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1. 发明公开

KR1020130079075A 위상 및 진폭 정보에 기초한 범프 측정방법 및 시스템 审中-实审
标题翻译：基于相位和幅度信息测量气泡的方法和系统
公开(公告)号：KR1020130079075A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020120032865
申请日：2012-03-30
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 시몬,코렌 , 오어,슈어 , 야코브,말리노비치 , 길라드,골란
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G06K9/00127 , G01B11/0608 , G01N21/95607 , G01N21/95684 , G02B21/0016 , G02B21/0056
摘要： PURPOSE: A method and system for measuring a bump based on phase information and amplitude information are provided to determine the phase offset of an interferometer obtaining a phase image and an amplitude image in response to the expected height of an ultrafine structure. CONSTITUTION: A system for measuring a bump based on phase information and amplitude information includes a storage circuit (41), a mask generating circuit, a phase information circuit, and a height calculating circuit (46). The storage circuit stores information including amplitude information and phase information. The information represents the shape and the size of an ultrafine structure. The mask generating circuit thresholds the pixels of the amplitude information, and provides a mask having amplitude pixels. The phase information is placed for applying the mask on the phase information, and provides masked phase pixels. The height calculating circuit selects the phase pixels satisfying a phase reference from the masked phase pixels. The selected phase pixels have selected characteristic values. The height calculating circuit searches the selected phase pixels having the characteristic values from the phase information, and generates the results of measured heights based on the selected phase pixels. [Reference numerals] (41) Storage circuit; (42) Remaining height calculation circuit; (43) Edge detector; (44) Height range circuit; (46) Height calculating circuit; (47) Phase offset circuit
摘要翻译：目的：提供一种基于相位信息和幅度信息测量凸块的方法和系统，以响应于超细结构的预期高度来确定获得相位图像和幅度图像的干涉仪的相位偏移。构成：基于相位信息和幅度信息测量凸块的系统包括存储电路（41），掩模产生电路，相位信息电路和高度计算电路（46）。存储电路存储包括幅度信息和相位信息的信息。该信息表示超细结构的形状和尺寸。掩模产生电路对振幅信息的像素进行阈值，并提供具有振幅像素的掩模。放置相位信息以将掩模应用于相位信息，并且提供屏蔽相位像素。高度计算电路从掩蔽相位像素中选择满足相位基准的相位像素。所选择的相位像素具有选择的特征值。高度计算电路从相位信息中搜索具有特征值的所选择的相位像素，并且基于所选择的相位像素生成测量高度的结果。（附图标记）（41）存储电路; （42）剩余高度计算电路; （43）边缘检测器; （44）高度范围电路; （46）高度计算电路; （47）相位补偿电路

2. 发明授权

KR100966777B1 파이프라이닝된 검사 시스템 및 다이싱된 웨이퍼를검사하는 방법 有权
标题翻译：一种管道检查系统和一种用于检查定位波形的方法
公开(公告)号：KR100966777B1
公开(公告)日：2010-06-29
申请号：KR1020087004402
申请日：2006-08-29
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , H01L21/67288
摘要： 대상물들을 검사하는 방법 및 검사 시스템으로서, 이 시스템은, 소정의 이미지 획득 방식에 따라, 다수의 다이들을 포함하는 다이싱된 웨이퍼의 다수의 부분들의 다수의 이미지들을 획득하도록 구성된 이미지 획득 유닛; 및 적어도 부분적으로 이미지들의 상기 획득 동안, 다수의 이미지들 내에 다수의 고유 피쳐 (unique feature) 들을 위치선정하고; 적어도 부분적으로 다수의 고유 피쳐들의 위치선정 동안, 다수의 고유 피쳐들을 다수의 다이들과 연관시키고; 적어도 부분적으로 다수의 고유 피쳐들을 다수의 다이들과 연관시키는 동안, 고유 피쳐들의 위치선정들 및 그 고유 피쳐들의 다수의 다이들과의 연관들에 응답하여, 다수의 다이 좌표 시스템들 (13) 과 글로벌 좌표 시스템 (37) 사이의 다수의 변환들을 결정하며; 그리고, 적어도 부분적으로 다수의 변환들의 결정 동안, 상기 변환들에 응답하여, 다이들과 그 대응하는 기준 다이들 사이의 비교에 응답하여 결함들을 검출하도록 구성된 프로세서를 포함한다.
웨이퍼, 다이싱, 검사, 파이프 라이닝

