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1. 发明授权

KR101355301B1 공기중 생물학적 입자를 검출하기 위한 검출 장치 및 검출 방법 有权
标题翻译：检测航空生物颗粒的检测装置和方法
公开(公告)号：KR101355301B1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：KR1020127024879
申请日：2010-07-07
申请人： 샤프 가부시키가이샤
发明人： 후지오카카즈시 , 반카즈오 , 마츠이노리에 , 오쿠노히로키
IPC分类号： C12M1/34 , C12Q1/06
CPC分类号： G01N15/0612 , G01N1/44 , G01N15/0637 , G01N21/0332 , G01N21/6486 , G01N2015/0046 , G01N2015/0065 , G01N2015/0681
摘要： 검출 장치(100A)에서, 유입구(10) 및 배출구(11)는 개방되고 공기 도입 기구(50)는 공기를 케이스(5)에 도입하도록 구동되고, 공기중 입자들은
포집 지그(12)에 전기적으로 유인되어 유지된다. 도입 후, 유입구 및 배출구는 폐쇄되고, 발광 소자(6)로부터 방출된 광이 조사됨으로 인해 수광 소자(9)에 의해 수광된 형광 양이 측정 유닛(40)에 의해 측정된다. 그 후, 상기 포집 지그는 히터(91)에 의해 가열되고 가열 후 형광 양이 측정 유닛에 의해 측정된다. 가열 전후의 형광 양의 변화량에 기초하여, 포집 지그에 의해 포집된 미생물의 양이 측정 유닛에서 계산된다.

2. 发明公开

KR1020070009276A 반도체 제조 장치 및 파티클 모니터링 방법 失效
标题翻译：用于制造半导体的装置和用于研究颗粒的方法
公开(公告)号：KR1020070009276A
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：KR1020050064413
申请日：2005-07-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박일정
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N15/0205 , G01N15/0612 , G01N21/47 , G01N21/94
摘要： A semiconductor manufacturing device and a particle monitoring method are provided to detect the existence of particles in a process chamber in real time by installing a light source and a light receiver in a chamber of the semiconductor manufacturing device. A semiconductor manufacturing device includes a chamber(110) performing a predetermined semiconductor process, a light source(130) emitting light into the chamber, a light receiver(140) measuring intensity of light incident upon the light receiver, a first controller(150) comparing the measured intensity of the light incident upon the light receiver with a preset reference value, and a second controller(160) determining whether to perform the predetermined semiconductor process based on an output from the first controller.
摘要翻译：提供半导体制造装置和粒子监测方法，通过将光源和光接收器安装在半导体制造装置的腔室中来实时检测处理室中的颗粒的存在。一种半导体制造装置，包括执行预定半导体处理的腔室（110），将光发射到腔室中的光源（130），测量入射在光接收器上的光的强度的光接收器（140），第一控制器（150）将入射在光接收机上的光的测量强度与预设参考值进行比较;以及第二控制器（160），其基于来自第一控制器的输出来确定是否执行预定半导体处理。

3. 发明公开

KR1020160040746A 먼지 센서, 먼지 측정 장치, 로봇 청소기 및 그들의 제어 방법 无效
标题翻译：尘埃传感器，尘埃测量装置，机器清洁器及其控制方法
公开(公告)号：KR1020160040746A
公开(公告)日：2016-04-15
申请号：KR1020140129107
申请日：2014-09-26
申请人： 에브리봇 주식회사
发明人： 허주표 , 김성균 , 이기용 , 정지훈
IPC分类号： G01N21/27 , G01N21/94 , G01N15/00 , G01J1/00 , B25J19/02 , A47L9/28 , B25J9/16 , G05D1/02
CPC分类号： A47L9/2815 , A47L9/2826 , A47L9/2852 , A47L9/2894 , A47L11/4011 , A47L2201/06 , G01J1/00 , G01N15/0612 , G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N21/94 , G01N2015/0046 , G01N2021/0112
摘要： 먼지측정장치가개시된다. 본먼지측정장치는, 본체, 본체의개구부를통하여외부에노출되어외부에존재하는먼지가쌓이는윈도우부, 윈도우부에광을방출하는발광부, 윈도우부에서반사된광을수신하는수광부및 방출광의세기와수신광의세기를기초로윈도우부에쌓여있는먼지의양을측정하는제어부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种粉尘测量装置。尘埃测量装置包括：主体; 窗户部分通过主体的开口部分暴露于外部，在该开口部分堆积有灰尘; 向窗部发射光的发光部; 受光部，其接收从所述窗部反射的光; 以及控制部，其基于发射光的强度和所接收的光来测量堆积在窗户部分上的灰尘的量。

