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    • 5. 发明公开
    • 아발란치 포토 다이오드의 제조 방법
    • 制备化合物的方法
    • KR1020100071693A
    • 2010-06-29
    • KR1020080130496
    • 2008-12-19
    • 한국전자통신연구원
    • 심재식권용환박미란민봉기오대곤남은수
    • H01L31/107
    • H01L31/107H01L31/02366H01L31/0392H01L31/18
    • PURPOSE: A method for manufacturing an avalanche photo diode is provided to suppress an edge breakdown by reducing the curvature of a junction interface without a guard ring. CONSTITUTION: A first conductive amplification layer(105) is formed on a first conductive substrate(101). A recess region including a first recess unit(113) and a second recess unit(117) is formed by etching the first conductive amplification layer. A second conductive diffusion layer(130) is formed by diffusing conductive diffusion materials to the first conductive amplification layer. A second conductive electrode(150) connected to the second conductive diffusion layer is formed on the first conductive amplification layer. A first conductive electrode(160) is formed on the rear of the first conductive substrate.
    • 目的:提供一种制造雪崩光电二极管的方法,通过降低没有保护环的接合界面的曲率来抑制边缘击穿。 构成:第一导电性放电层(105)形成在第一导电性基板(101)上。 通过蚀刻第一导电放大层形成包括第一凹部单元(113)和第二凹部单元(117)的凹部区域。 通过将导电扩散材料扩散到第一导电放大层来形成第二导电扩散层(130)。 连接到第二导电扩散层的第二导电电极(150)形成在第一导电放大层上。 第一导电电极(160)形成在第一导电基板的后部。
    • 6. 发明授权
    • 저전압용 이미지 센서의 감광 픽셀
    • 低电压图像传感器的光敏像素
    • KR100857453B1
    • 2008-09-08
    • KR1020060096333
    • 2006-09-29
    • 한국전자통신연구원
    • 김미진민봉기송영주
    • H01L27/14
    • H01L27/14609H01L27/14603H01L27/1463H01L27/14689
    • 본 발명은 일반적인 4-트랜지스터 씨모스 이미지센서의 구조에 있어서 기존의 구조와는 달리 픽셀내의 트랜스퍼 트랜지스터가 포토 다이오드의 리셋 및 트랜스퍼 동작 시, 구동 전압이나 구동 방법과 상관없이, 트랜스퍼 트랜지스터의 턴온 전압에 영향을 받지 않는 채널과 분리된 공핍영역이 존재하도록 픽셀구조를 변경함으로써 트랜스퍼 트랜지스터의 동작조건 변화 및 픽셀간 특성의 불일치에 의해 발생하는 암전류 및 고정 패턴(fixed pattern) 잡음을 감소시키는 것을 목적으로 한다.
      상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 이미지 센서는, 포토다이오드에서 생성된 광 유발 전하를 전달하기 위한 트랜스퍼 트랜지스터를 포함하는 감광 픽셀에서 상기 트랜스퍼 트랜지스터의 채널과 확산 노드 사이에 공핍영역이 존재하도록, 즉 다시 말해 유사 핀치오프 상태로 동작하도록, 상기 트랜스퍼 트랜지스터에서 포토다이오드에 근접한 게이트 절연막의 두께보다 확산 노드쪽 절연막이 더 두꺼운, 즉 트랜스퍼 트랜지스터의 절연막이 단이 지거나 점진적인 두께 변화를 가지는 구조이거나, 상기 트랜스퍼 트랜지스터의 채널과 확산 노드 사이에 기판의 도핑 물질과 전기적으로 동일한 물질을 이용하여 포켓/할로 임플란트를 한 구조를 포함하는 것을 특징으로 한다.
      CMOS, CIS, 이미지 센서, 핀치-오프(pinch off), 암전류(dark current), 고정 패턴 잡음(fixed pattern noise)
    • 本发明中,不论复位,并且当传输操作中,驱动电压或在与常规像素结构根据常规四晶体管的CMOS图像传感器的结构的光电二极管的转移晶体管的驱动方法中,在导通传输晶体管的电压 通过改变像素结构,使得有一个单独的耗尽区,并且不受影响的信道,其目的是为了减少转移晶体管的暗电流和固定模式(固定模式)噪声引起的操作条件变化的错配,和像素间特性 。
    • 7. 发明公开
    • 이미지 센서 및 이미지 센서의 트랜스퍼 트랜지스터 구동방법
    • 图像传感器及其驱动方法传输系统
    • KR1020080071951A
    • 2008-08-05
    • KR1020080065038
    • 2008-07-04
    • 한국전자통신연구원
    • 민봉기김미진송영주
    • H04N5/361H04N5/365H04N5/374
    • H04N5/3597H01L27/14603H01L27/14609H04N5/357H04N5/361H04N5/3745
    • An image sensor and a method for driving a transfer transistor thereof are provided to restrict noise components such as female current in a low operation voltage environment and/or at low costs by applying higher potential than power supply potential to turn on gate potential of a reset transistor and applying the power supply potential to the turn on gate potential of the transfer transistor. An image sensor comprises a photodiode(PD), a transfer transistor(Tx), and a reset transistor. The transfer transistor transfers a photo induced charge generated in the photo diode to a floating diffusion node(131). The reset transistor resets the floating diffusion node. Potential higher than power supply potential is applied as a turn on gate potential of the reset transistor. The power supply potential is applied as the turn on gate potential of the transfer transistor. The transfer transistor includes a p type doping part, a gate oxide(320), and a gate electrode(310). The p type doping part is formed in surface p type areas(330,332) of the photodiode and charge transfer channels from the photodiode to a diffusion node(340). The gate oxide is placed on the p type doping part and the charge transfer channels. The gate electrode is placed on the gate oxide.
