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1. 发明授权

KR101432152B1 기판 지지 모듈 有权
标题翻译：基板支持模块
公开(公告)号：KR101432152B1
公开(公告)日：2014-08-22
申请号：KR1020120128138
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 김현중 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/683
摘要： 본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지, 적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대, 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구 및 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구를 포함한다.
따라서, 본 발명의 실시형태들에 의하면, 기판의 로딩을 위해, 지지대가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지는 경우, 상기 지지대를 지지하고 있는 하부 회전 기구 및 지지 유닛이 고정되어 있지 않고, 유동적으로 움직일 수 있다. 따라서, 지지대에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다.

2. 发明公开

KR1020150076894A 광 조사 장치 有权
标题翻译：照射灯的装置
公开(公告)号：KR1020150076894A
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR1020130165586
申请日：2013-12-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 심형기 , 백성환 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： B23K26/352 , B23K26/064 , B23K26/00
摘要： 본발명은기판에광을조사하여상기기판을처리하는광 조사장치로서, 광의투과가가능한투과창. 투과창의외측방향으로상향경사지며, 투과창의상측에설치되어, 상기기판으로부터반사되어상기투과창을투과한반사광을상쇄시키는덤프, 내부에냉매가순환되고, 상기덤프에설치되어상기덤프를냉각시키는냉각블록을포함한다. 따라서, 본발명의실시형태에의하면, 투과창의외측방향으로상향경사지도록덤프를설치하고, 상기덤프의하부면에요철을마련함으로써, 기판으로부터반사된광의난반사를억제또는최소화하고, 상기반사광이투과창의외측방향을향하도록유도함으로써, 반사광이다시투과창으로입사되는것을억제할수 있다. 이로인해투과창의온도불균일및 온도상승으로인한무라(Mura) 발생및 광쉬프트(shift) 현상을억제할수 있다.
摘要翻译：提供一种光照射装置，其用光照射基板以处理基板，包括：可透过光的穿透窗; 在穿透窗的上部沿着穿透窗的外侧方向向上倾斜的倾倒部，并且偏移从基板反射并穿透穿透窗的反射光; 以及将冷却剂循环并且安装在倾卸器以冷却倾卸物的冷冻块。因此，根据本发明的实施例，倾倒在穿透窗的外侧方向上倾斜，并且在底面上具有不平坦部分，以抑制或最小化从基板反射的光的漫反射，反射光被引导到穿透窗的外部方向，因此可以防止反射光进入穿透窗。由于温度差和穿透窗的上升，可以抑制Mura生成和光偏移现象。

3. 发明公开

KR1020140062593A 기판 지지 모듈 有权
标题翻译：基板支持模块
公开(公告)号：KR1020140062593A
公开(公告)日：2014-05-26
申请号：KR1020120128138
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 김현중 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68785 , H01L21/68742
摘要： A substrate supporting module according to the present invention comprises: a stage having a substrate mounted thereon; a supporting unit which has at least one part vertically penetrating the stage and which vertically moves to load or unload the substrate on or from the stage; a lower rotatory unit including first and second lower rotatory members which are installed to be mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating; and a first upper rotatory unit including first and second upper rotatory members which are mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating. Therefore, the substrate supporting module according to an embodiment of the present invention is provided to make the lower rotate unit, which supports the supporting unit, and the supporting unit move without being fixed when power or impact, which is generated by load or external forces on a substrate, is applied to the left and right sides of the supporting unit, thereby preventing the supporting unit from being damaged or bent.
摘要翻译：根据本发明的基板支撑模块包括：具有安装在其上的基板的台; 支撑单元，其具有至少一个部分，垂直地穿过所述平台并且垂直移动以在所述平台上或从所述台上装载或卸载所述基板; 下旋转单元，其包括第一和第二下旋转构件，其被安装成相互面对跨越所述台内的支撑单元，并且在旋转的同时支撑所述支撑单元; 以及第一上部旋转单元，其包括第一和第二上部旋转构件，所述第一和第二上部旋转构件相互面对跨越所述台内的支撑单元，并且在旋转的同时支撑所述支撑单元。因此，根据本发明的实施例的基板支撑模块被设置成使得支撑支撑单元的下旋转单元，并且当由负载或外力产生的动力或冲击时支撑单元不固定地移动在基板上施加到支撑单元的左侧和右侧，从而防止支撑单元被损坏或弯曲。

