이용하여 샘플을 검사하는 맵핑 투영식 전자빔 장치 有权
标题翻译：用于通过使用从样品反射的电子检查样品的映射型投影型电子束装置
公开(公告)号：KR101110224B1
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：KR1020057013694
申请日：2004-01-27
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 , 가부시끼가이샤 도시바
发明人： 와타나베겐지 , 무라카미다케시 , 하타케야마마사히로 , 히라바야시요시나오 , 사타케도루 , 노지노부하루 , 야마자키유이치로 , 나가하마이치로타
IPC分类号： H01J37/244 , H01J1/30 , C01B31/02
CPC分类号： H01J37/32211 , G01N23/225 , H01J37/32357 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446
摘要： 고도의 정확성 및 신뢰성을 가지고 높은 스루풋으로 샘플 상의 패턴의 결함을 검출할 수 있는 장치 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법이 제공된다. 전자빔 장치는, 샘플을 1차 전자빔으로 조사하고, 샘플로부터 방출된 반사 전자의 이미지를 검출기에 형성하여 샘플 표면을 관찰 또는 평가하는 매핑 투영식 전자빔 장치이다. 전자 충돌식 CCD 또는 전자 충돌식 TDI와 같은 전자 충돌식 검출기가 반사 전자를 검출하는 검출기로 사용된다. 반사 전자는 반사 전자와 샘플로부터 방출된 2차 전자간의 에너지 차로부터 선택적으로 검출된다. 1차 전자빔을 조사하여 샘플 표면이 대전되는 것을 피하기 위하여, 샘플 표면이 샘플 위에 위치된 커버로 덮이고, 가스가 커버로 덮인 샘플 위의 공간에 공급된다. 가스는 샘플 표면과 접촉하여 샘플 표면상의 대전 상태를 감소시킨다.

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