专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101088672B1 액침 노광장치 有权
标题翻译：倾斜曝光装置
公开(公告)号：KR101088672B1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：KR1020070114086
申请日：2007-11-09
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70733
摘要： 주사형의 액침 노광장치는, 액체와 접촉하는 영역을 다른 부재로 인도하는 것이 가능한 스테이지를 포함한다. 상기 스테이지는, 상기 영역을 다른 부재로 인도하기 위한 인도부와, 상기 스테이지와 레티클의 위치 맞춤을 하기 위한 1개 이상의 기준 마크를 포함한다. 상기 인도부는, 상기 기판의 중심을 지나 주사 방향과 직교하는 제 1 직선에 대해서, 노광 직전에 계측되는 기준 마크와는 반대 측에 설치된다.
액침 노광, 레티클, 투영 광학계, 기준 마크, 스테이지

2. 发明公开

KR1020080042701A 액침 노광방법 및 액침 노광장치 有权
标题翻译：液体渗透曝光方法和液体渗透曝光装置
公开(公告)号：KR1020080042701A
公开(公告)日：2008-05-15
申请号：KR1020070113020
申请日：2007-11-07
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70716
摘要： A method and an apparatus for exposing a liquid-immersion are provided to improve throughput and to reduce exposing detects by using liquid repellency distribution on a substrate being contacted to liquid and a surface of a member installed for surrounding the substrate. A stage movement path is determined based on liquid repellency distribution of a substrate contacted to liquid and a surface of a member installed for surrounding a circumference of the substrate(S201). A first candidate path and a second candidate path are calculated and then a path having a shortest movement time is selected from them(S203). The movement path is determined so as to short a movement time of the stage when it moves on a straight line connecting a start point to an end point(S206). The stage is moved along the determined movement path(S207). The liquid repellency distribution is calculated based on an exposing accumulation time.
摘要翻译：提供一种用于暴露液浸的方法和设备，以通过在与液体接触的基板上的液体排斥分布和为围绕基板设置的部件的表面使用疏液性分布来提高生产量和减少曝光检测。基于与液体接触的基板的液体排斥分布和围绕基板周围安装的部件的表面来确定台阶移动路径（S201）。计算第一候选路径和第二候选路径，然后从中选择具有最短移动时间的路径（S203）。确定移动路径，以便当在连接起始点到终点的直线移动时缩短舞台的移动时间（S206）。沿着确定的移动路径移动台阶（S207）。基于曝光累积时间计算排斥性分布。

3. 发明公开

KR1020020046190A 리니어모터 및 그를 이용한 노광장치 失效
标题翻译：线性电机和对准器使用它
公开(公告)号：KR1020020046190A
公开(公告)日：2002-06-20
申请号：KR1020010077314
申请日：2001-12-07
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지 , 오우츠카카즈히토 , 미야지마요시카즈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70758 , H02K3/47 , H02K41/031
摘要： PURPOSE: To improve positioning accuracy for fixing a coil, workability in assembling the coil on a linear motor casing, exposure speed, and reliability. CONSTITUTION: At least some of a plurality of linear motors constituting an aligner are provided with the coil 16 formed by winding copper foil wire 53 as a foil conductor having an insulating layer around a core member 51 so as to be laminated. The coil 16 is fixed on a positioning section 54 as a coil fixing section of the linear motor using the core member 51. The core member 51 having high insulating properties and low thermal conductivity is constituted of the same material as that of the positioning section 54 of the linear motor casing 55 or a material having the same level of coefficient of linear expansion as that of the material.
摘要翻译：目的：提高固定线圈的定位精度，将线圈组装在线性电机外壳上的可操作性，曝光速度和可靠性。构成：构成对准器的多个线性电动机中的至少一些设置有线圈16，该线圈16通过将铜箔线53卷绕成具有围绕芯构件51的绝缘层的箔导体层叠而形成。线圈16被固定在作为直线电动机的线圈固定部的定位部54上，使用芯部件51.具有高绝缘性和低导热性的芯构件51由与定位部54相同的材料构成的线性电动机壳体55或具有与材料的线性膨胀系数相同水平的材料。

4. 发明公开

KR1020090053882A 액침 노광방법 및 액침 노광장치 失效
标题翻译：液体渗透曝光方法和液体渗透曝光装置
公开(公告)号：KR1020090053882A
公开(公告)日：2009-05-28
申请号：KR1020090032244
申请日：2009-04-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70008 , G03F7/70258 , G03F7/70716
摘要： 액침 노광방법 및 노광장치에 있어서, 스테이지의 이동에 의해 액침액이 접촉하는 표면의 발액도 분포에 의거해, 스테이지의 이동 시간이 가장 짧은 경로를 산출해서, 그 경로를 따라 스테이지를 이동시킨다.
액침 노광, 투영 광학계, 스테이지 이동, 발액도

5. 发明授权

KR100471630B1 리니어모터 및 그를 이용한 노광장치 失效
标题翻译：线性电动机和曝光装置使用它
公开(公告)号：KR100471630B1
公开(公告)日：2005-03-08
申请号：KR1020010077314
申请日：2001-12-07
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지 , 오우츠카카즈히토 , 미야지마요시카즈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70758 , H02K3/47 , H02K41/031
摘要： 노광장치를 구성하는 몇몇의 리니어모터는, 다층구조에서 코어부재둘레에 절연층을 가진 박편형상의 도체인 구리박와이어를 권선함으로써 각각 얻은 코일을 가진다. 코일은, 코일부재를 사용함으로써 리니어모터의 코일고정부로서 기능하는 위치결정부에 고정된다. 코어부재는, 리니어모터하우징의 위치결정부의 재료와 같이 낮은 열전도율을 가진 동일한 절연재료나 또는 거의 동일한 선팽창계수를 가진 재료로 형성된다.