4. 发明公开

KR1020130071284A 기판 이송장치 有权
标题翻译：用于传输支持基板的设备
公开(公告)号：KR1020130071284A
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：KR1020110138695
申请日：2011-12-20
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 양상희 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67712 , B65G49/061 , B65G49/067 , G02F1/1303
摘要： PURPOSE: An apparatus for transferring substrates is provided to minimize the contact area between a thin plate and a substrate, thereby suppressing Mura defects caused by friction. CONSTITUTION: An apparatus for transferring substrates comprises a base part(10), a support part(20), and a driving part(30). A substrate is seated in the base unit. The support part supports the base part by penetrating the base part. The support part includes a mounting unit, a base unit, and a guide unit. The driving part moves the support part upwardly and downwardly.
摘要翻译：目的：提供一种用于传送基板的设备，以使薄板和基板之间的接触面积最小化，从而抑制由摩擦引起的Mura缺陷。构成：用于传送基板的装置包括基部（10），支撑部（20）和驱动部（30）。衬底位于基座中。支撑部通过穿透基部来支撑基部。支撑部分包括安装单元，基座单元和引导单元。驱动部件向上和向下移动支撑部分。

5. 发明公开

KR1020150046423A 열처리 장치 有权
标题翻译：治疗设备
公开(公告)号：KR1020150046423A
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：KR1020130125276
申请日：2013-10-21
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 엄태준 , 차은희 , 최동규 , 박재현
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/324 , H01L21/67017 , H01L21/68714
摘要： 본발명에따른열처리장치는내부에기판처리공간을가지는공정챔버, 공정챔버내부에설치되어상부에기판이안치되고, 공정진행방향으로수평이송되는스테이지, 공정챔버외부에설치되어광을출력하여, 상기공정챔버내에장입된기판상에광을조사하는광원및 공정챔버내부에서스테이지의상측에설치되고, 광원으로부터출사된광과불활성가스가통과하여기판으로인도될수 있도록하는내부공간을가지는가스분사모듈을포함하고, 가스분사모듈은, 상기가스분사모듈의하부의양 단부중, 상기스테이지의이송방향에위치한단부로부터내측으로연장되도록마련된제 1 관로를포함하며, 제 1 관로의양 단중, 일단은타단에비해외측에위치하며, 상기제 1 관로의일단과타단사이를연결하는연장라인의내경이상기제 1 관로의일단에비해작다. 따라서, 본발명의실시형태들에의하면, 가스분사모듈의하부에관로를마련함으로써, 기판또는가스분사모듈이위치한방향으로흐르는산소및 불순물을흡입하여, 상기산소및 불순물이가스분사모듈과기판사이의공간, 보다구체적으로는레이저가조사되고있는기판영역으로침투하는것을사전에차단할수 있다.
摘要翻译：根据本发明的热处理装置包括：处理室，其包括内部的基板处理空间; 安装在处理室内的阶段，将基板安装在上部，并且在处理进行方向上水平传送; 安装在所述处理室外部的光源，并且将光照射在嵌入所述处理室中的所述基板上; 以及气体喷射模块，其安装在处理室内的台的上侧，并且包括允许从光源照射的光的内部空间，并且惰性气体进入以被引导到基板，其中气体喷射模块包括第一管道从气体喷射模块的下部的两端的位于台阶的传送方向的端部向内延伸，第一管路的两端的一端位于外侧连接第一管线的一端和另一端的延长线的内径小于第一管线的一端。根据本发明的实施例，在气体喷射模块的下部形成管线，以防止氧气和杂质渗透到气体喷射模块和衬底之间的空间中，更具体地，其中衬底区域通过吸收氧气和沿基板或气体喷射模块所在的方向流动的杂质来照射激光。

6. 发明公开

KR1020140061614A 기판 이송 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：用于转移衬底和加工衬底的装置
公开(公告)号：KR1020140061614A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：KR1020120128136
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 심형기 , 김현중 , 안진영 , 차은희
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L31/18 , H01L51/56
CPC分类号： Y02P70/521 , H01L21/67784 , H01L21/67787 , H01L31/1876 , H01L51/56 , Y02E10/50
摘要： The present invention relates to a substrate transferring device and a substrate processing device and, more specifically, a substrate transferring device and a substrate processing device which has a thin film crystallized on a transferred substrate during processing of the substrate. The substrate transferring device according to an embodiment of the present invention comprises a transfer unit slid by an air bearing and an absorbing unit absorbing the pressure of air bounced off after being sprayed to the air bearing. The substrate processing device according to an embodiment of the present invention comprises: a pair of guide rails placed in a first axis direction and spaced apart from each other; a first axis transfer unit which has the length in a second axis direction to connect the guide rails and which is slid back and forth in the first axis direction along the guide rails by the air bearing provided on the lower surface thereof; a rotary shaft guide inserted into the center of the second shaft transfer unit; a substrate supporting unit provided on the upper part of the rotary shaft guide; and an absorbing unit surrounding the circumference of the air bearing and absorbing the pressure of air sprayed by the air bearing and bounced off.
摘要翻译：本发明涉及一种基板转印装置和基板处理装置，更具体地说，涉及一种在基板处理期间在转印的基板上结晶的薄膜的基板转印装置和基板处理装置。根据本发明的实施例的基板传送装置包括：传送单元，其由空气轴承和吸收单元滑动，吸收单元吸收在喷射到空气轴承之后弹回的空气的压力。根据本发明的实施例的基板处理装置包括：一对导轨，其沿第一轴线方向并且彼此间隔开; 第一轴传送单元，其具有沿第二轴方向的长度，以连接导轨，并且通过设置在其下表面上的空气轴承沿着导轨在第一轴线方向上前后滑动; 插入第二轴传送单元的中心的旋转轴导向件; 设置在所述旋转轴引导件的上部的基板支撑单元; 以及围绕空气轴承的圆周并吸收由空气轴承喷射的空气的压力并被反弹的吸收单元。