3. 发明公开

KR1020080065584A 검사 레시피의 확립을 위한 방법 및 시스템 无效
标题翻译：一种用于建立检查录像的方法和系统
公开(公告)号：KR1020080065584A
公开(公告)日：2008-07-14
申请号：KR1020087004380
申请日：2006-08-30
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴
IPC分类号： H01L21/027 , G01N21/88
CPC分类号： G05B23/0216 , G06T7/0004 , G03F7/70616 , G03F7/70491 , G03F7/70508 , G03F7/7065
摘要： A method and a system for establishing a wafer testing recipe are disclosed. According to the present invention the system is comprised of a camera for acquiring images of a number of dice from a produced wafer; and a dedicated software that operative for using at least part of the images and composes a reference-image to be used as testing reference of a typical die image; defining on the reference-image single and/or repeatable elements of a die pattern as a "zone of interest; determining the Detection-Policy for each of the zone of interest or for a group of similar zones of interest and determining the algorithm that will be used by each of the Detection-Policy; determining the parameters of each of the Detection-Policy's algorithms; determining the Reporting-policy by defining a set of specific names of defect classes that could be used during inspection of a specific lot of wafers; determining the Inspection-policy defining behavior of inspection system as a set of pre-defined logical rules; and creating a "wafer testing recipe" by integrating of the testing reference of a typical die image, the defined zones of interest, the determined Detection-Policies, the parameters of the determined Detection-Policies' algorithms, the determined Reporting-Policies and the determined Inspection-Policies.
摘要翻译：公开了一种用于建立晶片测试配方的方法和系统。根据本发明，该系统包括用于从所生产的晶片获取多个骰子的图像的照相机; 以及专用软件，其用于使用至少部分图像并构成参考图像以用作典型管芯图像的测试参考; 将模具图案的参考图像单个和/或可重复元素定义为“感兴趣区域”;为感兴趣区域中的每个区域或针对一组相似感兴趣区域确定检测策略，并且确定将会由每个检测策略使用;确定每个检测策略的算法的参数;通过定义可以在检查特定批次的晶片期间使用的缺陷类的特定名称的集合来确定报告策略; 将检查系统的检查策略定义为一组预先定义的逻辑规则;以及通过对典型管芯图像的测试参考，所定义的感兴趣区域，所确定的检测 - 策略，确定的检测策略算法的参数，确定的报告策略和确定的检查策略。

4. 发明授权

KR101903782B1 라멜라를 준비하는 방법 및 시스템 有权
公开(公告)号：KR101903782B1
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：KR1020110066050
申请日：2011-07-04
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 보그슬라브스키,다미트리 , 스미스,콜린
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/3056 , G01N1/32 , H01J37/3005 , H01J37/302 , H01J2237/202 , H01J2237/26 , H01J2237/3151
摘要： 본발명은라멜라를준비하는시스템및 방법에관한것이다. 상기방법은조작기가마스크및 샘플을정렬시키는단계를포함할수 있다. 상기마스크및 상기샘플을이온밀러앞에위치시키면서, 상기마스크와상기샘플사이의공간적관계를변화시키지않도록하는단계도포함한다. 상기라멜라의제 1 측벽을노출시킬때까지상기샘플의제 1 노출된부분을밀링하는단계를포함한다. 상기마스크가상기샘플의제 2 마스크된부분을마스크하도록, 상기마스크및 상기샘플을상기이온밀러앞으로위치시키는단계도포함한다. 상기라멜라의제 2 측벽을노출시킬때까지상기이온밀러가상기샘플의제 2 노출된부분을밀링하는단계도포함한다. 상기밀러가상기라멜라의양 측들로부터부재를제거하는단계; 및상기샘플로부터상기라멜라를분리시키는단계도포함한다.

5. 发明授权

KR101882511B1 웨이퍼 정합 방법 및 시스템 有权
公开(公告)号：KR101882511B1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：KR1020110033327
申请日：2011-04-11
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 랑만스,엘닷 , 코렌,시몬
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/68
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T2207/20016 , G06T2207/20036 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148
摘要： 웨이퍼정합방법은: X-Y 스테이지에의해웨이퍼를이동시키고웨이퍼에지영역이미지를획득하는단계; 및웨이퍼의에지의위치를파악하기위해웨이퍼에지영역이미지를처리하는단계를포함할수 있다. 시스템은: 카메라; 웨이퍼를이동시키는 X-Y 스테이지로서, 카메라는웨이퍼에지영역이미지를획득하도록구성되는 X-Y 스테이지; 및웨이퍼에지의위치를파악하기위해웨이퍼에지영역이미지를처리하도록구성되는프로세서를포함한다.