    • 提供图像传感器和驱动其传输晶体管的方法,以通过施加比电源电位高的电位来限制复位的栅极电位,以在低操作电压环境中和/或以低成本来限制诸如母电流的噪声分量 晶体管,并将电源电位施加到转移晶体管的导通栅极电位。 图像传感器包括光电二极管(PD),传输晶体管(Tx)和复位晶体管。 传输晶体管将在光电二极管中产生的感光电荷传输到浮动扩散节点(131)。 复位晶体管复位浮动扩散节点。 施加高于电源电位的电位作为复位晶体管的栅极电位的导通。 施加电源电位作为转移晶体管的导通电位。 转移晶体管包括p型掺杂部分,栅极氧化物(320)和栅电极(310)。 p型掺杂部分形成在光电二极管的表面p型区域(330,332)和从光电二极管到扩散节点(340)的电荷转移通道。 栅极氧化物放置在p型掺杂部分和电荷转移通道上。 栅极放置在栅极氧化物上。
    • 8. 发明授权
    • 저전압용 이미지 센서 및 이미지 센서의 트랜스퍼트랜지스터 구동 방법
    • 低工作电压图像传感器及其驱动方式传输晶体管
    • KR100835381B1
    • 2008-06-04
    • KR1020070022980
    • 2007-03-08
    • 한국전자통신연구원
    • 김미진민봉기송영주박성수
    • H04N5/374H04N5/361H04N5/365H04N5/355
    • 본 발명은 일반적인 4-트랜지스터 씨모스 이미지센서의 구조에 있어서 기존의 트랜스퍼 트랜지스터의 구조와 구동방식을 변경하여, 확산노드의 전압이나 물리적 구조 등에 따라 확산노드가 포토다이오드의 리셋이나 트랜스퍼 과정에 미치는 영향을 제거함으로써, 저전압 동작환경에서 포토다이오드의 리셋 전압 감소 및 트랜스퍼 트랜지스터의 동작조건 변화 및 픽셀간 특성의 불일치에 의해 발생하는 암전류 및 고정 패턴(fixed pattern) 잡음 이미지 래그(image lag)를 감소시키고 포토다이오드의 웰 캐패시티(well capacity)를 증가시키는 것을 목적으로 한다.
      상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 이미지 센서는, 광을 감지하는 수광소자와 수광소자에서 생성된 광 유발 전하를 외부회로로 독출하기 위한 신호변환부를 포함하는 이미지 센서에서, 2개 이상의 게이트 전극으로 구성된 트랜스퍼 트랜지스터를 특징으로 하여, 포토다이오드와 가장 인접한 게이트 전극 하부의 채널로 광전하가 이동할 때 확산노드와 인접한 트랜스퍼 게이트 전극을 턴오프 상태로 유지하여포토다이오드에서 광전하가 방출될 때 확산노드가 광전하의 방출 정도에 미치는 영향을 제거함을 구동 특징으로 하고, 상기 게이트 전극 구조에 대한 인가전압의 크기, 전압 인가의 방법, 턴온 전압의 유지 시간 등의 구동조건을 특징으로 하며, 이러한 요소들을 이용하여 포토다이오드내 전하의 효과적인 방출과 확산노드로의 이동을 용이하게 함을 또 다른 특징으로 한다.
      또한 상기 감광 픽셀에서 확산노드와 인접한 게이트 전극을 턴오프하여 포토 다이오드에 가까운 게이트 전극이 딥 디플리션(deep depletion)상태로 동작하여, 웰 캐패시티와 다이나믹 레인지를 증가시키고 광 전하의 독출 시간을 단축하는 것을 또 다른 특징으로 한다.
      CMOS, CIS, 이미지 센서, 전송게이트(transfer transistor), 암전류(dark current), 고정 패턴 잡음(fixed pattern noise), 웰 캐패시티(well capacity)
    • 10. 发明公开
    • 저전압용 이미지 센서의 감광 픽셀
    • 具有低工作电压的图像传感器结构的感光像素
    • KR1020080029560A
    • 2008-04-03
    • KR1020060096333
    • 2006-09-29
    • 한국전자통신연구원
    • 김미진민봉기송영주
    • H01L27/14
    • H01L27/14609H01L27/14603H01L27/1463H01L27/14689
    • A light sensing pixel of an image sensor structure having a low operating voltage is provided to suppress a clock feed-through effect in a channel under low operational voltage environment. A photodiode(202) is formed to generate electric charges which are caused by light. A transfer transistor is formed to transfer the electric charges to a diffusion node. A depletion-induced structure is formed to define a channel region and a diffusion node region of the transfer transistor as a depletion region irrespective of intensity of an operational voltage applied to the transfer transistor. The depletion-induced structure is positioned between the diffusion node region and the transfer transistor channel region. The depletion-induced structure is a depletion-induced doping part(208) doped with an opposite type to a doping type of the diffusion node region.
    • 提供具有低工作电压的图像传感器结构的感光像素,以在低操作电压环境下抑制通道中的时钟馈通效应。 形成光电二极管(202)以产生由光引起的电荷。 形成转移晶体管以将电荷转移到扩散节点。 形成耗尽诱导结构以将转移晶体管的沟道区域和扩散节点区域定义为耗尽区域,而不管施加到转移晶体管的工作电压的强度。 耗尽诱导结构位于扩散节点区域和传输晶体管沟道区域之间。 耗尽诱导结构是掺杂与掺杂类型的扩散节点区域相反的耗尽型掺杂部分(208)。