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热词
    • 1. 发明公开
    • 광학 측정 센서
    • 光学测量传感器
    • KR1020140094651A
    • 2014-07-30
    • KR1020147017597
    • 2012-11-29
    • 아나로그 디바이시즈 인코포레이티드
    • 델리와라쉬레니크
    • G01B11/26G01B11/14G01J1/42G01M11/00
    • G01B11/14G01B11/26G01J1/0242G01J1/0437G01J1/1626G01J1/42G01M11/00
    • 광학 검출기는 애퍼처, 적어도 2개의 광검출기들, 및 렌즈를 필요로 함이 없이 애퍼처를 통과한 후에 광검출기들에서 검출되는 광을 정량화하기 위한 측정 장치을 포함할 수 있다. 애퍼처는 광원으로부터의 광이 애퍼처를 통해 광검출기들로 통과할 수 있게 광원과 2개의 광검출기들 사이에 위치될 수 있다. 광검출기들은 PIN 접합 광다이오드들을 포함할 수 있고, 서로로부터 전기적으로 격리되고, 나란한 구성으로 서로 옆에 위치되고, 이어 애퍼처에 입사하는 광원으로부터의 광의 각도가 변함에 따라 광검출기들에서 검출되는 정량화된 광의 비율이 변하도록 애퍼처와 정렬될 수 있다. 광학 검출기들 및 방법들이 제공된다.
    • 光学检测器可以包括孔径,至少两个光电检测器和测量装置,以量化通过孔径之后在光电检测器处检测的光,而不需要透镜。 孔可以位于光源和两个光电检测器之间,以允许来自光源的光通过孔径到达光电检测器。 光电检测器可以包括PIN结光电二极管,并且可以彼此电隔离,并排布置成彼此相邻,然后与孔对准,使得在光电探测器处检测到的量化光的一部分变化为 来自入射到孔的光源的光的角度改变。 提供光学检测器和方法。
    • 3. 发明公开
    • 조사 강도 분포 측정 장치 및 측정 방법
    • 照射强度分布测量装置及测量方法
    • KR1020090112663A
    • 2009-10-28
    • KR1020097015327
    • 2008-01-15
    • 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
    • 프라이만롤프
    • G01J1/30
    • G03F7/70941G01J1/04G01J1/0411G01J1/0437G01J1/4228G01J1/4257G03F7/70133G03F7/70591G03F7/706G03F7/7085
    • A projection exposure tool (10) for microlithography with a measuring apparatus (36) disposed in an optical path (28) of the projection exposure tool (10) for the locally and angularly resolved measurement of an irradiation strength distribution is provided. Here the measuring apparatus (36) comprises a measuring field with an arrangement (56) of focussing optical elements (42) disposed at individual points (Xi, yj) of the measuring field (41), a common image plane (44) for the focussing optical elements (42), a locally resolving radiation detector (46) with a recording surface (48) for the locally resolved recording of a radiation intensity, the recording surface (48) being disposed in the common image plane (44), and an evaluation device (60) which is set up to establish a respective angularly resolved irradiation strength distribution for each individual measuring field point (Xi, yj) from the recorded radiation intensity.
    • 提供一种用于微光刻的投影曝光工具(10),其具有设置在投影曝光工具(10)的光路(28)中的用于局部和角度分辨的辐射强度分布测量的测量装置(36)。 这里,测量装置(36)包括具有设置在测量场(41)的各个点(Xi,yj)处的聚焦光学元件(42)的布置(56)的测量区域,用于 聚焦光学元件(42),具有用于局部分辨记录辐射强度的记录表面(48)的局部分辨放射线检测器(46),记录表面(48)设置在公共图像平面(44)中,以及 评估装置(60)被设置成根据记录的辐射强度为每个单独的测量场点(Xi,yj)建立各自的角度分辨的照射强度分布。
    • 5. 发明公开
    • 순차 파면 센서
    • 顺序波形传感器
    • KR1020080100433A
    • 2008-11-18
    • KR1020087020303
    • 2006-12-21
    • 클레러티 메디칼 시스템즈 인코포레이티드
    • 쥬얀짜오큉춘웨이수웨이수
    • G01J9/00G01J3/06A61B3/12
    • G01J9/00A61B3/1015A61B3/14G01J1/0414G01J1/0437
    • A sequential wavefront sensor comprises a light beam scanning module (212), a sub-wavef ront focusing lens (220), a detector (222) with more than one photosensitive area and a processor for calculating the sequentially obtained centroids of a number focused light spots from the sub-wavefront s to determine the aberration of the input wavefront. A sequential wavefront sensing method comprises the steps of ; sequentially projecting a number of sub-wavefronts onto a sub-wavefront focusing lens and a detector with more than one photosensitive areas, calculating the centroid of the focused light spot from each sub-wavefront, and processing the centroid information to determine the aberration of the wavefront. In particular, a method for auto-focusing and/or auto-astigmatism-correction comprises the steps of sequentially projecting a number of sub-wavef ronts around an annular ring of a wavefront to a sub-wavefront focusing lens and a detector, calculating the centroid of focused light spot from each sub-wavefront to figure out the centroid trace and hence the defocus and/or astigmatism, adjusting the focus and/or astigmatism of the optical imaging system before the wavefront sensor so that the measured defocus and/or astigmatism is minimized.
    • 顺序波前传感器包括光束扫描模块(212),子波聚焦透镜(220),具有多于一个感光区域的检测器(222)和用于计算顺序获得的聚焦光的重心的处理器 来自子波前的点以确定输入波前的像差。 顺序波前感测方法包括以下步骤: 顺序地将多个子波前投影到子波前聚焦透镜和具有多于一个感光区域的检测器,计算来自每个子波前的聚焦光点的质心,以及处理质心信息以确定 波前。 特别地,一种用于自动聚焦和/或自动像散校正的方法包括以下步骤:将多个子波场围绕波前的环形环连续投影到子波前聚焦透镜和检测器,计算 从每个子波前聚焦的光斑的重心,以计算出质心轨迹,从而计算散焦和/或散光,调整光学成像系统在波前传感器之前的焦点和/或散光,使得测量的散焦和/或散光 被最小化。
    • 6. 实用新型
    • 감지센서
    • 感应传感器
    • KR2020080002101U
    • 2008-06-25
    • KR2020060032155
    • 2006-12-20
    • 한성현
    • 한성현한경호한경지
    • G01J1/02
    • G01J1/0219G01J1/0437G01J1/44G01J2001/446
    • 본 고안은 감지센서에 관한 것으로서, 분말이나 덩어리의 레벨 감지에 있어서 광센서를 이용하여 직접 접촉방식으로 분말이나 덩어리의 실제 잔존 여부를 감지하여 신호를 보내도록 한 것이다. 이를 위하여 직접 반사형 광센서를 투명하고 표면이 매끄러운 아크릴에 삽입하여 분말이 광센서에 직접 접촉하지 않도록 하여주고 전도성 분말이나 감지센서에 코팅되는 분말이 감지센서 렌즈 쪽 아크릴에 코팅되지 않도록 하고 감지센서 렌즈 쪽에 스테인레스 스틸 재질의 반사판을 두어 평상시에 반사판을 감지하고 분말이나 덩어리 제품이 있을 때 반사판을 감지하지 못하도록 설정하여 분말이나 덩어리의 실제 여부를 감지하도록 한 것이다.
      감지기, 센서, 광센서, 분말(粉末), 덩어리, 전도성(傳導性), 코팅, 렌즈, 아크릴, 반사판, 스테인레스 스틸, 직접 반사형,