4. 发明公开

KR1020110132411A 대기중의 강하 매진 수평 유속의 연속식 계측 장치 및 계측 방법 有权
标题翻译：用于连续测量大气中沉淀颗粒物的水平通量的装置和方法
公开(公告)号：KR1020110132411A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：KR1020117022741
申请日：2010-04-01
申请人： 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤
发明人： 이또오노부아끼
IPC分类号： G01N15/06 , G01N15/00 , G01N1/02 , G01N1/20
CPC分类号： G01N15/0612 , G01N1/2208 , G01N1/2211 , G01N15/0255 , G01N15/0606 , G01N15/0625 , G01N15/0637
摘要： 이 대기중의 강하 매진의 수평 유속을 연속적으로 계측하는 장치는, 천판, 측벽 및 4매 이상의 구획판을 갖는 매진 채취구와, 흡기관과, 단위 시간당 매진량을 연속적으로 계측하는 연속식 매진량 계측 장치와, 블로워 또는 압축기와, 배기구를 구비하고, 상기 측벽은 연직 방향의 중심축을 갖고, 상방을 향하여 넓어지는 본질적으로 원뿔대 또는 다각형뿔대의 측면의 형상을 갖는 판이고, 상기 측벽은 그 하단부에 상기 흡기관과 접속되는 흡기구와, 그 상단부 근방의 일정한 높이에 상기 측벽의 둘레 방향에 일정 간격으로 배치된 4개소 이상의 개구를 갖는 외기 유입구를 갖는다.

5. 发明授权

KR101145915B1 다단 임팩터 모듈을 구비한 입자 측정 장치 有权
标题翻译：带级联模块的Paticle测量装置
公开(公告)号：KR101145915B1
公开(公告)日：2012-05-15
申请号：KR1020100073541
申请日：2010-07-29
申请人： (주)에이치시티
发明人： 권용택 , 최정석 , 안진홍 , 정혁
IPC分类号： G01N15/14 , G01N15/02 , G01N21/85
CPC分类号： G01N15/0255 , G01N15/0612 , G01N2015/0261
摘要： 본 발명은 다단 임팩터 모듈을 구비한 입자 측정 장치에 관한 것으로, 다단 임팩터 모듈에 의해 외부 공간의 입자를 강제 흡입하여 일정 흐름을 유도하고 흡입되어 유동하는 입자와 충돌하여 발생하는 산란광을 이용하여 입자의 분포 상태를 실시간으로 측정할 수 있고, 아울러 내부로 흡입된 입자를 다단 임팩터 모듈을 통해 크기에 따라 단계적으로 포집하여 입자에 대한 성분 분석을 종류별로 분리하여 수행할 수 있게 하는 입자 측정 장치를 제공한다.

6. 发明授权

KR100684903B1 반도체 제조 장치 및 파티클 모니터링 방법 失效
标题翻译：用于制造半导体的装置和用于研究颗粒的方法
公开(公告)号：KR100684903B1
公开(公告)日：2007-02-20
申请号：KR1020050064413
申请日：2005-07-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박일정
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N15/0205 , G01N15/0612 , G01N21/47 , G01N21/94
摘要： 본 발명은 반도체 제조 장치 및 파티클 모니터링 방법에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 제조 장치는 소정의 반도체 프로세스를 진행하는 챔버와, 상기 챔버의 내부로 광을 입사시키는 광원과, 상기 광원으로부터 입사되어 산란된 광을 감지하고 상기 산란된 광의 강도값을 측정하는 수광부와, 상기 산란된 광의 강도값과 이미 설정된 기준값과의 대소를 판별하는 제1 컨트롤러와, 상기 반도체 프로세스의 진행 여부를 결정하는 제2 컨트롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 파티클 모니터링 방법은 반도체 프로세스를 진행하고 이와 병행하여 레이저 광을 입사시키는 단계, 상기 입사된 광에서 산란된 광의 강도값을 측정하는 단계와, 상기 산란된 광의 강도값을 이미 설정된 기준값과 비교하는 단계, 상기 산란된 광의 강도값이 상기 기준값보다 큰 경우 상기 반도체 프로세스를 인터록하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
반도체, 웨이퍼, 파티클, 레이저 광, 수광부, 센서

