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1. 发明公开

KR1020150076894A 광 조사 장치 有权
标题翻译：照射灯的装置
公开(公告)号：KR1020150076894A
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR1020130165586
申请日：2013-12-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 심형기 , 백성환 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： B23K26/352 , B23K26/064 , B23K26/00
摘要： 본발명은기판에광을조사하여상기기판을처리하는광 조사장치로서, 광의투과가가능한투과창. 투과창의외측방향으로상향경사지며, 투과창의상측에설치되어, 상기기판으로부터반사되어상기투과창을투과한반사광을상쇄시키는덤프, 내부에냉매가순환되고, 상기덤프에설치되어상기덤프를냉각시키는냉각블록을포함한다. 따라서, 본발명의실시형태에의하면, 투과창의외측방향으로상향경사지도록덤프를설치하고, 상기덤프의하부면에요철을마련함으로써, 기판으로부터반사된광의난반사를억제또는최소화하고, 상기반사광이투과창의외측방향을향하도록유도함으로써, 반사광이다시투과창으로입사되는것을억제할수 있다. 이로인해투과창의온도불균일및 온도상승으로인한무라(Mura) 발생및 광쉬프트(shift) 현상을억제할수 있다.
摘要翻译：提供一种光照射装置，其用光照射基板以处理基板，包括：可透过光的穿透窗; 在穿透窗的上部沿着穿透窗的外侧方向向上倾斜的倾倒部，并且偏移从基板反射并穿透穿透窗的反射光; 以及将冷却剂循环并且安装在倾卸器以冷却倾卸物的冷冻块。因此，根据本发明的实施例，倾倒在穿透窗的外侧方向上倾斜，并且在底面上具有不平坦部分，以抑制或最小化从基板反射的光的漫反射，反射光被引导到穿透窗的外部方向，因此可以防止反射光进入穿透窗。由于温度差和穿透窗的上升，可以抑制Mura生成和光偏移现象。

2. 发明授权

KR101432153B1 광 투과 장치 및 이를 구비하는 어닐링 장치 有权
标题翻译：透光装置及其退火装置
公开(公告)号：KR101432153B1
公开(公告)日：2014-08-22
申请号：KR1020120128139
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 양상희 , 이기웅 , 권오성 , 김성진
IPC分类号： H01L21/26 , H01L21/324 , H01L29/786 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 광을 투과하는 투과창과, 투과창의 가장자리에 마련된 프레임과, 프레임에 압력을 인가하여 투과창을 밀착 고정시키는 복수의 클램프를 포함하고, 클램프는 몸체와, 몸체 내부에 삽입되는 탄성 부재와, 탄성 부재를 통해 몸체를 관통하여 하측으로 돌출되는 체결 부재를 포함하며, 탄성 부재는 상기 체결 부재에 의해 인가되는 압력을 소정 범위 내에서 억제하는 광 투과 장치 및 이를 구비하는 어닐링 장치를 제시한다.

3. 发明公开

KR1020140062593A 기판 지지 모듈 有权
标题翻译：基板支持模块
公开(公告)号：KR1020140062593A
公开(公告)日：2014-05-26
申请号：KR1020120128138
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 김현중 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68785 , H01L21/68742
摘要： A substrate supporting module according to the present invention comprises: a stage having a substrate mounted thereon; a supporting unit which has at least one part vertically penetrating the stage and which vertically moves to load or unload the substrate on or from the stage; a lower rotatory unit including first and second lower rotatory members which are installed to be mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating; and a first upper rotatory unit including first and second upper rotatory members which are mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating. Therefore, the substrate supporting module according to an embodiment of the present invention is provided to make the lower rotate unit, which supports the supporting unit, and the supporting unit move without being fixed when power or impact, which is generated by load or external forces on a substrate, is applied to the left and right sides of the supporting unit, thereby preventing the supporting unit from being damaged or bent.
摘要翻译：根据本发明的基板支撑模块包括：具有安装在其上的基板的台; 支撑单元，其具有至少一个部分，垂直地穿过所述平台并且垂直移动以在所述平台上或从所述台上装载或卸载所述基板; 下旋转单元，其包括第一和第二下旋转构件，其被安装成相互面对跨越所述台内的支撑单元，并且在旋转的同时支撑所述支撑单元; 以及第一上部旋转单元，其包括第一和第二上部旋转构件，所述第一和第二上部旋转构件相互面对跨越所述台内的支撑单元，并且在旋转的同时支撑所述支撑单元。因此，根据本发明的实施例的基板支撑模块被设置成使得支撑支撑单元的下旋转单元，并且当由负载或外力产生的动力或冲击时支撑单元不固定地移动在基板上施加到支撑单元的左侧和右侧，从而防止支撑单元被损坏或弯曲。

