专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR20180065003A 챔버 매칭 및 모니터링을 위한 방법 및 시스템 审中-公开
公开(公告)号：KR20180065003A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：KR20170166898
申请日：2017-12-06
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3299 , G01J3/443 , G01N21/73 , H01J37/32183 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H01J37/32981 , H01J2237/24507 , H01J2237/24585 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L22/26
摘要： 플라즈마챔버를모니터링하기위한방법및 시스템이제공된다. 상기방법은플라즈마챔버로부터공정챔버특성을수신하는단계; 공정챔버특성과관련된하나이상의변수들이미리결정된명세내에있는지여부를결정하는단계를포함한다. 상기방법은상기챔버특성이미리결정된명세내에있지않을때 상기플라즈마챔버의상태를고장으로업데이트하는단계를더 포함한다. 상기방법은챔버특성이미리결정된명세내에있을때와결함검출시스템으로부터수신된플라즈마챔버의동작상태가고장을나타낼때 경고통지를발생한다.

2. 发明公开

KR1020170108793A 다결정성 규소의 표면 및 표면 아래 내의 금속을 확인하기 위한 낮은 수준의 불순물 검출 방법 审中-实审
标题翻译：低水平的杂质检测方法，用于识别多晶硅表面和表面以下的金属
公开(公告)号：KR1020170108793A
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：KR1020160178633
申请日：2016-12-23
申请人： 헴로크 세미컨덕터 오퍼레이션즈 엘엘씨
发明人： 프루니에아담 , 크레조우스키더글라스 , 퓰3세칼
IPC分类号： G01N15/10 , H01J49/10 , G01N1/04
CPC分类号： G01N21/94 , G01N21/73 , G01N27/626 , G01N30/8675 , G01N33/20 , G01N2033/0095 , H01L21/30604
摘要： 규소제품상의금속불순물을정량화는방법으로서, 상기방법은상기규소제품샘플을얻는단계; 규소제품의표면을에칭하거나화학적으로처리하여, 사전결정된양의규소제품매쓰를제거하는단계; 및 ICP-MS, ICP-OES, IC 검사측정기술, 또는상기언급한검사측정기술들중 하나이상을포함하는조합으로부터선택되는검사측정기술을사용하여상기에칭된분획을금속불순물의존재에대하여검사및 측정하는단계를포함하고, 상기금속불순물은나트륨, 마그네슘, 니켈, 구리, 아연, 몰리브덴, 텅스텐, 알루미늄, 칼륨, 칼슘, 티타늄, 크롬, 망간, 철, 코발트, 또는상기언급한금속들중 하나이상을포함하는조합으로부터선택되는, 규소제품상의금속불순물을정량하는방법.
摘要翻译：一种用于量化硅产品上的金属杂质的方法，该方法包括：获得硅产品样品; 蚀刻或化学处理硅产品的表面以除去预定量的硅产品物质; 并且从包括ICP-MS，ICP-OES，IC测试测量技术或包括上述测试测量技术中的至少一种的组合中选择的测试测量技术用于检查蚀刻部分是否存在金属杂质其中金属杂质选自钠，镁，镍，铜，锌，钼，钨，铝，钾，钙，钛，铬，锰，铁，钴，其中金属杂质选自包括以下的组合：