7. 发明公开

KR1020140094036A 마이크로 유동칩 기반 혈소판 기능 및 약물반응 검사 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于监测微流控芯片中的血小板功能和药物反应的装置和方法
公开(公告)号：KR1020140094036A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：KR1020120154057
申请日：2012-12-27
申请人： 고려대학교 산학협력단
发明人： 신세현 , 임채승
IPC分类号： G01N35/08 , G01N33/49 , G01N27/30 , G01N21/00
CPC分类号： G01N33/86 , B01L3/502715 , B01L3/50273 , B01L2200/10 , B01L2300/0627 , B01L2300/0645 , B01L2300/0654 , B01L2300/0663 , B01L2400/0406 , B01L2400/0478 , B01L2400/06 , G01N15/0612 , G01N15/1463 , G01N15/1484 , G01N33/49 , G01N2015/0092
摘要： The present invention relates to a device and a method for inspecting microfluidic chip-based platelet functions and drug responses. The device of the present invention can comprise: a measuring device in which blood samples are accommodated and the adhesion and cohesion of platelets generated by means of the flow of the blood samples can be measured; and a fluid operating device which is connected with the measuring device in order to generate a round shear flow in the blood samples. By means of the present invention, the uniform and complete activation of factors such as platelets and von Willebrand factors (vWF) can be ensured, and the repeatability of platelet cohesion can be improved.
摘要翻译：本发明涉及一种用于检查基于微流体芯片的血小板功能和药物反应的装置和方法。本发明的装置可以包括：测量装置，其中容纳血液样本，并且可以测量通过血液样品流动产生的血小板的粘附和凝聚力; 以及与测量装置连接以在血液样本中产生圆形剪切流动的流体操作装置。通过本发明，可以确保血小板和血管性血友病因子（vWF）等因素的均匀且完全的活化，并且可以提高血小板凝聚力的重复性。

8. 发明公开

KR1020130102184A 포토레지스트를 포함한 현상액의 농도 산출 방법 및 농도 조절 장치 有权
标题翻译：用于包括光电子发展者的浓度计算方法和浓度控制系统
公开(公告)号：KR1020130102184A
公开(公告)日：2013-09-17
申请号：KR1020120023204
申请日：2012-03-07
申请人： 주식회사 에이치에스티
发明人： 홍석진 , 박범수 , 임현수 , 김정현
IPC分类号： G01N15/06 , G01N21/31 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G01N15/0612 , G01N2021/3137 , G03F7/327 , G03F7/422 , H01L21/0273
摘要： PURPOSE: A method for measuring the concentration of a developer including photoresist and a concentration regulating device are provided to reduce a waste of the developer by recovering the developer spread on a substrate when a developing process is progressing and to reduce the amount of the developer utilized for the developing process by directly regulating the concentration of the recovered developer. CONSTITUTION: A method for measuring the concentration of a developer including photoresist includes the following steps of: dissolving the photoresist in a developer of reference concentration and measuring absorbance with a nephelometer while increasing the amount of the photoresist dissolved in the developer at a predetermined speed; measuring a difference of the concentration of the developer per each of measured absorbance values with neutralimetry and obtaining a correlation function between the absorbance and a concentration error of the developer; measuring the concentration of carbonate by measuring the absorbance of a developer sample with a nephelometer and measuring the conductivity of the developer sample with a nephelometer and the speed of ultrasonic waves; and calculating the concentration of the developer sample by using the measured absorbance, the concentration of the carbonate, the correlation function between the absorbance and the concentration error of the developer, the correlation function between the concentration of the carbonate and the concentration error of the developer, and the reference concentration of the developer. [Reference numerals] (5) Densitometer; (AA) Ultrapure water; (BB) Undiluted solution of a developer (25%); (CC) Regeneration solution for a developer; (DD) Developer with reference concentration; (EE,FF) Developing machine; (GG) System for regenerating a developer
摘要翻译：目的：提供一种用于测量包括光致抗蚀剂和浓度调节装置的显影剂浓度的方法，以在显影过程进行时回收显影剂扩散在基底上并减少显影剂的用量来减少显影剂的浪费通过直接调节回收显影剂的浓度来进行显影过程。构成：用于测量包括光致抗蚀剂的显影剂浓度的方法包括以下步骤：将光致抗蚀剂溶解在参考浓度的显影剂中并用浊度计测量吸光度，同时以预定速度增加溶解在显影剂中的光致抗蚀剂的量; 用中和法测量每个测量的吸光度值的显影剂浓度的差异，并获得显影剂的吸光度和浓度误差之间的相关函数; 通过用浊度计测量显影剂样品的吸光度并用浊度仪测量显影剂样品的电导率和超声波的速度来测量碳酸盐的浓度; 并通过使用测量的吸光度，碳酸盐浓度，显影剂的吸光度和浓度误差之间的相关函数来计算显影剂样品的浓度，碳酸盐浓度与显影剂浓度误差之间的相关函数，以及显影剂的参考浓度。（附图标记）（5）密度计; （AA）超纯水; （BB）未稀释的显影剂溶液（25％）; （CC）开发商的再生解决方案（DD）具有参考浓度的显影剂; （EE，FF）开发机; （GG）用于再生显影剂的系统