6. 发明公开

KR1020170135672A 영상과 설계정보를 사용하여 웨이퍼를 검사하는 방법 审中-实审
标题翻译：如何使用图像和设计信息检查晶圆
公开(公告)号：KR1020170135672A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020170055188
申请日：2017-04-28
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 유리포스토로브 , 메나쳄레겐스부르거
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F2217/14
摘要： 웨이퍼다이그룹을검사하는방법이제공된다. 웨이퍼는각 웨이퍼세그먼트가다이그룹의다이를구비하는웨이퍼세그먼트그룹및 상기다이및 상기다이에결합되며상기다이와성형물질상에위치한재배선(RDL) 도전체들을둘러싸는상기성형물질을구비한다. 상기방법은상기웨이퍼세그먼트그룹의각 웨이퍼세그먼트의상기 RDL 도전체들에대한설계정보를수신하는단계, 셋업공정이수행되는동안, 상기웨이퍼세그먼트그룹의제1 영상들을얻으며, 상기제1 영상들을얻는것은방사선으로상기웨이퍼세그먼트그룹을조명하며, 상기조명의결과로서상기웨이퍼세그먼트그룹으로부터산란되거나반사된방사선을검출함으로써이루어지는단계, 상기웨이퍼세그먼트그룹의하나또는그 이상의웨이퍼세그먼트들의상기 RDL 도전체들에대한상기설계정보및 상기하나또는그 이상의제1 영상들중 적어도하나의제1 영상에기초로기준정보를생성하는단계, 검사공정이수행되는동안상기웨이퍼세그먼트그룹의각 웨이퍼세그먼트의제2 영상을얻는단계, 및상기웨이퍼세그먼트의상기제2 영상과상기웨이퍼세그먼트의상기기준정보에기초로상기웨이퍼세그먼트그룹의각 웨이퍼세그먼트를평가하는단계를포함한다.
摘要翻译：提供了一种检查晶片管芯组的方法。晶片包括晶片段组，其中每个晶片段包括模组的模组，并且模制材料接合到管芯和管芯并且围绕位于管芯和模制材料上的重布线（RDL）导体。该方法包括接收晶片段组的每个晶片段的RDL导体的设计信息，在设置过程期间获得晶片段组的第一图像，作为照射的结果，利用辐射照亮该组晶片段并检测来自该组晶片段的散射或反射辐射，从晶片段组的一个或多个晶片段的RDL导体移除散射或反射的辐射基于设计信息和一个或多个第一图像中的至少一个第一图像生成参考信息;在检查过程期间生成晶片片段组的每个晶片片段的第二图像; 并且基于晶圆片段的第二图像和晶片片段的参考信息，和评估组晶片段组的每个段晶片的步骤。

7. 发明公开

KR1020120111799A 구조체의 높이를 평가하는 방법 및 시스템 无效
标题翻译：评估结构高度的方法和系统
公开(公告)号：KR1020120111799A
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：KR1020110030371
申请日：2011-04-01
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 고란,길라드 , 말리노비치,야코브 , 코렌,시몬
IPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02 , H05K13/08
CPC分类号： G01B11/028 , G01B9/02007
摘要： PURPOSE: A method and a system for evaluating the height of a structure are provided to make a beam splitter respond to light beams from other spots in different ways and additionally or alternatively respond to the light beams of different wavelengths. CONSTITUTION: A method for evaluating the height of a structure is as follows. First and second interference patterns are detected by a sensor. First light beams(23) lights a domain of a sample(30) and transmits first reference light beams and lights of a first wavelength toward the sensor so that first interference pattern is formed. Second light beams(24) lights a domain of the sample and transmits second reference light beams and lights of a second wavelength toward the sensor so that second interference pattern is formed. First and second wavelength phase information with respect to a microstructure are generated by responding to the first and second interference patterns. First and second wavelength peak information are detected from the first and second wavelength information. The height of a peak of the microstructure is calculated based on the first and second wavelength peak information.
摘要翻译：目的：提供一种用于评估结构高度的方法和系统，以使得分束器以不同方式响应来自其它光点的光束，并且另外地或替代地响应不同波长的光束。构成：用于评估结构高度的方法如下。第一和第二干涉图案由传感器检测。第一光束（23）点亮样本（30）的域，并将第一参考光束和第一波长的光朝向传感器发射，从而形成第一干涉图案。第二光束（24）点亮样品的区域，并将第二参考光束和第二波长的光发射到传感器，从而形成第二干涉图案。通过响应于第一和第二干涉图案来生成关于微结构的第一和第二波长相位信息。从第一和第二波长信息检测第一和第二波长峰值信息。基于第一和第二波长峰值信息计算微结构的峰的高度。