7. 发明授权

KR101708412B1 열처리 장치 有权
标题翻译：治疗设备
公开(公告)号：KR101708412B1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020130125276
申请日：2013-10-21
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 엄태준 , 차은희 , 최동규 , 박재현
IPC分类号： H01L21/324
摘要： 본발명에따른열처리장치는내부에기판처리공간을가지는공정챔버, 공정챔버내부에설치되어상부에기판이안치되고, 공정진행방향으로수평이송되는스테이지, 공정챔버외부에설치되어광을출력하여, 상기공정챔버내에장입된기판상에광을조사하는광원및 공정챔버내부에서스테이지의상측에설치되고, 광원으로부터출사된광과불활성가스가통과하여기판으로인도될수 있도록하는내부공간을가지는가스분사모듈을포함하고, 가스분사모듈은, 상기가스분사모듈의하부의양 단부중, 상기스테이지의이송방향에위치한단부로부터내측으로연장되도록마련된제 1 관로를포함하며, 제 1 관로의양 단중, 일단은타단에비해외측에위치하며, 상기제 1 관로의일단과타단사이를연결하는연장라인의내경이상기제 1 관로의일단에비해작다. 따라서, 본발명의실시형태들에의하면, 가스분사모듈의하부에관로를마련함으로써, 기판또는가스분사모듈이위치한방향으로흐르는산소및 불순물을흡입하여, 상기산소및 불순물이가스분사모듈과기판사이의공간, 보다구체적으로는레이저가조사되고있는기판영역으로침투하는것을사전에차단할수 있다.
摘要翻译：提供热处理设备。热处理设备包括处理室，平台，光源和气体注入模块。处理室设置有基板处理空间。该平台位于处理室中，并允许将基板放置在处理室上，并在处理传导方向上水平传送。光源被放置在用于输出光的处理室外部，并且被配置为使得光能够被照射并加载到处理室中的基板。气体注入模块放置在处理室内的平台的上方并具有内部空间。从光源发出的光和惰性气体穿过内部空间被引导到基板。气体注入模块包括从气体注入模块的下部的两个端部之一向内延伸的第一引导管。第一引导管被放置在平台的传送方向上。第一导管的一端部设置在第一导管的另一端部的外侧。能够使第一导管的一端部与另一端部连接的延伸路径的内径小于第一导管的一端部的内径。

8. 发明授权

KR101560377B1 광 조사 장치 有权
标题翻译：照射灯的装置
公开(公告)号：KR101560377B1
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：KR1020130165586
申请日：2013-12-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 심형기 , 백성환 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： B23K26/352 , B23K26/064 , B23K26/00
摘要： 본발명은기판에광을조사하여상기기판을처리하는광 조사장치로서, 광의투과가가능한투과창. 투과창의외측방향으로상향경사지며, 투과창의상측에설치되어, 상기기판으로부터반사되어상기투과창을투과한반사광을상쇄시키는덤프, 내부에냉매가순환되고, 상기덤프에설치되어상기덤프를냉각시키는냉각블록을포함한다. 따라서, 본발명의실시형태에의하면, 투과창의외측방향으로상향경사지도록덤프를설치하고, 상기덤프의하부면에요철을마련함으로써, 기판으로부터반사된광의난반사를억제또는최소화하고, 상기반사광이투과창의외측방향을향하도록유도함으로써, 반사광이다시투과창으로입사되는것을억제할수 있다. 이로인해투과창의온도불균일및 온도상승으로인한무라(Mura) 발생및 광쉬프트(shift) 현상을억제할수 있다.

