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1. 发明公开

KR1020090052274A 노광장치 无效
公开(公告)号：KR1020090052274A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020080112521
申请日：2008-11-13
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 하야시타츠야
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/62 , G03F7/70708 , G03F7/70941 , G03F7/70033 , G03F7/70916
摘要： An exposure apparatus is configured to expose a pattern formed on an original onto a substrate using extreme ultraviolet light. The exposure apparatus includes a stage configured to move at the time of exposure, an electrostatic chuck which is provided on the stage and is configured to hold the original, an electrode which is provided outside the electrostatic chuck on the stage via an insulator, and an electric field forming member which is provided so that an absolute value of an electric potential difference with respect to the electrode is greater than an absolute value of an electric potential difference with respect to the original at a position facing the electrode. The particle adherence to the original can be effectively avoided.

2. 发明授权

KR100578262B1 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법 有权
标题翻译：用于通过真空固定掩模的装置及其曝光方法
公开(公告)号：KR100578262B1
公开(公告)日：2006-05-11
申请号：KR1020030080249
申请日：2003-11-13
申请人： 주식회사 디엠에스
发明人： 이창원 , 배용희
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/62
摘要： 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 적용한 노광장치와 노광방법이 개시된다. 그러한 대면적 마스크 고정장치는 적어도 하나 이상의 진공홀을 구비하는 흡착 글래스와, 일정 패턴을 가지며 상기 흡착 글래스 저면에 부착되는 마스크와, 상기 흡착 글래스와 상기 마스크의 사이에 소정의 공간이 형성되도록 하는 흡착패드를 포함하며, 상기 진공홀을 통하여 상기 공간내의 공기를 외부로 배출시킴으로써 상기 마스크를 안정적으로 흡착 글래스에 고정시킬 수 있다.
대면적 마스크, 진공, 노광, 패드, 흡입, 글래스

3. 发明公开

KR1020170003358A 헤이즈 방지를 위한 마스크 펠리클 표시기 有权
标题翻译：用于防止混浊的面罩薄膜指示器
公开(公告)号：KR1020170003358A
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020150168013
申请日：2015-11-27
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 린콴웬 , 친쉥치 , 수팅하오 , 초우추팅 , 우슈시엔
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64 , G03B27/62 , G03B27/6242 , G03B27/625 , G03F1/62
摘要： 펠리클마스크조립체는마스크, 펠리클프레임, 및펠리클막을포함한다. 펠리클프레임은마스크에부착된하단측과, 펠리클막에의해덮여진상단측을구비한다. 펠리클프레임은자신의내부표면상에코팅을포함하고, 코팅은펠리클마스크조립체내부의환경변화를모니터링하도록구성된다. 실시예들에서, 환경변화는펠리클마스크조립체내부에증가된습도및/또는증가된화학이온밀도를포함한다. 펠리클마스크조립체를제조하고사용하는방법들이또한개시된다.
摘要翻译：该防护膜组件包括掩膜，防护膜框架和防护膜。防护薄膜组件框架具有附接到掩模的下侧和被薄膜膜覆盖的上侧。包括在其内表面上的涂层的防护薄膜框架，该涂层被配置为监测所述面罩内层薄膜组件的环境变化。在实施例中，环境变化包括在薄膜面罩组件内增加的湿度和/或增加的化学离子密度。还公开了制造和使用薄膜面罩组件的方法。

4. 发明公开

KR1020100131919A 원고압착판 개폐장치 有权
标题翻译：打印机的打开关闭装置
公开(公告)号：KR1020100131919A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：KR1020100049494
申请日：2010-05-27
申请人： 켐 홍콩 유한회사
发明人： 히데오카토 , 테추오콘도
IPC分类号： E05F1/12 , E05F3/22
CPC分类号： E05F1/12 , E05F1/1261 , E05F3/22 , G03B27/62 , G03G15/60 , H04N1/00554
摘要： PURPOSE: An opening and closing device for a manuscript pressing plate is provided to be used for a copy machine, a printer, and a scanner and to reduce manufacturing costs. CONSTITUTION: An opening and closing device for a manuscript pressing plate comprises a mounting member(7), a support member(10), and a rotation control unit. A square pillar shaped mounting leg part(6) is formed in the mounting member. A hinge pin(9) is inserted into both sides of the mounting member. The rotation control unit is installed between the support member and the mounting member and an elastic unit(14), a roller(12), and a spring guide(15).
摘要翻译：目的：提供一种用于原稿压板的打开和关闭装置，用于复印机，打印机和扫描仪，并降低制造成本。构成：用于原稿压板的打开和关闭装置包括安装构件（7），支撑构件（10）和旋转控制单元。在该安装部件上形成有方柱状安装脚部（6）。铰链销（9）插入到安装构件的两侧。旋转控制单元安装在支撑构件和安装构件之间以及弹性单元（14），辊（12）和弹簧引导件（15）之间。