4. 发明公开

KR1020130071284A 기판 이송장치 有权
标题翻译：用于传输支持基板的设备
公开(公告)号：KR1020130071284A
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：KR1020110138695
申请日：2011-12-20
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 양상희 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67712 , B65G49/061 , B65G49/067 , G02F1/1303
摘要： PURPOSE: An apparatus for transferring substrates is provided to minimize the contact area between a thin plate and a substrate, thereby suppressing Mura defects caused by friction. CONSTITUTION: An apparatus for transferring substrates comprises a base part(10), a support part(20), and a driving part(30). A substrate is seated in the base unit. The support part supports the base part by penetrating the base part. The support part includes a mounting unit, a base unit, and a guide unit. The driving part moves the support part upwardly and downwardly.
摘要翻译：目的：提供一种用于传送基板的设备，以使薄板和基板之间的接触面积最小化，从而抑制由摩擦引起的Mura缺陷。构成：用于传送基板的装置包括基部（10），支撑部（20）和驱动部（30）。衬底位于基座中。支撑部通过穿透基部来支撑基部。支撑部分包括安装单元，基座单元和引导单元。驱动部件向上和向下移动支撑部分。

5. 发明授权

KR101432152B1 기판 지지 모듈 有权
标题翻译：基板支持模块
公开(公告)号：KR101432152B1
公开(公告)日：2014-08-22
申请号：KR1020120128138
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 김현중 , 이기웅 , 김성진 , 차은희
IPC分类号： H01L21/683
摘要： 본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지, 적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대, 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구 및 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구를 포함한다.
따라서, 본 발명의 실시형태들에 의하면, 기판의 로딩을 위해, 지지대가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지는 경우, 상기 지지대를 지지하고 있는 하부 회전 기구 및 지지 유닛이 고정되어 있지 않고, 유동적으로 움직일 수 있다. 따라서, 지지대에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다.

6. 发明公开

KR1020140062594A 광 투과 장치 및 이를 구비하는 어닐링 장치 有权
标题翻译：轻型穿透装置和具有该装置的退火装置
公开(公告)号：KR1020140062594A
公开(公告)日：2014-05-26
申请号：KR1020120128139
申请日：2012-11-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 양상희 , 이기웅 , 권오성 , 김성진
IPC分类号： H01L21/26 , H01L21/324 , H01L29/786 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02675 , H01L21/2026 , H01L27/1285
摘要： Suggested are a light penetration apparatus and an annealing apparatus having the same. The light penetration apparatus includes a penetration window through which light passes, a frame which is prepared in the edge of the penetration window, and clamps which apply pressure to the fame to be pressed and fixed to the penetration window. The clamp includes a body, an elastic member which is inserted into the body, and a combination member which penetrates the body through the elastic member and protrudes from a lower part. The elastic member restrains the pressure applied by the combination member within a preset range.
摘要翻译：提出了一种透光装置和具有该光穿透装置的退火装置。光穿透装置包括光通过的穿透窗口，准备在穿透窗口的边缘中的框架以及对压力施加压力以被压固并固定到穿透窗口的夹具。夹具包括主体，插入到主体中的弹性构件，以及通过弹性构件穿过主体并从下部突出的组合构件。弹性构件将组合构件施加的压力限制在预设范围内。

7. 发明公开

KR1020130071287A 도킹 유도장치 有权
标题翻译：导向装置用于锁定
公开(公告)号：KR1020130071287A
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：KR1020110138698
申请日：2011-12-20
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김성진 , 김이호 , 안진영 , 김정규
IPC分类号： H01L51/56 , H01L21/67
摘要： PURPOSE: A guiding device for docking is provided to adjust the height of an inducing module so as to make the heights of the inducing module and an optical module the same for an annealing process. CONSTITUTION: A guiding device comprises a bottom frame(10) and a movable part(20). The movable part is mounted on the bottom frame. A joining part(30) is seated in the movable part and combined to an inducing module. A support part(40) is combined to the bottom frame and upwardly protruding to support the inducing module.
摘要翻译：目的：提供用于对接的引导装置，以调节感应模块的高度，以使感应模块的高度和光学模块的退火过程相同。构成：引导装置包括底架（10）和可移动部件（20）。可移动部件安装在底架上。接合部分（30）位于可动部分中并组合到诱导模块。支撑部分（40）组合到底部框架并向上突出以支撑诱导模块。