9. 发明公开

KR1020150107933A 발열기 냉각장치 및 이를 이용한 발열기 냉각방법 无效
标题翻译：电动变压器的冷却装置及其冷却方法
公开(公告)号：KR1020150107933A
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：KR1020140029611
申请日：2014-03-13
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 박헌욱 , 임기석 , 차은희 , 김태수 , 편지현
IPC分类号： H01F27/08
摘要： 본 발명은 발열기의 발열부 온도를 효율적으로 감소시킬 수 있는 발열기 냉각장치 및 발열기 냉각방법에 관한 것으로서, 일측 및 타측면에 각각 유입구 및 배출구가 형성되고, 발열기가 내장되는 하우징과, 하우징 내에서 유입구 및 배출구 각각에 근접 배치되며, 하우징 내로 외부 공기를 유입시키고, 하우징 내부 공기를 외부로 배기시키는 제1 방열팬 및 제2 방열팬을 포함하는 방열부 및 하우징 내측면 상에서 방열부로부터 이격되어 설치되며, 발열부 측으로 냉각공기를 송풍시키는 송풍부를 포함하여, 수용 공간을 형성하는 하우징의 내부로 공기를 흡입하여 내부로 흡입된 냉각 공기를 발열부 측으로 유도하고, 그 반대편에서도 발열부 측으로 공기를 유도하여 발열부 주위의 냉각 공기의 흐름을 변화시켜 풍속을 증가시키고, 증가된 풍속을 갖는 � �각 공기로 발열기를 냉각시킨 후 하우징 외부로 냉각 공기를 배출함으로써, 발열부의 냉각 효율을 증가시킬 수 있다.
즉, 변압기의 열화를 방지하기 위해 변압기의 발열부 부분의 냉각공기의 풍속을 증가시키기 위해 복수의 방열팬 및 송풍팬들을 배치함으로써 직접적으로 발열부의 온도를 저감시킬 수 있고, 변압기의 열화를 방지할 수 있다.
이에, 변압기의 열화에 의한 변압기 성능 저하의 문제 발생을 해소할 수 있고, 화재를 예방할 수 있어 공정의 안전성을 증가시킬 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于冷却加热器的装置和使用该装置冷却加热器的方法，该方法可以降低加热器的发热部分的温度。该装置包括：分别在一侧和另一侧形成入口和排出孔并且安装有加热器的壳体; 一个放热部分，它包括一个第一散热风扇和一个第二散热风扇，它们各自相邻设置在外壳的入口和排放孔中，将外部空气引入外壳并将壳体内的空气排放到外部 ; 以及将发生冷却的空气朝向发热部吹出的吹风部，其中，空气被引入形成容纳空间的壳体的内部，被引导到内部的冷却空气被引导到发热部，风速增加通过在相对侧通过向发热部分的空气的感应来改变发热部分周围的冷却空气的流动，并且在具有增加的风速的冷却空气冷却加热器之后，冷却空气被排放到壳体的外部从而提高发热部的冷却效率。也就是说，为了提高变压器的发热部的发热部的冷却风的风速，配置有多个发热风扇和吹风风扇，能够直接降低发热部的温度，防止发热部的劣化变压器。因此，可以解决由于劣化导致的变压器性能不佳的问题，并且可以防止发生火灾，从而确保公共安全。

10. 发明授权

KR101403458B1 기판 이송 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：用于转移衬底和处理衬底的装置
公开(公告)号：KR101403458B1
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：KR1020120128136
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 심형기 , 김현중 , 안진영 , 차은희
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L31/18 , H01L51/56
CPC分类号： Y02P70/521
摘要： 본 발명은 기판 이송 장치 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 특히 기판 처리 시에 기판을 이송시켜 기판상에 박막을 결정화시키는 기판 처리 장치이다. 본 발명의 실시 형태인 기판 이송 장치는 에어 베어링에 의해 슬라이딩되는 이송대와, 상기 에어 베어링의 둘레를 감싸며, 상기 에어 베어링에서 분사된 후 반사되는 에어압을 흡수하는 흡입기를 포함한다. 또한 본 발명의 실시 형태인 기판 이송 장치는, 제1축 방향으로 놓여 이격된 한 쌍의 가이드 레일과, 상기 한 쌍의 가이드 레일 사이를 잇는 제2축 방향의 길이를 가지며, 하부면에 마련된 에어 베어링에 의해 상기 가이드 레일을 따라 제1축 방향으로 전후진 슬라이딩되는 제1축 이송대와, 상기 제1축 이송대의 상부에 마련되며, 하부면에 마련된 에어 베어링에 의해 상기 제1축 이송대를 따라 제2축 방향으로 전후진 슬라이딩되는 제2축 이송대와, 상기 제2축 이송대의 중앙 내부에 삽입되는 회전축 가이드와, 상기 회전축 가이드 상부에 마련되는 기판 지지대와, 상기 에어 베어링의 둘레를 감싸며, 상기 에어 베어링에서 분사된 후 반사되는 에어압을 흡수하는 흡입기를 포함한다.

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