5. 发明授权

KR101056505B1 기판의 형상을 조절하기 위한 척킹 시스템 및 방법 有权
标题翻译： 기판의형상을조절하기위한척킹시스템및방
公开(公告)号：KR101056505B1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：KR1020057008538
申请日：2003-11-12
申请人： 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
发明人： 최병진 , 보이신,로날드,디. , 스리니바산,시들가타,브이. , 왓츠,마이클,피.,씨. , 밥스,다니엘,에이. , 메이슬,마리오,제이. , 베일리,힐만,엘. , 슈메이커,노르만,이.
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/62 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/6838 , H01L21/68714 , H01L21/68735
摘要： 본 발명은 제1 및 제2 대향 표면(26b, 26a)을 가지는 기판(26)의 조절 성형을 위한 척킹 시스템(40) 및 방법에 관한 것이다. 이는 기판상에 지지되는 외력으로부터 발생하는 제2 대향 표면의 구조적 왜곡을 완화시키기 위해 제1 대향 표면의 상이한 구역 사이에 압력 차이를 생성함으로써 달성된다. 이를 위해, 척킹 시스템은 제1 및 제2 대향 측면을 가지는 척 본체를 포함한다. 일 측면이 그 사이에서 연장한다. 제1 측면은 제1 및 제2 이격 지지 구역(58, 60)을 포함한다. 제1 지지 구역은 제2 지지 구역 및 제1 및 제2 리세스(52, 54)를 둘러싸고 있다. 제2 지지 구역은 제2 리세스와 중첩하는 본체의 부분이 미리 결정된 파장을 갖는 방사선에 투명한 상태로 제2 리세스를 둘러싼다. 제2 측면 및 측면은 외부면을 형성한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调节具有第一（26b）和第二相对表面（26a）的基板（26）的形状的夹紧系统（40）和方法。这是通过在第一相对表面的不同区域之间产生压力差来实现的，以衰减第二相对表面中由承载在衬底上的外力引起的结构变形。为此目的，夹紧系统包括具有第一和第二相对侧面的卡盘主体。侧表面在其间延伸。第一侧包括第一（58）和第二（60）间隔开的支撑区域。第一支撑区域包围第二支撑区域和第一凹陷（52）和第二凹陷（54）。第二支撑区域包围第二凹陷，其中与第二凹陷重叠的主体的一部分对具有预定波长的辐射是透明的。第二面和侧面限定了外表面。

6. 发明公开

KR1020080114678A 임프린트 리소그래피 시스템 有权
标题翻译： IMPRINT LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR1020080114678A
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：KR1020087016346
申请日：2007-04-03
申请人： 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
发明人： 스레니바산,시들가타브이. , 슈메이커,필립디. , 맥맥킨,이안엠.
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/62 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/42 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/7042 , G03F9/7076 , G03F9/7084 , B29C59/022
摘要： The present invention is directed towards a choice of the shape of the patterned fields for Level 0 (patterned by imprint or photolithography or e-beam, etc.) and Level 1 (patterned by imprint) such that these shapes when tessellated together eliminate the open areas causes by the moats. ® KIPO & WIPO 2009
摘要翻译：本发明涉及用于0级（通过压印或光刻或电子束等图案化）和1级（通过印记图案化）的图案化场的形状的选择，使得当一起镶嵌时这些形状消除了开放地区由护城河引起。 ®KIPO＆WIPO 2009

7. 发明公开

KR1020050086591A 기판의 형상을 조절하기 위한 척킹 시스템 및 방법 有权
标题翻译：一种用于调制基板形状的切割系统和方法
公开(公告)号：KR1020050086591A
公开(公告)日：2005-08-30
申请号：KR1020057008538
申请日：2003-11-12
申请人： 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
发明人： 최병진 , 보이신,로날드,디. , 스리니바산,시들가타,브이. , 왓츠,마이클,피.,씨. , 밥스,다니엘,에이. , 메이슬,마리오,제이. , 베일리,힐만,엘. , 슈메이커,노르만,이.
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/62 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/6838 , H01L21/68714 , H01L21/68735
摘要： The present invention is directed to a chucking system (40) and method for modulating shapes of a substrate (26), having first (26b) and second opposed surfaces (26a). This is achieved by creating a pressure differential between differing regions of the first opposed surface to attenuate structural distortions in the second opposed surface that results from external forces bearing on the substrate. To that end, the chucking system includes a chuck body having first and second opposed sides. A side surface extends therebetween. The first side includes first (58) and second (60) spaced-apart support regions. The first support region cinctures the second support region and the first (52) and second (54) recesses. The second support region cinctures the second recess, with a portion of the body in superimposition with the second recess being transparent to radiation having a predetermined wavelength. The second side and the side surface define exterior surfaces.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调制具有第一（26b）和第二相对表面（26a）的基底（26）的形状的夹持系统（40）和方法。这是通过在第一相对表面的不同区域之间产生压差来减少第二相对表面中由轴承在基底上的外力产生的结构变形来实现的。为此，夹紧系统包括具有第一和第二相对侧的卡盘体。侧面在其间延伸。第一侧包括第一（58）和第二（60）间隔开的支撑区域。第一支撑区域使第二支撑区域和第一支撑区域（52）和第二凹陷区域（54）分开。第二支撑区域使第二凹部成像，其中身体的与第二凹部重叠的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。第二面和侧面限定外表面。