8. 发明授权

KR101510772B1 광 조사 장치 有权
标题翻译：照射灯的装置
公开(公告)号：KR101510772B1
公开(公告)日：2015-04-10
申请号：KR1020130165584
申请日：2013-12-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 에이피에스홀딩스 주식회사
发明人： 양상희 , 이기웅 , 김성진
IPC分类号： B23K26/352 , B23K26/064 , B23K26/40
摘要： 본발명은기판에광을조사하여상기기판을처리하는광 조사장치로서, 광의투과가가능한투과창, 투과창의외측방향으로상향경사지며, 상기투과창의상측에설치되어, 기판으로부터반사되어상기투과창을투과한반사광을 1차상쇄시키는제 1 덤프및 제 1 덤프와투과창사이에위치하며, 상기제 1 덤프에비해상기투과창의중심축에서더 외측에설치되어, 상기제 1 덤프로부터 1차상쇄된반사광을 2차상쇄시켜소멸시키는제 2 덤프를포함한다. 따라서, 본발명의실시형태에의하면, 기판으로부터반사된광의난반사를억제또는최소화하고, 상기반사광이투과창의외측방향을향하도록유도함으로써, 반사광이다시투과창으로입사되는것을억제할수 있다. 그리고, 제 1 덤프의하측에제 2 덤프를마련함으로써, 제 1 덤프로부터 1차상쇄된반사광을 2차상쇄시킴으로써최종소멸시킨다. 이에, 반사광이투과창및 그주변으로재반사되는것을방지할수 있어, 반사광에의한투과창및 그주변의온도상승및 온도불균일문제를억제할수 있으며, 따라서, 무라(Mura) 발생및 광쉬프트(shift) 현상을억제할수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于照射光的装置，其将光照射在板上并对板进行处理。该装置包括穿透窗口，光穿透窗口，穿透窗口的外部方向上倾斜的第一倾倒装置安装在穿透窗口的顶部，并且首先抵消从基板反射并穿透穿透窗口的光线，并且位于第一倾倒和穿透窗口之间的第二倾倒装置从与第一倾倒相比的穿透窗口的中心轴线安装在外部，并且其次偏移和去除首先被第一倾倒偏移的反射光。因此，通过抑制或最小化从板反射的光的漫反射，将反射光向穿透窗的外侧方向引导，能够抑制反射光的透过。此外，通过将第二倾卸物放置在第一倾卸物的下侧，并且第二偏移首先由第一倾倒偏移的反射光可以熄灭反射光。因此，该装置防止反射光再次反射到穿透窗口，并且抑制由反射光引起的穿透窗及其周围的温度上升和温度不均匀，从而抑制Mura和光偏移。

9. 发明授权

KR101389005B1 레이저 가공장치 및 그 제어방법 有权
公开(公告)号：KR101389005B1
公开(公告)日：2014-04-28
申请号：KR1020110138701
申请日：2011-12-20
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박헌욱 , 임기석 , 김성진 , 최동규
IPC分类号： B23K26/70 , B23K26/064
摘要： 본 발명은 레이저 가공장치 및 그 제어방법에 관한 것으로서, 특히, 기판 중에서 레이저 가공이 요구되는 부분에만 선택적으로 레이저 가공이 진행될 수 있고, 기판과 스테이지 사이에 산소가 잔존하는 것을 방지할 수 있는 레이저 가공장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
본 발명은, 반응챔버 내부에 설치되고 기판이 안착되는 스테이지와, 스테이지에 구비되고 기판과 스테이지 사이의 산소를 반응챔버 외부로 배출하는 진공부와, 스테이지에 기판이 안착되면 스테이지의 중앙부로부터 외측 방향으로 단계적인 산소배출작업이 진행되도록 진공부에 작동신호를 송신하는 제어부를 포함하는 레이저 가공장치를 제공한다.

10. 发明公开

KR1020130071290A 레이저 가공장치 및 그 제어방법 有权
标题翻译：激光加工设备及其控制方法
公开(公告)号：KR1020130071290A
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：KR1020110138701
申请日：2011-12-20
申请人： 에이피에스홀딩스 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박헌욱 , 임기석 , 김성진 , 최동규
IPC分类号： B23K26/70 , B23K26/064
摘要： PURPOSE: A laser processing device and a control method thereof are provided to prevent gas from remaining between a substrate and a stage when the substrate is mounted on the stage. CONSTITUTION: A laser processing device comprises a reaction chamber(10), a stage, a vacuum unit, a laser generation unit(50), an optical unit(70), and a control unit. The reaction chamber comprises the stage on which a substrate is mounted. The stage is installed in the reaction chamber, and the substrate is mounted on the stage. The vacuum unit is installed on the stage and discharges oxygen between the substrate and the stage to the outside of the reaction chamber. The laser generation unit irradiates the laser beam. The optical unit transmits the laser beam to the inside of the reaction chamber. The control unit transmits an operation signal to the vacuum unit when the substrate is mounted on the stage.
摘要翻译：目的：提供一种激光加工装置及其控制方法，以防止当基板安装在台架上时气体残留在基板与台架之间。构成：激光加工装置包括反应室（10），载物台，真空单元，激光产生单元（50），光学单元（70）和控制单元。反应室包括其上安装有基底的载物台。该台安装在反应室中，基板安装在台上。真空单元安装在平台上，并将基板和载物台之间的氧气排放到反应室外部。激光发生单元照射激光束。光学单元将激光束透射到反应室的内部。当基板安装在平台上时，控制单元将操作信号发送到真空单元。

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