专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020120097051A 유도결합 플라즈마 안테나 및 이를 이용하는 플라즈마 처리장치 有权
标题翻译：感应耦合等离子体天线和等离子体加工设备
公开(公告)号：KR1020120097051A
公开(公告)日：2012-09-03
申请号：KR1020110016365
申请日：2011-02-24
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 손형규 , 이영종 , 강찬호
IPC分类号： H05H1/46 , H03H7/40
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32183 , H01Q1/366 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
摘要： PURPOSE: An inductively coupled plasma antenna and a plasma processing apparatus using the same are provided to control currents flowing in a central antenna and a peripheral antenna by controlling the impedance of the central antenna. CONSTITUTION: An inductively coupled plasma antenna(100) comprises a central antenna(110) located in the center and a peripheral antenna(120) surrounding the central antenna. The inductively coupled plasma antenna comprises a feeding unit(130) transmitting RF power to the peripheral antenna and the central antenna and an RF power supply unit(140) supplying the RF power. The RF power supply unit can supply the high frequency power of 13.56MHz. A matching unit(150) is located between the RF power supply unit and the feeding unit.
摘要翻译：目的：提供电感耦合等离子体天线和使用该等离子体处理装置的等离子体处理装置，通过控制中心天线的阻抗来控制在中央天线和外围天线中流动的电流。构成：电感耦合等离子体天线（100）包括位于中心的中心天线（110）和围绕中心天线的外围天线（120）。电感耦合等离子体天线包括向外围天线和中央天线发送RF功率的馈电单元（130）和提供RF功率的RF电源单元（140）。 RF电源单元可以提供13.56MHz的高频功率。匹配单元（150）位于RF电源单元和馈送单元之间。

2. 发明公开

KR1020120069411A 피드 스루 및 이를 이용한 화학기상 증착장치 失效
标题翻译：通过使用相同的化学蒸气沉积物进料和装置
公开(公告)号：KR1020120069411A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：KR1020100130951
申请日：2010-12-20
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 박찬석 , 이영종 , 강찬호
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4409 , C23C16/301 , C23C16/46
摘要： PURPOSE: A feed through and a chemical vapor depositing apparatus using the same are provided to improve durability by reducing impacts due to vibration from a chamber by a first O-ring and a second O-ring. CONSTITUTION: A flange(230) is combined with a high frequency coil. An insulator(210) is made of insulation materials and includes a flange receiving groove(212) and a through hole(213). A sealing member is installed between the flange receiving groove and the flange and seals a space between the insulator and the flange.
摘要翻译：目的：通过减少由于第一O形环和第二O型圈产生的来自腔室的振动的冲击而提供使用其的进料通道和化学气相沉积设备以提高耐久性。构成：法兰（230）与高频线圈组合。绝缘体（210）由绝缘材料制成并且包括凸缘接收槽（212）和通孔（213）。密封构件安装在凸缘接收槽和凸缘之间并密封绝缘体和凸缘之间的空间。

3. 发明授权

KR101036185B1 플라즈마 처리장치 有权
标题翻译：用等离子体处理基板的装置
公开(公告)号：KR101036185B1
公开(公告)日：2011-05-23
申请号：KR1020050092123
申请日：2005-09-30
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 황영주
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 본 발명은 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판에 플라즈마를 발생시켜 소정의 처리를 실시할 때 상부 전극의 온도를 제어함에 따라 온도 균일성을 확보할 수 있고, 샤워 헤드의 유지보수가 용이한 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
즉, 본 발명은, 챔버, 상기 챔버 내부에 설치되며 진공상태에서 기판상에 플라즈마에 의한 처리가 가능하게 하는 상부전극 및 하부전극이 구비된 플라즈마 처리장치에 있어서, 상기 상부전극은, 상기 챔버 내 상측에 구비되며 하부가 개방된 샤워 헤드 몸체부; 상기 샤워 헤드 몸체부의 하부에 구비되어 미세한 공정가스 확산공이 다수개 형성되어 있는 판상의 샤워 헤드; 상기 샤워 헤드의 상부에 구비되며 상기 샤워 헤드를 냉각시키는 냉각부재; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
플라즈마 처리장치, 상부 전극, 냉각부재, 샤워 헤드(Shower head), 냉각