8. 发明公开

KR1020120004333A 샘플을 준비하는 방법 및 시스템 审中-实审
标题翻译：制备样品的方法和系统
公开(公告)号：KR1020120004333A
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：KR1020110066085
申请日：2011-07-04
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 보그슬라브스키,다미트리 , 스미스,콜린
IPC分类号： H01J37/20 , G01N1/28
CPC分类号： H01J37/3056 , G01N1/32 , H01J37/3005 , H01J37/302 , H01J2237/202 , H01J2237/24455 , H01J2237/26 , H01J2237/3151
摘要： PURPOSE: A method and system for preparing a sample are provided to mask with a mask by milling the edge area of a sample. CONSTITUTION: A system generates a mask. A manipulator(100) includes subunits which are located in a major rotational stage(130). A second sub unit(120) manipulates a sample, the mask, and technical accessories like the mask, a measurement plate, and an opening part, and a target, etc. The mask has X, Y, Z, and θ stages. A first sub unit(110) manipulates the sample so that a spatial relationship between the mask and the sample is changed.
摘要翻译：目的：提供一种用于制备样品的方法和系统，通过研磨样品的边缘区域来掩模掩模。构成：系统生成面罩。操纵器（100）包括位于主旋转台（130）中的子单元。第二子单元（120）操作样品，掩模和技术附件，如面具，测量板和开口部分，以及目标物等。掩模具有X，Y，Z和＆阶段。第一子单元（110）操作样品，使得掩模和样品之间的空间关系改变。

9. 发明授权

KR101810919B1 팬 아웃 웨이퍼들을 위한 공정 제어 및 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101810919B1
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：KR1020110030365
申请日：2011-04-01
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 위스,토미 , 라론,네보 , 몰더스,토마스 , 쇼크룬,아키 , 워트스만,노다브
IPC分类号： H01L21/50 , H01L21/66
摘要： 팬-아웃웨이퍼의제조공정을모니터링하는시스템및 방법에있어서, 상기방법은팬-아웃웨이퍼의제조공정의제 1 제조단계의완성후에, 다이들의제 1 세트의이미지들을획득하는단계; 결점들을검출하기위해상기제 1 세트의이미지들을처리하는단계; 상기제 1 세트의이미지들을처리함으로써검출된적어도하나의결점에반응하여적어도하나의교정동작(corrective operation)을실행하는단계; 팬-아웃웨이퍼의제조공정의제 2 제조단계의완성후에, 다이들의제 2 세트의이미지들을획득하는단계(이때, 상기제 2 제조공정은상기제 1 제조공정을따름); 결점들을검출하기위해상기제 2 세트의이미지들을처리하는단계; 및상기제 2 세트의이미지들을처리함으로써검출된적어도하나의결점에반응하여적어도하나의교정동작을실행하는단계를포함할수 있다.

10. 发明公开

KR1020150108893A 다중 성분 표면상에서 표면 기처리 및 방울 확산 제어 审中-实审
标题翻译：多组分表面的表面预处理和倒角扩展控制
公开(公告)号：KR1020150108893A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：KR1020157022358
申请日：2014-01-21
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 닛잔,보아즈
IPC分类号： H05K3/12
CPC分类号： H05K1/056 , B41J11/0015 , B41M5/0011 , H01L21/306 , H05K3/3452 , H05K3/38 , H05K2203/013 , H05K2203/122 , Y10T428/24802
摘要： 방법, 시스템 및 표면 에너지를 표준화하기 위한 중간층에 의해 처리되는 하나 이상의 물질로 구성된 기판 및 표준화된 표면 에너지에 적합한 디지털방식으로 프린팅된 제제를 포함하는 생산된 프린트 기판이 제공된다. 표면 에너지 표준화는 물리적 공정 또는 선택적 화학 공정에 의해 수행될 수 있다. 예시로, 자가-조립 단층은 잉크젯 닷을 제어하고 잉크 접착을 향상시키기 위하여 구리 표면 에너지를 낮추는 것에 의해 프린트 배선 기판의 표면에 적용된다. 자가-조립 단층은 기판상에서 구리에 대해 선택적이고 공유적으로 α기를 통해 결합하고 기판에 적용되는 솔더 마스크 잉크에 대해 소수성 ω기를 통해 결합한다. ω기는 잉크의 고형화 공정에 참여한다.
摘要翻译：提供了方法，系统和制造的印刷基板，其包括由用于归一化表面能的中间层处理的一种或多种材料构成的基板和适合归一化表面能的数字印刷配方。表面能归一化可以通过物理过程或选择性化学过程进行。在一个示例中，将自组装单层施加到印刷电路板的表面上，以通过减少铜表面能并改善墨粘附来控制喷墨点。自组装单层通过α基团选择性和共价地结合到板上的铜上，并通过疏水性基团结合施加到板上的焊料掩模油墨。集团参与墨水的凝固过程。

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