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1. 发明授权

KR101809343B1 마이크로리소그래픽 장치 有权
标题翻译：微刻光刻装置
公开(公告)号：KR101809343B1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：KR1020157028411
申请日：2013-03-13
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 비트너보리스 , 바브라노르베르트 , 슈나이더소냐 , 슈나이더리카르다 , 호덴베르크마르틴폰 , 바그너헨드릭 , 일리에프루멘
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70891
摘要： 마이크로리소그래픽투영노광장치의투영대물부는투영광이통과하는두 개의반대측광학표면(46, 48)과두 개의광학표면(46, 48) 사이에서연장되는원주방향림 표면(50)을구비하는미러기판(44; 44a, 44b)을포함하는파면보정장치(42)를포함한다. 제1 및제2 광학시스템(OS1, OS2)이제1 및제2 가열광(HL1, HL2)의적어도일부분이미러기판(44; 44a, 44b)에들어가도록상기제1 및제2 가열광을림 표면(50)의다양한부분에지향시키도록구성된다. 가열광(HL1, HL2)의부분적인흡수에의해유발되는온도분포는파면오차를보정하는굴절률분포를미러기판(44; 44a, 44b) 내부에생성한다. 적어도제1 광학시스템(OS1)은초점영역(56)으로부터나오는제1 가열광이림 표면(50)에입사하도록제1 가열광을초점영역(56)에집속시키는집속광학요소(55)를포함한다.
摘要翻译：具有微光刻两个侧光学面（46，48）源厨房hyangrim表面50的光学面（46，48），用于穿过所述图形投影曝光装置中的投影物镜部分投射光的髁之间延伸的相对的反射镜衬底（44; 44a，44b）。第一和第二光学系统OS1和OS2第一和第二光学系统OS1和OS2以第一和第二加热光HL1和HL2照射到边缘表面50的方式布置如图所示。由加热光HL1和HL2的部分吸收引起的温度分布在镜基板44（44a和44b）内部产生用于校正波前误差的折射率分布。至少第一光学系统OS1包括聚焦光学元件55，该聚焦光学元件55将第一加热光聚焦到聚焦区域56上，以便入射到从聚焦区域56出来的第一加热光出射面50上。

2. 发明公开

KR1020140130117A EUV 마이크로리소그래피용 투영 렌즈, 필름 요소 및 필름 요소를 포함하는 투영 렌즈를 생산하는 방법 审中-实审
标题翻译：用于EUV微结构，电影元件的投影镜头和制作包含电影元件的投影镜头的方法
公开(公告)号：KR1020140130117A
公开(公告)日：2014-11-07
申请号：KR1020147022045
申请日：2013-02-08
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 바브라노르베르트 , 슈나이더쏘냐 , 슈나이더리카르다 , 바그너헨드릭 , 발트크리스티앙 , 일리에프루멘 , 식케탄츠토마스 , 그루너토랄프 , 파울스발터 , 슈밋트홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0896 , G03F7/70191 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G21K1/062 , Y10T29/49826
摘要： 본 발명에 따르면, 극자외 범위(EUV)로부터 작동 파장(λ)을 갖는 전자기 방사에 의해 투영 렌즈의 이미지 평면(IS) 내로 투영 렌즈의 대물 평면(OS) 내에 배열된 패턴을 결상하기 위한 투영 렌즈(PO)는, 대물 평면 내에 배열된 패턴이 밀에 의해 이미지 평면에 결상될 수 있는 방식으로 대물 평면과 이미지 평면 사이의 투영 비임 경로 내에 배열되는 미러 표면을 갖는 다수의 미러(M1 내지 M6)를 포함한다. 지정된 파면 보정 장치(WFC)는 필름을 갖는 필름 요소(FE)를 포함하며, 상기 필름은 파면 보정 디바이스의 작동 모드에서 투영 비임 경로 내에 배열되고 작동 파장(λ)에서 광학적 사용 영역 내에 충돌하는 EUV 방사의 대부분을 투과시킨다. 필름 요소는 제1 복소 굴절률 n
1 = (1-δ
1 ) + iβ
1 을 가지며 제1 층 두께 프로파일에 따라 상기 사용 영역에 걸쳐 국소적으로 변경되는 제1 광학 층 두께를 갖는 제1 층 재료로 구성되는 제1 층과, 제2 복소 굴절률 n
2 = (1-δ
2 ) + iβ
2 를 가지며 제2 층 두께 프로파일에 따라 상기 사용 영역에 걸쳐 국소적으로 변경되는 제2 광학 층 두께를 갖는 제2 층 재료로 구성되는 제2 층을 포함하고, 제1 층 두께 프로파일 및 제2 층 두께 프로파일은 상이하다. 1로부터의 제1 굴절률의 실수 부분의 편차(δ
1 )는 제1 층 재료의 흡수율(β
1 )에 비해 크고, 1로부터의 제2 굴절률의 실수 부분의 편차(δ
2 )는 제2 층 재료의 흡수율(β
2 )에 비해 작다.

