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1. 发明授权

KR100966777B1 파이프라이닝된 검사 시스템 및 다이싱된 웨이퍼를검사하는 방법 有权
标题翻译：一种管道检查系统和一种用于检查定位波形的方法
公开(公告)号：KR100966777B1
公开(公告)日：2010-06-29
申请号：KR1020087004402
申请日：2006-08-29
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , H01L21/67288
摘要： 대상물들을 검사하는 방법 및 검사 시스템으로서, 이 시스템은, 소정의 이미지 획득 방식에 따라, 다수의 다이들을 포함하는 다이싱된 웨이퍼의 다수의 부분들의 다수의 이미지들을 획득하도록 구성된 이미지 획득 유닛; 및 적어도 부분적으로 이미지들의 상기 획득 동안, 다수의 이미지들 내에 다수의 고유 피쳐 (unique feature) 들을 위치선정하고; 적어도 부분적으로 다수의 고유 피쳐들의 위치선정 동안, 다수의 고유 피쳐들을 다수의 다이들과 연관시키고; 적어도 부분적으로 다수의 고유 피쳐들을 다수의 다이들과 연관시키는 동안, 고유 피쳐들의 위치선정들 및 그 고유 피쳐들의 다수의 다이들과의 연관들에 응답하여, 다수의 다이 좌표 시스템들 (13) 과 글로벌 좌표 시스템 (37) 사이의 다수의 변환들을 결정하며; 그리고, 적어도 부분적으로 다수의 변환들의 결정 동안, 상기 변환들에 응답하여, 다이들과 그 대응하는 기준 다이들 사이의 비교에 응답하여 결함들을 검출하도록 구성된 프로세서를 포함한다.
웨이퍼, 다이싱, 검사, 파이프 라이닝

2. 发明公开

KR1020080056150A 파이프라이닝된 검사 시스템 및 다이싱된 웨이퍼를검사하는 방법 有权
标题翻译：一种管道检查系统和一种用于检查定位波形的方法
公开(公告)号：KR1020080056150A
公开(公告)日：2008-06-20
申请号：KR1020087004402
申请日：2006-08-29
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , H01L21/67288
摘要： A method for inspecting objects and an inspection system, the system includes: an image acquisition unit adapted to acquire multiple images, according to a predefined image acquisition scheme, of multiple portions of a diced wafer that comprises multiple dice; and a processor adapted to locate multiple unique features within the multiple images, at least partially during the acquisition of images; associate multiple unique features with multiple dice, at least partially during the location of multiple unique features; determine multiple transformations between multiple die coordinate systems and a global coordinate system, in response to a locations of unique features and their associations with multiple dice, at least partially during an association between multiple unique features with multiple dice; and detect defects in response to a comparison between dice and corresponding reference dice, in response to the transformations, at least partially during the determination of the multiple transformations.
摘要翻译：一种用于检查对象和检查系统的方法，所述系统包括：图像获取单元，适于根据预定义的图像获取方案获取包括多个骰子的切割晶片的多个部分的多个图像; 以及处理器，其适于至少部分地在图像获取期间定位所述多个图像内的多个独特特征; 在多个独特功能的位置中至少部分地将多个独特特征与多个骰子相关联; 响应于独特特征的位置及其与多个骰子的关联，至少部分地在具有多个骰子的多个独特特征之间的关联期间，确定多个模座坐标系和全局坐标系之间的多个变换; 并且响应于所述转换，至少部分地在所述多次转换的确定期间，响应于所述骰子和对应的参考骰子之间的比较来检测缺陷。

3. 发明授权

KR100968386B1 기준 프레임에 기초한 검사 시스템 및 결함 검출 방법 有权
标题翻译：检查系统和用于检测基于参考框架的缺陷的方法
公开(公告)号：KR100968386B1
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：KR1020087004401
申请日：2006-08-29
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리
IPC分类号： H01L21/66 , C23C14/00
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , H01L21/67288
摘要： 본 발명은 웨이퍼 검사 시스템 및 웨이퍼를 검사하는 방법에 관한 것이다. 웨이퍼를 검사하는 방법은 다이와 그 다이를 둘러싸는 제 1 서라운딩 영역을 포함한 제 1 영역을 커버하고, 중첩 영역을 제공하도록 부분적으로 중첩되는 다수의 프레임을 획득하는 단계; 및 서로 오정렬 프레임을 정렬할 정도로 중첩 영역의 분해된 이미지를 연속으로 처리하고 다이 기준 이미지를 생성하는 단계를 포함한다.
웨이퍼 검사, 이미지 프레임, 기준 프레임, 오정렬 프레임, 좌표 시스템