9. 发明授权

KR101290843B1 대기중의 강하 매진 수평 유속의 연속식 계측 장치 및 계측 방법 有权
标题翻译：用于连续测量大气中沉淀颗粒物的水平通量的装置和方法
公开(公告)号：KR101290843B1
公开(公告)日：2013-07-29
申请号：KR1020117022741
申请日：2010-04-01
申请人： 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤
发明人： 이또오노부아끼
IPC分类号： G01N15/06 , G01N15/00 , G01N1/02 , G01N1/20
CPC分类号： G01N15/0612 , G01N1/2208 , G01N1/2211 , G01N15/0255 , G01N15/0606 , G01N15/0625 , G01N15/0637
摘要： 이 대기중의 강하 매진의 수평 유속을 연속적으로 계측하는 장치는, 천판, 측벽 및 4매 이상의 구획판을 갖는 매진 채취구와, 흡기관과, 단위 시간당 매진량을 연속적으로 계측하는 연속식 매진량 계측 장치와, 블로워 또는 압축기와, 배기구를 구비하고, 상기 측벽은 연직 방향의 중심축을 갖고, 상방을 향하여 넓어지는 본질적으로 원뿔대 또는 다각형뿔대의 측면의 형상을 갖는 판이고, 상기 측벽은 그 하단부에 상기 흡기관과 접속되는 흡기구와, 그 상단부 근방의 일정한 높이에 상기 측벽의 둘레 방향에 일정 간격으로 배치된 4개소 이상의 개구를 갖는 외기 유입구를 갖는다.

10. 发明公开

KR1020160031783A 탁도 검출 방법 및 장치 无效
标题翻译：支持其的涡轮发电检测方法和电子装置
公开(公告)号：KR1020160031783A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：KR1020140121931
申请日：2014-09-15
申请人： 한국수자원공사 , (주)프라임 텍 인터내쇼날
发明人： 최두용 , 김주환 , 이두진 , 이성호 , 이호경
IPC分类号： G01N15/06 , G01N21/47
CPC分类号： G01N15/06 , G01N15/0612 , G01N21/47
摘要： 검출물질에광을조사하는발광부, 상기검출물질에의해산란되는광을수집하는수광부, 상기산란된광의정도에대응하여탁도를검출하고, 검출된탁도에대응하여상기발광부의광을조절하거나유지하는제어모듈을포함하는것을특징으로하는탁도검출장치및 이의운용방법을개시한다.
摘要翻译：公开了一种测量浊度的方法和装置。用于测量浊度的装置包括：用光照射待测材料的发光单元; 光接收单元，其收集被测量材料散射的光; 以及控制模块，其通过对应于散射光的水平来测量浊度，并且调节或维持发光单元的光以对应于测量的浊度。本发明的目的是提供一种可以准确测量浊度范围的浊度测量装置。

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