3. 发明公开

KR1020140089356A 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈 有权
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：KR1020140089356A
公开(公告)日：2014-07-14
申请号：KR1020147011018
申请日：2011-09-29
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 첼너요하네스 , 비트너보리스 , 바브라노르베르트 , 호덴베르크마르틴폰 , 슈나이더조냐 , 슈나이더리카르다 , 쇼브아르네 , 루돌프귄터 , 그라츠케알렉산더 , 모파트브라이스안톤
IPC分类号： G03F7/20 , H01S5/00
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70891 , H01S5/005 , H01S5/0064 , H01S5/4025 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01S5/00
摘要： 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈는 투영 광이 통과하는 2개의 대향 광학 표면(46, 48)과 두 광학 표면(46, 48) 사이에서 연장되는 원주 방향 림 표면(50)을 구비하는 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b)를 포함하는 파면 보정 장치(42)를 포함한다. 제1 및 제2 광학계(OS1, OS2)가 제1 및 제2 가열 광(HL1, HL2)의 적어도 일부분이 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b)에 들어가도록 상기 제1 및 제2 가열 광을 림 표면(50)의 상이한 부분으로 지향시키도록 구성된다. 가열 광(HL1, HL2)의 부분적인 흡수에 의해 유발되는 온도 분포는 파면 오차를 보정하는 굴절률 분포를 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b) 내부에 생성한다. 적어도 제1 광학계(OS1)는 초점 영역(56)으로부터 나오는 제1 가열 광이 림 표면(50)에 입사하도록 제1 가열 광을 초점 영역(56)에 집속시키는 집속 광학 소자(55)를 포함한다.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜包括具有折射光学元件的波前校正装置，所述折射光学元件具有投影光通过的两个相对的光学表面和在两个光学表面之间延伸的圆周边缘表面。第一和第二光学系统被配置为将第一和第二加热光引导到边缘表面的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入折射光学元件。由加热光的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件内的折射率分布，其校正波前误差。至少第一光学系统包括聚焦光学元件，其将第一加热光聚焦在焦点区域中，使得从焦点区域射出的第一加热光照射在边缘表面上。

5. 发明授权

KR101693950B1 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈 有权
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：KR101693950B1
公开(公告)日：2017-01-06
申请号：KR1020147011018
申请日：2011-09-29
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 첼너요하네스 , 비트너보리스 , 바브라노르베르트 , 호덴베르크마르틴폰 , 슈나이더조냐 , 슈나이더리카르다 , 쇼브아르네 , 루돌프귄터 , 그라츠케알렉산더 , 모파트브라이스안톤
IPC分类号： G03F7/20 , H01S5/00
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70891 , H01S5/005 , H01S5/0064 , H01S5/4025
摘要： 마이크로리소그래피투영노광장치의투영대물렌즈는투영광이통과하는 2개의대향광학표면(46, 48)과두 광학표면(46, 48) 사이에서연장되는원주방향림 표면(50)을구비하는굴절광학소자(44; 44a, 44b)를포함하는파면보정장치(42)를포함한다. 제1 및제2 광학계(OS1, OS2)가제1 및제2 가열광(HL1, HL2)의적어도일부분이굴절광학소자(44; 44a, 44b)에들어가도록상기제1 및제2 가열광을림 표면(50)의상이한부분으로지향시키도록구성된다. 가열광(HL1, HL2)의부분적인흡수에의해유발되는온도분포는파면오차를보정하는굴절률분포를굴절광학소자(44; 44a, 44b) 내부에생성한다. 적어도제1 광학계(OS1)는초점영역(56)으로부터나오는제1 가열광이림 표면(50)에입사하도록제1 가열광을초점영역(56)에집속시키는집속광학소자(55)를포함한다.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜包括具有折射光学元件的波前校正装置，所述折射光学元件具有投影光通过的两个相对的光学表面和在两个光学表面之间延伸的圆周边缘表面。第一和第二光学系统被配置为将第一和第二加热光引导到边缘表面的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入折射光学元件。由加热光的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件内的折射率分布，其校正波前误差。至少第一光学系统包括聚焦光学元件，其将第一加热光聚焦在焦点区域中，使得从焦点区域射出的第一加热光照射在边缘表面上。

6. 发明公开

KR1020150131160A 마이크로리소그래픽 장치 审中-实审
标题翻译：微型计算机
公开(公告)号：KR1020150131160A
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：KR1020157028411
申请日：2013-03-13
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 비트너보리스 , 바브라노르베르트 , 슈나이더소냐 , 슈나이더리카르다 , 호덴베르크마르틴폰 , 바그너헨드릭 , 일리에프루멘
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70891
摘要： 마이크로리소그래픽투영노광장치의투영대물부는투영광이통과하는두 개의반대측광학표면(46, 48)과두 개의광학표면(46, 48) 사이에서연장되는원주방향림 표면(50)을구비하는미러기판(44; 44a, 44b)을포함하는파면보정장치(42)를포함한다. 제1 및제2 광학시스템(OS1, OS2)이제1 및제2 가열광(HL1, HL2)의적어도일부분이미러기판(44; 44a, 44b)에들어가도록상기제1 및제2 가열광을림 표면(50)의다양한부분에지향시키도록구성된다. 가열광(HL1, HL2)의부분적인흡수에의해유발되는온도분포는파면오차를보정하는굴절률분포를미러기판(44; 44a, 44b) 내부에생성한다. 적어도제1 광학시스템(OS1)은초점영역(56)으로부터나오는제1 가열광이림 표면(50)에입사하도록제1 가열광을초점영역(56)에집속시키는집속광학요소(55)를포함한다.

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