3. 发明公开

KR1020170007368A 금속 시료 중의 질소의 분석 방법, 금속 시료 중의 질소의 분석 장치, 용강 중의 질소 농도 조정 방법 및 강의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于分析金属样品中用于分析硝酸的金属样品中的氮的方法用于调节在钢中的氮浓度和钢的生产方法
公开(公告)号：KR1020170007368A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：KR1020167034468
申请日：2015-05-14
申请人： 제이에프이 스틸 가부시키가이샤
发明人： 키노시로사토시 , 이노세마사오
IPC分类号： G01N21/67
CPC分类号： G01N21/67 , B22D11/001 , B22D11/108 , B22D11/11 , B22D11/16 , C21C7/10 , C22C38/002 , C22C38/02 , C22C38/04 , G01N21/73 , G01N33/0036 , G01N33/203 , G01N33/206
摘要： 금속시료중의질소의함유율을정확하고저 비용으로정량하는금속시료중의질소의분석방법, 금속시료중의질소분석장치, 용강중의질소농도조절방법및 강의제조방법을제공한다. 본발명의금속시료중의질소의분석방법은, 질소성분을함유하는금속시료를아르곤가스분위기하에서임펄스가열에의해용융시키고, 상기질소성분을기화시키는용융공정과, 전기용융공정에의해생성하는질소가스및 상기아르곤가스를기체방전발광법에의한분석하고, 상기금속시료중의질소를정량하는분석공정을가진다. 이상의분석방법에의해용강으로부터채취한시료의질소농도를분석하고, 분석에의해얻어진질소분석치에의해질소농도를조정하는처리조건을결정하고, 용강중의질소농도를조정한다.
摘要翻译：提供：分析金属样品中的氮的方法，由此可以低成本精确量化金属样品中的氮含量; 用于分析金属样品中的氮的装置; 一种调整钢水中氮浓度的方法; 和钢铁生产方法。这种用于分析金属样品中的氮的方法是：通过使用脉冲加热将含氮成分的金属样品在氩气环境中熔融并使氮成分蒸发的熔融步骤; 以及使用气体放电和发光方法分析在熔融步骤和氩气中产生的氮气并分析金属样品中的氮的分析步骤。作为该分析方法的结果，分析从熔融金属中取出的样品的氮浓度，根据作为分析结果得到的氮分析值来确定氮浓度的调节条件，氮浓度调整熔融金属。

4. 发明公开

KR1020150099462A 플라즈마 분광 분석 방법 审中-实审
标题翻译：等离子体光谱法
公开(公告)号：KR1020150099462A
公开(公告)日：2015-08-31
申请号：KR1020150024399
申请日：2015-02-17
申请人： 아크레이 가부시키가이샤
发明人： 다나카다카시게 , 시라키야스노리 , 구도아키츠구
IPC分类号： G01N21/73 , G01N21/66 , H05H1/46
CPC分类号： G01N21/73 , G01N21/66 , H05H1/46
摘要： 본 발명은 플라즈마 발광의 재현성이 높은 플라즈마 분광 분석 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 플라즈마 분광 분석 방법은, 인가에 의해 발생한 플라즈마의 발광을 검출하는 검출 공정과, 플라즈마의 발광을 검출하지 않는 비검출 공정을 포함하고, 상기 검출 공정과 상기 비검출 공정을 반복하여 행하는 방법으로서, 상기 검출 공정에 있어서, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 공정과 플라즈마를 발생시키지 않는 플라즈마 비발생 공정을 교대로 행하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 플라즈마 발광의 재현성을 향상시킬 수 있다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种具有高等离子体发光重现性的等离子体光谱法。根据本发明的等离子体光谱测定方法包括：检测由施加电压产生的等离子体发光的检测过程; 以及不检测等离子体发光的非检测处理。等离子体光谱法重复执行检测处理和非检测处理。检测过程交替地执行产生等离子体的等离子体产生处理和不产生等离子体的等离子体非生成处理。因此，可以提高等离子体发光的再现性。

5. 发明公开

KR1020150052310A 바이오칩 상의 생체분자 타겟들의 정량적 LIBS 측정을 위한 방법 및 디바이스 审中-实审
标题翻译：生物分子生物学分析目标定量测定方法与装置
公开(公告)号：KR1020150052310A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020157009164
申请日：2013-09-13
申请人： 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈
发明人： 꿀롱나딘 , 위고랭니꼴라 , 팔끄까롤린 , 르페브르에밀리 , 슈빌라르실비
IPC分类号： G01N21/71 , G01N21/73
CPC分类号： G01N21/718 , G01N21/714 , G01N21/73 , G01N33/6803 , G01N2201/06113 , G01N2333/4731 , G01N2570/00
摘要： 바이오칩에포함된적어도하나의타겟 (201) 의레이저빔에의해유도된플라즈마의광 방출분광학에의한정량적분석을위한방법으로서, 상기적어도하나의타겟 (203) 과동시에제거될수 있는건조매트릭스 (203) 의형성을가능하게하는보조제 (202) 의사용을수반하는것을특징으로하고, 건조매트릭스 (203) 는플라즈마의분석특성들을개선시키도록구성되고, 보조제 (202) 는방출스펙트럼을갖고그 방출스펙트럼은상기적어도하나의타겟 (201) 의정량적분석에사용된스펙트럼선들의파장들과는다른파장들을갖는다.