4. 发明授权

KR100965408B1 ＯＬＥＤ용 증착장치 失效
标题翻译：用于沉积有机和无机材料的装置
公开(公告)号：KR100965408B1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：KR1020040100593
申请日：2004-12-02
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 지종열 , 박병우
IPC分类号： H05B33/10
摘要： 본 발명은 OLED용 기판에 소정 박막을 증착하는 OLED용 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 OLED용 기판에 전도 채널용 무기박막, 발광용 유기박막, 봉지(encapsulation)막 증착을 모두 수행할 수 있는 OLED용 증착장치에 관한 것이다.
본 발명은, 중앙에 형성되며, 기판을 반송하는 반송 챔버; 상기 반송 챔버의 외주부에 결합되어 형성되되, 상기 반송 챔버에서 제공되는 기판에 특정 물질을 증착하는 적어도 2개의 증착챔버; 상기 반송 챔버의 외주부에 게이트 밸브에 의하여 결합되어 형성되며, 상기 반송 챔버에 기판을 반입하거나 상기 반송 챔버로부터 기판을 반출하는 하나의 로드락 챔버;를 포함하여 구성되되, 상기 증착챔버 중 적어도 하나는 기판에 무기물을 증착하는 무기물 증착 챔버이며, 적어도 다른 하나는 기판에 유기물을 증착하는 유기물 증착 챔버인 것을 특징으로 하는 OLED용 증착장치를 제공한다.
OLED, 무기물 증착, 유기물 증착, 클러스터타입

5. 发明授权

KR100959678B1 평판표시소자 제조장치 失效
公开(公告)号：KR100959678B1
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：KR1020050074379
申请日：2005-08-12
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 권효중 , 김은석 , 최은열
IPC分类号： B65G47/68 , B65G47/52
摘要： 본 발명은 평판표시소자 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 클러스터 타입의 제조장치를 인-라인 형태의 시스템에 적용할 때 로드락 챔버를 상하로 적층하여 구비시킨 인-라인 시스템에 적용되는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.
즉, 본 발명은 로드락 챔버와, 반송 챔버와, 공정 챔버로 이루어져 기판에 소정 처리를 실시하는 평판표시소자 제조장치에 있어서, 상기 로드락 챔버는, 2개인 복수개가 적층되어 각각 독립적으로 기능하는 적층형 로드락 챔버이고, 상기 로드락 챔버에 기판을 반입 및 반출시키는 컨베이어 라인이 구비되되, 상기 컨베이어 라인은, 상기 로드락 챔버의 전방에서 기판을 연속으로 공급하는 반입 컨베이어; 상기 반입 컨베이어에 의해 반입된 기판을 상기 로드락 챔버의 후방에서 수취하는 반출 컨베이어; 상기 반입 컨베이어 또는 반출 컨베이어 중 선택되는 어느 하나의 소정 위치에 구비되어 상기 기판을 상부 로드락 챔버의 위치까지 이동시키는 승강 컨베이어; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.
평판표시소자 제조장치, 인라인(In-line), 클러스터(cluster), 상하부 로드락 챔버, 반입 컨베이어, 반출 컨베이어, 승강 컨베이어, 승강수단

6. 发明授权

KR100957722B1 기판 결함 검출 방법 및 장치 失效
标题翻译：表面缺陷检测玻璃的方法和设备
公开(公告)号：KR100957722B1
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：KR1020050130425
申请日：2005-12-27
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 최은열
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 본 발명은 기판 결함 검출 방법 및 장치에 관한 것으로, 그 구성은 기판 기판에 빛을 조사하여 기판 기판의 결함을 검사하는 검사장치에 있어서, 상기 기판의 상부 또는 하부에 위치하여 적어도 하나 이상의 발광체에 의해 빛을 조사하는 조명부와; 상기 조명부와 대향되는 위치에 구비되어 상기 조명부로부터 조사된 빛을 인가받는 촬상부;를 포함하여 이루어진다.
본 발명은 다양한 빛을 직접적으로 조사할 수 있는 발광체를 이용해 빛의 다양성 및 빛의 강도를 조절하여 기판의 기판 결함 검출 간단하게 하고 조작이 용이하게 하는 효과가 있다.
조명부, 촬상부, 발광체, 편광판