6. 发明公开

KR1019990083450A 구동기구를 구비한 스테이지장치와 그것을 가진 노광장치 失效
标题翻译：具有驱动机构的阶段系统和具有该机构的接触装置
公开(公告)号：KR1019990083450A
公开(公告)日：1999-11-25
申请号：KR1019990014702
申请日：1999-04-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , H02K3/24 , H02K9/19 , H02K41/03
摘要： 구동장치는구동력을발생하는구동기구와, 구동기구를제어하는구동제어디바이스와, 구동기구로부터의열을회수하는온도조절기구를포함하고, 온도조절기구의냉각량은구동제어디바이스로부터구동기구에부여된신호에의거해서제어된다. 구동기구에필요한냉각량이나구동기구에서의발열량은구동기구에부여된신호에의거해서예측되고, 다음에냉각량이제어된다.

7. 发明授权

KR101015118B1 액침 노광방법 및 액침 노광장치 失效
标题翻译：液体渗透曝光方法和液体渗透曝光装置
公开(公告)号：KR101015118B1
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：KR1020090032244
申请日：2009-04-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 액침 노광방법 및 노광장치에 있어서, 스테이지의 이동에 의해 액침액이 접촉하는 표면의 발액도 분포에 의거해, 스테이지의 이동 시간이 가장 짧은 경로를 산출해서, 그 경로를 따라 스테이지를 이동시킨다.
액침 노광, 투영 광학계, 스테이지 이동, 발액도

8. 发明授权

KR100914912B1 스테이지 장치, 노광 장치, 및 마이크로디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：阶段装置，曝光装置和微型装置制造方法
公开(公告)号：KR100914912B1
公开(公告)日：2009-08-31
申请号：KR1020070050109
申请日：2007-05-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 사토히토시 , 사사키야스히토 , 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70725
摘要： 스테이지 장치는, 베이스와, 상기 베이스에 접촉하는 일없이 상기 베이스를 따라 이동 가능한 스테이지 가동부와, 상기 스테이지 가동부의 위치를 계측하도록 구성된 간섭계와, 상기 스테이지 가동부에 접속된 배관 및 배선의 적어도 하나와, 상기 배관 또는 배선으로부터 상기 간섭계의 계측 광이 통과하는 공간으로 전해지는 열을 저감하도록 구성된 단열재 및 열 회수 유닛의 적어도 하나를 구비한다.

9. 发明授权

KR100883810B1 노광장치 有权
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：KR100883810B1
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：KR1020070026552
申请日：2007-03-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/70341 , G03F7/70716
摘要： 투영 광학계와 기판 사이의 공극을 액체로 채운 상태에서 원판의 패턴을 기판에 노광하는 노광장치는, 기판 스테이지 위에 유지되어 있는 기판과, 기판의 외주부의 주변영역을, 대략 동일면을 형성하도록 설정해서 기판의 외주부에 액체를 보유하는 액체 보유판을 구비한다. 액체 보유판은, 기판의 외주부의 주변영역에 형성되어, 기판의 외주부에 액체를 보유하는 내측 부재와, 내측 부재의 외주부에 형성되어, 기판 스테이지에 부착하는 외측 부재와, 내측 부재와 외측 부재를 결합하는 결합 부재를 갖는다.
노광장치, 투영 광학계, 기판, 결합부재
摘要翻译：用于填充所述投影光学系统和基片之间的间隙在液体状态下曝光的原始图案到基板的曝光装置是设置在基板上，在基片台上保持的基片的外周的周边区域，以形成与所述衬底基本共面以及用于将液体保持在液体保持板的外周部分的液体保持板。和内构件到液体保持板，形成在所述基板的外周部的周边区域，并保持在所述基板的外周部分中的液体，形成在所述内部部件，附接到所述基板台的外部构件，内部构件和外部构件的外周并有一个耦合连接件。

10. 发明公开

KR1020070098527A 노광장치 有权
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：KR1020070098527A
公开(公告)日：2007-10-05
申请号：KR1020070026552
申请日：2007-03-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 에모토케이지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70858 , H01L21/67248
摘要： An exposure apparatus is provided to improve the exposure accuracy of the exposure apparatus by decreasing the thermal deformation of a solution containing plate according to the vaporized heat. An exposure apparatus exposes a pattern on an original plate to a substrate and includes the substrate and a solution containing plate(154). The substrate is arranged on a substrate stage. The solution containing plate contains a solution on the outer periphery of the substrate such that peripheral regions around the periphery of the substrate form the substantially same surface. The solution containing plate includes an inner member(154A), an outer member(154B), and a coupling member(46). The inner member is formed on the periphery region around the periphery of the substrate and contains the solution at the periphery of the substrate. The outer member is formed on a periphery of the inner member and attached to the substrate stage. The coupling member couples the inner member with the outer member.
摘要翻译：提供曝光装置，以通过根据蒸发的热量减少含有溶液的板的热变形来提高曝光装置的曝光精度。曝光装置将原版上的图案暴露于基板，并且包括基板和含有溶液的板（154）。衬底被布置在衬底台上。含有溶液的板在基材的外周含有溶液，使得在基材周围的周边区域形成基本上相同的表面。溶液容纳板包括内部构件（154A），外部构件（154B）和联接构件（46）。内部构件形成在基板周围的周边区域上，并且在基板的周围包含溶液。外部构件形成在内部构件的周边上并且附接到衬底台。联接构件将内部构件与外部构件连接。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式