4. 发明授权

KR100960543B1 미지 품질의 패턴을 사용하여 기준 이미지를 생성하기 위한시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于使用未知质量图案创建参考图像的方法和系统
公开(公告)号：KR100960543B1
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：KR1020087004394
申请日：2006-08-30
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리 , 플리스와서로니
IPC分类号： H01L21/66 , G21K5/10
CPC分类号： G06T5/50 , G06K9/6255 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： 표면의 자동 검사를 위해 사용되는 패턴의 기준-모델을 생성하기 위한 시스템 및 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 시스템은, 복수 패턴의 이미지를 캡쳐하는 촬상 디바이스; 캡쳐된 이미지를 보정 및 정렬하기 위해서 전용 알고리즘을 사용하는 전용 알고리즘; 및 제어기로 구성되며, 제어기는 각각의 이미지와 동일하게 위치하고 동일하게 일치하는 픽셀을 수집하고, 수집된 픽셀 중 하나를 소정 기준에 따라 선택하며, 캡쳐된 이미지와 동일한 치수를 가지는 새로운 이미지를 생성 및 원래 이미지에서 수집된 픽셀의 장소와 상응하는 동일한 장소에 선택된 픽셀을 위치시키며, 캡쳐된 이미지의 각 픽셀에 대해 상기에서 정의된 바와 같이 프로세스를 반복하며, 그리고 패턴을 검사하기 위한 기준-모델로서 새로 생성된 이미지를 제공하기 위해서 동작한다.
자동 광학 검사, 웨이퍼, 다이, 기준 이미지

5. 发明公开

KR1020080075491A 기준 프레임에 기초한 검사 시스템 및 결함 검출 방법 有权
标题翻译：检查系统和用于检测基于参考框架的缺陷的方法
公开(公告)号：KR1020080075491A
公开(公告)日：2008-08-18
申请号：KR1020087004401
申请日：2006-08-29
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리
IPC分类号： H01L21/66 , C23C14/00
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , H01L21/67288
摘要： A wafer inspection system and a method for inspecting a wafer. The method includes: acquiring multiple frames that cover a first area that comprises a die and a first surrounding area that surrounds the die; wherein the frames partially overlap to provide overlap areas; and processing a sequence of decomposed images of overlap areas such as to align mutually misaligned frames and generating a die reference image.
摘要翻译：晶片检查系统和检查晶片的方法。该方法包括：获取覆盖包括模具的第一区域和围绕模具的第一周围区域的多个框架; 其中所述框架部分地重叠以提供重叠区域; 并且处理重叠区域的分解图像的序列，以便对齐相互不对准的帧并生成管芯参考图像。

6. 发明公开

KR1020080056149A 미지 품질의 패턴을 사용하여 기준 이미지를 생성하기 위한시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于使用未知质量图案创建参考图像的方法和系统
公开(公告)号：KR1020080056149A
公开(公告)日：2008-06-20
申请号：KR1020087004394
申请日：2006-08-30
申请人： 캠텍 리미티드
发明人： 레겐스부르거메나헴 , 포스톨로브유리 , 플리스와서로니
IPC分类号： H01L21/66 , G21K5/10
CPC分类号： G06T5/50 , G06K9/6255 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： A method and a system for preparing a pattern's reference-model to be used for automatic inspection of surface are disclosed. The system according to the present invention is comprised of an imaging device that captured images of plurality of the patters; a dedicated software that uses dedicated algorithms to correct and align the captured images; and a controller operative for collecting the same located and same coincident pixel of each of the images; choosing, according to predetermined criteria, one of the collected pixels; creating a new image with same dimensions as the captured images and locating the chosen pixel in the same place corresponding to the place of the collected pixels in the origin images; repeating the process as defined above for each pixel of the captured images; and providing the new created image as a reference model for inspecting the pattern.
摘要翻译：公开了一种用于制备用于表面自动检查的图案参考模型的方法和系统。根据本发明的系统包括：拍摄多个图案的图像的成像装置; 专用软件，使用专用算法来校正和对齐捕获的图像; 以及控制器，用于收集每个图像的相同位置和相同的重合像素; 根据预定标准选择所收集像素之一; 创建与捕获的图像相同尺寸的新图像，并将所选择的像素定位在与原始图像中所收集的像素的位置对应的相同位置; 对捕获图像的每个像素重复如上所述的过程; 并提供新创建的图像作为检查图案的参考模型。

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