7. 发明授权

KR100920384B1 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈 失效
标题翻译：平板显示装置制造设备的升降杆模块
公开(公告)号：KR100920384B1
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：KR1020050131712
申请日：2005-12-28
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 이정빈 , 황영주 , 이승욱 , 윤병오 , 임상준 , 김용태
IPC分类号： H01L21/205 , G02F1/13
摘要： 본 발명은 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판 디척킹(Dechucking)시 상기 기판의 상 하부 압력을 동일하게 하여 기판 파손을 방지하는 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것이다.
즉, 본 발명은, 평판표시소자 제조장치의 챔버 내부에 설치되어 기판이 승강되게 하는 리프트 핀 모듈에 있어서, 상기 리프트 핀 모듈은, 다수개가 일정 간격으로 전극에 배열되는 리프트 핀; 상기 전극에 구비되되 상기 리프트 핀이 내부에 삽입되며 기체가 전극과 기판과의 접촉 공간으로 유입될 수 있도록 경로가 구비되는 핀 하우징; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것이다.
평판표시소자 제조장치, 기판, 디척킹(Dechucking), 리프트 핀, 핀 하우징, 홈부, 압력
摘要翻译：本发明是一种平板显示装置涉及的制造装置的一提升销组件，并且更具体地，涉及在衬底去夹紧（去夹紧）当平板显示装置的制造设备的提升销，以防止损伤衬底以相同的方式对所述基板的所述下压力本发明涉及一种模块。

8. 发明授权

KR100920381B1 합착기 失效
标题翻译：粘合装置
公开(公告)号：KR100920381B1
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：KR1020050134261
申请日：2005-12-29
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 박시현
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본 발명은 합착기에 관한 것으로, 그 구성은 진공챔버; 상기 진공챔버의 입구에 설치되어 상기 진공챔버를 개폐하고, 기판이 출입되는 게이트 벨브; 상기 진공챔버의 내부에는 기판 출입시 가스를 공급하여 상기 진공챔버의 내부로 이물질이 유입되는 것을 방지하기 위한 내측 샤워헤드가 구비된다.
본 발명은 진공챔버 내부 또는 외부로부터 이온화 가스를 공급하여 진공챔버 내부의 압력과 외부의 압력을 동일하게 함으로써 게이트 밸브 개방시 진공챔버 내부로의 이물질(Particle) 유입을 방지함과 동시에 기판상에 부착된 이물질이 진공챔버 내부로 반입되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
샤워헤드, 가스 공급로, 진공챔버

9. 发明授权

KR100916130B1 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈 失效
标题翻译： FPD制造机的引脚模块
公开(公告)号：KR100916130B1
公开(公告)日：2009-09-08
申请号：KR1020050131740
申请日：2005-12-28
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 황재석 , 최봉환
IPC分类号： H01L21/68 , G02F1/13
摘要： 본 발명은 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 반입 또는 반출시 이 기판의 반입 또는 반출 높이까지 승강하도록 구비되는 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것이다.
즉, 본 발명은 평판표시소자 제조장치의 챔버 내부에 설치되어 기판이 승강되게 하는 리프트 핀 모듈에 있어서, 상기 리프트 핀 모듈은, 다수개가 일정 간격으로 스테이지에 배열되는 리프트 핀; 상기 리프트 핀 중 이웃한 복수개씩 묶어 연동되면서 승강될 수 있도록 각각의 리프트 핀 하단이 상면에 고정되고 저면에 연장축이 형성되는 고정 플레이트; 상기 고정 플레이트의 연장축이 챔버 바닥을 통해 외부까지 연장되며 연장되어 노출된 부분을 밀폐시키되 하나에 의해 그룹을 지은 리프트 핀들에 공동으로 사용되는 벨로우즈; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 리프트 핀 모듈에 관한 것이다.
평판표시소자 제조장치, 리프트 핀 모듈, 리프트 핀, 고정 플레이트, 연장축, 벨로우즈, 그룹

10. 发明授权

KR100905394B1 평판표시소자 제조장치 失效
公开(公告)号：KR100905394B1
公开(公告)日：2009-06-30
申请号：KR1020050070317
申请日：2005-08-01
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이영종 , 최준영 , 강찬호 , 이정빈
IPC分类号： H01J11/20
摘要： 본 발명은 진공 상태에서 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.
본 발명은, 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜서 기판에 소정의 처리를 실시하는 평판표시소자 제조장치의 공정 챔버에 있어서, 상기 공정 챔버는 1 장의 대면적 기판과 다수장의 소면적 기판을 겸용으로 처리할 수 있는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치의 공정 챔버를 제공한다.
평판표시소자, 플라즈마, 평판표시소자 제조장치, 클러스터, 겸용 장비

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式