8. 发明授权

KR101714264B1 헤이즈 방지를 위한 마스크 펠리클 표시기 有权
标题翻译：防雾防护面罩指示器
公开(公告)号：KR101714264B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020150168013
申请日：2015-11-27
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 린콴웬 , 친쉥치 , 수팅하오 , 초우추팅 , 우슈시엔
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64 , G03B27/62 , G03B27/6242 , G03B27/625 , G03F1/62
摘要： 펠리클마스크조립체는마스크, 펠리클프레임, 및펠리클막을포함한다. 펠리클프레임은마스크에부착된하단측과, 펠리클막에의해덮여진상단측을구비한다. 펠리클프레임은자신의내부표면상에코팅을포함하고, 코팅은펠리클마스크조립체내부의환경변화를모니터링하도록구성된다. 실시예들에서, 환경변화는펠리클마스크조립체내부에증가된습도및/또는증가된화학이온밀도를포함한다. 펠리클마스크조립체를제조하고사용하는방법들이또한개시된다.
摘要翻译：防护薄膜组件包括掩模，防护薄膜框架和防护薄膜。防护膜框架具有附接到掩模的底侧和由防护薄膜覆盖的顶侧。防护薄膜框架在其内表面上包括涂层，并且涂层被配置为监测防护薄膜组件中的环境变化。在实施方案中，环境变化包括防护薄膜组件中的增加的湿度和/或增加的化学离子密度。还公开了制造和使用防护薄膜组件的方法。

9. 发明公开

KR1020140018106A 계측장치, 리소그래피 장치, 및 물품의 제조방법 无效
标题翻译：测量装置，光刻装置和制品制造方法
公开(公告)号：KR1020140018106A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：KR1020130086715
申请日：2013-07-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오카다요시유키
IPC分类号： G01D3/032 , G01D5/244 , G03F7/20 , G01D5/245
CPC分类号： G01B7/14 , G01B11/026 , G03B27/62 , G03F7/70775
摘要： A measuring device according to the present invention is to measure a location of an object based on a first phase signal and a second phase signal which have different phases. The measuring device comprises a generation unit to generate a difference signal for displaying a difference between a delay time of a first phase signal and a delay time of a second phase signal according to a variation and a frequency between the first phase signal and the second phase signal which corresponds to at least one frequency in the first phase signal and the second phase signal; and an adjustment unit to adjust at least one sampling timing in the first phase signal and the second phase signal according to the difference signal.
摘要翻译：根据本发明的测量装置是基于具有不同相位的第一相位信号和第二相位信号来测量对象的位置。该测量装置包括：生成单元，用于根据第一相位信号和第二相位之间的变化和频率，产生用于显示第一相位信号的延迟时间和第二相位信号的延迟时间之间的差的差分信号信号，其对应于第一相位信号和第二相位信号中的至少一个频率; 以及调整单元，用于根据差分信号调整第一相位信号和第二相位信号中的至少一个采样定时。

10. 发明授权

KR101357815B1 임프린트 리소그래피 시스템 有权
标题翻译： IMPRINT LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR101357815B1
公开(公告)日：2014-02-04
申请号：KR1020087016346
申请日：2007-04-03
申请人： 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
发明人： 스레니바산,시들가타브이. , 슈메이커,필립디. , 맥맥킨,이안엠.
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/62 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/42 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/7042 , G03F9/7076 , G03F9/7084
摘要： 본 발명은 함께 모자이크를 이룰 때 해자에 의해서 생긴 개방 영역이 제거될 수 있도록 하는 레벨 0(임프린트 또는 포토리소그래피 또는 e-빔 등에 의해서 패턴화) 및 레벨 1(임프린트에 의해서 패턴화)을 위한 패턴화 필드의 모양을 선택하는 것에 관한 것이다.
임프린트 리소그래피, 해자, 개방영역, 패턴화 필드

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