6. 发明公开

KR1020110064455A 아이시피-에이이에스에 의한 산화가돌리늄 함량 측정법 有权
标题翻译：氧化钆（III）的内容测量方法
公开(公告)号：KR1020110064455A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：KR1020090121072
申请日：2009-12-08
申请人： 한전원자력연료 주식회사
发明人： 박찬준 , 강필상 , 박철주 , 고범식 , 이준노 , 김형중
IPC分类号： G01N21/71 , G01N1/28
CPC分类号： G01N21/73 , G01N33/222
摘要： PURPOSE: A gadolinium oxide measurement of content method by ICP-AES is provided to reduce a sample setup time using a small amount of sample. CONSTITUTION: A gadolinium oxide measurement of content method by ICP-AES is as follows. Gadolinium sinter is put into a pulverizing device and shatters into pieces(S1). The pulverized sample is heated and melted in acid solution(S2). Gadolinium oxide dissolving is diluted to distilled water(S3). The mass of the gadolinium element and uranium element is measured by ICP-AES in the diluted gadolinium oxide solution(S5). After the molar fraction of the gadolinium is calculated from the diluted gadolinium oxide(S6), the content of the gadolinium oxide is calculated by using the molar fraction of the gadolinium calculating(S7).
摘要翻译：目的：通过ICP-AES对含量方法的氧化钆进行测量，以减少使用少量样品的样品建立时间。构成：通过ICP-AES对含量方法的氧化钆测定如下。将钆烧结体放入粉碎装置中粉碎成片（S1）。将粉碎的样品在酸性溶液中加热并熔融（S2）。将溶解的氧化钆稀释成蒸馏水（S3）。通过ICP-AES在稀释的氧化钆溶液中测量钆元素和铀元素的质量（S5）。从稀释的氧化钆计算出钆的摩尔分数（S6）后，通过使用钆计算的摩尔分数来计算钆氧化物的含量（S7）。

7. 发明公开

KR1020080094655A 플라즈마 발생 유도 장치 有权
标题翻译：用于产生等离子体的感应装置
公开(公告)号：KR1020080094655A
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：KR1020087008044
申请日：2006-08-30
申请人： 퍼킨엘머, 인크.
发明人： 모리스로에,피터,제이.
IPC分类号： G01N21/73 , G01J3/30
CPC分类号： G01N21/73 , G01J3/443 , G01N21/68 , G01N2201/126 , H01J49/105
摘要： A device for sustaining a plasma in a torch is provided. In certain examples, the device comprises a first electrode configured to couple to a power source and constructed and arranged to provide a loop current along a radial plane of the torch. In some examples, the radial plane of the torch is substantially perpendicular to a longitudinal axis of the torch.
摘要翻译：提供了一种用于在割炬中维持等离子体的装置。在某些示例中，该装置包括被配置为耦合到电源并被构造和布置成沿着焊炬的径向平面提供回路电流的第一电极。在一些示例中，焊炬的径向平面基本上垂直于焊炬的纵向轴线。

8. 发明授权

KR101386017B1 플라즈마 발생 유도 장치 有权
标题翻译：用于产生等离子体的感应装置
公开(公告)号：KR101386017B1
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：KR1020087008044
申请日：2006-08-30
申请人： 퍼킨엘머, 인크.
发明人： 모리스로에,피터,제이.
IPC分类号： G01N21/73 , G01J3/30
CPC分类号： G01N21/73 , G01J3/443 , G01N21/68 , G01N2201/126 , H01J49/105
摘要： 토치에서 플라즈마를 유지하는 장치가 제공된다. 특정 실시예에서, 장치는 전원에 연결되도록 구성되고, 상기 토치의 방사면을 따라 루프 전류를 제공하도록 구성되고 배열된 제 1 전극을 포함한다. 임의의 실시예에서, 상기 토치의 방사면은 상기 토치의 종축에 실질적으로 수직이다.
플라즈마 발생 장치, 전극, 접지 플레이트, 토치
摘要翻译：提供了一种用于在割炬中维持等离子体的装置。在某些示例中，该装置包括被配置为耦合到电源并被构造和布置成沿着焊炬的径向平面提供回路电流的第一电极。在一些示例中，焊炬的径向平面基本上垂直于焊炬的纵向轴线。

