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    • 2. 发明公开
    • 감광성 수지 조성물, 경화막의 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치
    • 感光性树脂组合物,固化膜的制造方法,固化膜,液晶显示装置,有机EL显示装置
    • KR1020160065917A
    • 2016-06-09
    • KR1020167011174
    • 2014-10-29
    • 후지필름 가부시키가이샤
    • 요네자와히로유키마사키요시히사야마시타시에카시와기다이스케
    • G03F7/023G03F7/033G03F7/039G03F7/022G03F7/075G03F7/038G03F7/40H01L21/31H01L51/52G02F1/1362
    • G03F7/0751G03F7/0226G03F7/0233G03F7/038G03F7/0392G03F7/0397G02F2001/13625G03F7/033G03F7/0382G03F7/40H01L21/31H01L51/5253
    • HMDS 등의소수화처리가없는기판에있어서도, 현상시의패턴밀착성과경화막의기판에대한밀착성을양립할수 있는감광성수지조성물, 경화막의제조방법, 경화막, 액정표시장치및 유기 EL 표시장치를제공한다. (1) (a1-1) 산기가산분해성기로보호된기를갖는구성단위, 및 (a1-2) 가교성기를갖는구성단위를갖는중합체, (2) (a1-1) 산기가산분해성기로보호된기를갖는구성단위를갖는중합체, 및 (a1-2) 가교성기를갖는구성단위를갖는중합체중 적어도한쪽을충족시키는중합체를포함하는중합체성분, 일반식 (1)로나타나는화합물, 실레인커플링제, 광산발생제, 그리고용제를함유하는감광성수지조성물로서, 상기일반식 (1)로나타나는화합물의함유량이, 상기감광성수지조성물의전체고형분에대하여 0.1~5.0질량%이며, 상기실레인커플링제의함유량의비율이상기일반식 (1)로나타나는화합물의함유량에대하여질량비로 3.0배보다많고 50.0배이하인, 감광성수지조성물;일반식 (1) 중, n은 4 이상의정수, R은 n가의유기기, R~R는각각독립적으로탄소수 1~12의 1가의유기기를나타낸다; R은탄소수 1~12의 1가의알킬기를나타낸다.
    • 此外,在基板不具有疏水处理,例如HMDS,感光性树脂,可以实现既粘附到在显影组合物的时间固化膜基材的图案粘合性能,固化的膜的制造方法,固化膜,提供了一种液晶显示装置和有机EL显示装置 。 (1)(A1-1)具有酸性基团加入到保护单元分解性基团的结构中,和(A1-2)和具有交联基团的结构单元的聚合物,(2)(A1-1)酸分解性基团添加到受保护组 具有含,和(A1-2)的聚合物组分,其包括满足具有含交联基团的结构单元的聚合物中的至少一种,并且由通式(1),硅烷偶联剂为代表的化合物,和地雷的聚合物的结构单元的聚合物 产生第二,和含有感光性树脂组合物的溶剂,由通式(1)表示的化合物的含量为0.1%至5.0%以重量计的硅烷偶优惠内容的感光性树脂组合物的总固体含量 R是4或更大的整数,R是具有1至6个碳原子的有机基团,R是具有1至6个碳原子的有机基团, 每个R独立地表示具有1至12个碳原子的一价有机基团; R表示具有1至12个碳原子的一价烷基。
    • 6. 发明公开
    • 감광성 수지 조성물, 이것을 사용한 패턴의 제조 방법
    • 感光性树脂组合物和使用组合物制造图案的方法
    • KR1020130111355A
    • 2013-10-10
    • KR1020130031907
    • 2013-03-26
    • 후지필름 가부시키가이샤
    • 나카무라히데유키후지모토신지야마시타시에
    • G03F7/004G03F7/028G03F7/26G02F1/13
    • G03F7/0045G02F1/13G03F7/004G03F7/028G03F7/20G03F7/203G03F7/26
    • PURPOSE: A photosensitive resin composition and a manufacturing method of patterns using the same are provided to have high sensitivity even when the photosensitive resin composition uses g,h line scanner or low NA exposure device (NA=0.1 or less) and to enhance resolution same as l line stepper and sphericity. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition comprises a polymer having configuration units represented by chemical formula (a-1) and configuration units having acids; a polymer having configuration units represented by chemical formula (a-2); photo acid generator; and solvent. In the chemical formulas, R^1 and R^2 respectively represent hydrogen atom, alkyl group or aryl group. One of the R^1 and R^2 represents alkyl group or aryl group. R^3 represents alkyl group or aryl group. R^1 or R^2 and R^3 are connected to form cyclic ether. R^4 represents hydrogen atom or methyl group. X represents a single bond or arylene group.
    • 目的:使用感光性树脂组合物和使用其的图案的制造方法,即使在感光性树脂组合物使用g,h线扫描仪或低NA曝光装置(NA = 0.1以下)时也具有高灵敏度,并且提高分辨率 如l线步进和球形度。 构成:感光性树脂组合物含有具有由化学式(a-1)表示的结构单元的聚合物和具有酸的结构单元; 具有由化学式(a-2)表示的构型单元的聚合物; 光酸酸发生器; 和溶剂。 在化学式中,R 1和R 2分别表示氢原子,烷基或芳基。 R 1和R 2之一表示烷基或芳基。 R 3表示烷基或芳基。 R ^ 1或R ^ 2和R ^ 3连接形成环醚。 R 4表示氢原子或甲基。 X表示单键或亚芳基。