9. 发明授权

KR101347901B1 실질적 무산소 및 무질소 플라즈마 애싱 공정에서 산소 종 또는 질소 종 중 하나 이상의 종의 레벨을 모니터링하는 방법 有权
标题翻译：用于监测氧化和/或氮物质在大量氧气和无氮等离子体吸附过程中的含量的方法
公开(公告)号：KR101347901B1
公开(公告)日：2014-01-07
申请号：KR1020087025712
申请日：2007-03-09
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 사크티벨,파라니쿠마란 , 버클리,토마스 , 벡넬,알랜
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , G03F7/42
CPC分类号： G03F7/427 , G01N21/73 , H01J37/32972 , H01L21/31138
摘要： 실질적 무산소 및 무질소 플라즈마 애싱 공정에서 산소 또는 질소 중 적어도 어느 하나의 레벨을 모니터링하는 방법은 광학적 방출을 사용하여 플라즈마를 모니터링하는 단계를 포함한다. 플라즈마 내의 일반적으로 풍부한 다른 종에 존재하는 낮은 레벨의 산소 또는 질소 중 적어도 어느 하나의 종에 의해 생성되는 효과가 모니터링되고 플라즈마 내에 존재하는 산소와 질소의 양과 상호 관련된다. 이러한 소위 "효과 검출" 공정은 미소한 산소 또는 질소 중 적어도 어느 하나의 종의 존재로 인해 질소 및/또는 산소 이외의 종과 관련된 스펙트럼 내의 섭동을 모니터링하며 1 ppm 정도 및 잠재적으로 1 ppb 정도의 민감도에서 산소 또는 질소 중 적어도 어느 하나의 양을 양적으로 결정하는데 사용된다.

10. 发明授权

KR101198205B1 반응 환경에서 뷰포트 창에 창 클라우딩 효과를 감소시키는 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于减少窗体云在影响环境中的视口窗口的影响的方法和装置
公开(公告)号：KR101198205B1
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020097022041
申请日：2008-04-29
申请人： 베러티 인스트루먼트, 인코퍼레이티드
发明人： 하베리케네스시
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/02
CPC分类号： G01J5/02 , G01J5/0007 , G01J5/026 , G01J5/04 , G01J5/08 , G01J5/0859 , G01J5/0875 , G01J5/0893 , G01N21/15 , G01N21/359 , G01N21/55 , G01N21/73 , G01N2021/151 , G01N2021/8411
摘要： 다채널 어레이 구조가 제공되며, 창 클라우딩을 야기하는 입자 흐름을 방지하기 위하여 다채널 어레이 내부에 점섬 유동을 수립하는 메커니즘을 제공한다. 공정 체적의 적어도 일부를 바라보기 위해 챔버를 따라 형성된 뷰포트 창을 가진 공정 체적 내부에 공정 압력을 형성하기 위해 공정 챔버가 제공된다. 유입 포트가 공정 체적 내로 공정 가스의 유동을 받아들이기 위해 공정 체적 쪽으로 공정 챔버 내에 배치되고, 유출 포트가 공정 체적으로부터 가스의 유속을 뽑아내기 위해 공정 체적 쪽으로 공정 챔버 내에 배치된다. 다채널 어레이(MCA)가 뷰포트 창과 공정 챔버의 공정 체적 사이에 배치된다. MCA는 복수 개의 채널을 구비하고, 각각의 채널은 직경과 길이를 구비한다. 창 챔버는 뷰포트 창과, 챔버 체적으로 가스를 받아들이기 위해 챔버 창 포트를 구비한 MCA 사이에 형성된다. 물질이 창 챔버로 들어가서 창에 둘러붙는 것을 방지하는 MCA 채널의 창 측에 점섬 유동이 형성된다. 점성 유동은 챔버 창 포트를 경유하여 창 챔버에서의 압력을 증가시킴으로써 확립된다. 창 챔버 압력은 공정 압력을 초과하나, 공정 체적으로부터의 가스 유속을 실질적으로 증가시키기에는 충분하지 않다. 점성 유속은 공정 체적으로 들어가는 공정 가스의 유동보다는 상당히 낮다.
클라우딩, 창, 반응 환경, 뷰포트 창

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式