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热词
    • 1. 发明公开
    • 레이저 보정 방법 및 장치
    • 用于补偿激光器和操作其的装置的方法
    • KR1020150076895A
    • 2015-07-07
    • KR1020130165587
    • 2013-12-27
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 김현중방용식박건식지호진
    • H01S3/10B23K26/0622
    • H01S3/105B23K26/04H01S3/2383
    • 본발명은레이저보정방법및 장치로서, 기판에레이저를조사할때 레이저의에너지세기를보정하는방법및 장치에관한것이다. 본발명의실시형태는복수의레이저광원에서발진되어각각의개별감쇠기에의해세기조절된개별레이저펄스의피크값을각각측정하는개별레이저펄스측정과정; 측정되는개별레이저펄스의피크값이미리설정한개별오차범위를벗어난경우, 오차범위를벗어난레이저광원에할당된개별감쇠기의입사각을조절하는개별감쇠기입사각제어과정; 측정되는개별레이저펄스의피크값이미리설정한개별오차범위내에들어올때까지, 상기개별레이저펄스측정및 개별감쇠기입사각제어를반복하는과정;을포함한다.
    • 本发明涉及一种用于补偿激光的方法和装置,更具体地说,涉及一种用于补偿激光的方法和装置,其补偿当在基板上照射激光时激光的能量强度。 根据本发明的实施例,该方法包括:单个激光脉冲测量过程,其测量从各个振动器控制其强度的多个激光光源中取出的各个激光脉冲的峰值; 如果单个激光脉冲的测量峰值偏离预设的单独误差范围,则控制分配给激光源的各个阻尼器的入射角偏离预设单独误差范围的单独阻尼器入射角控制过程; 以及继续测量各个激光脉冲并控制各个阻尼器的入射角直到各个激光脉冲的测量峰值进入预设的单独误差范围的步骤。
    • 2. 发明公开
    • 기판 지지 모듈
    • 基板支持模块
    • KR1020140062593A
    • 2014-05-26
    • KR1020120128138
    • 2012-11-13
    • 삼성디스플레이 주식회사에이피에스홀딩스 주식회사
    • 김현중이기웅김성진차은희
    • H01L21/683
    • H01L21/68785H01L21/68742
    • A substrate supporting module according to the present invention comprises: a stage having a substrate mounted thereon; a supporting unit which has at least one part vertically penetrating the stage and which vertically moves to load or unload the substrate on or from the stage; a lower rotatory unit including first and second lower rotatory members which are installed to be mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating; and a first upper rotatory unit including first and second upper rotatory members which are mutually faced across the supporting unit inside the stage and which support the supporting unit while rotating. Therefore, the substrate supporting module according to an embodiment of the present invention is provided to make the lower rotate unit, which supports the supporting unit, and the supporting unit move without being fixed when power or impact, which is generated by load or external forces on a substrate, is applied to the left and right sides of the supporting unit, thereby preventing the supporting unit from being damaged or bent.
    • 根据本发明的基板支撑模块包括:具有安装在其上的基板的台; 支撑单元,其具有至少一个部分,垂直地穿过所述平台并且垂直移动以在所述平台上或从所述台上装载或卸载所述基板; 下旋转单元,其包括第一和第二下旋转构件,其被安装成相互面对跨越所述台内的支撑单元,并且在旋转的同时支撑所述支撑单元; 以及第一上部旋转单元,其包括第一和第二上部旋转构件,所述第一和第二上部旋转构件相互面对跨越所述台内的支撑单元,并且在旋转的同时支撑所述支撑单元。 因此,根据本发明的实施例的基板支撑模块被设置成使得支撑支撑单元的下旋转单元,并且当由负载或外力产生的动力或冲击时支撑单元不固定地移动 在基板上施加到支撑单元的左侧和右侧,从而防止支撑单元被损坏或弯曲。
    • 3. 发明公开
    • 레이저 빔 프로파일러를 구비하는 레이저 가공장치
    • 具有激光光束分析仪的激光加工设备
    • KR1020110070265A
    • 2011-06-24
    • KR1020090127018
    • 2009-12-18
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 유효경김현중박헌욱정화
    • B23K26/00B23K26/02C21D1/09C23C16/02
    • B23K26/0066B23K26/02C21D1/09C23C16/02
    • PURPOSE: A laser processing apparatus equipped with a laser beam profiler is provided to measure a beam profile in the longitudinal direction of laser irradiated in the form of a line so as to achieve thermal treatment uniformity and improve measurement accuracy. CONSTITUTION: A laser processing apparatus equipped with a laser beam profiler comprises a laser irradiation apparatus, a substrate support(40) and a beam profiler(130). The laser irradiation apparatus irradiates a line-shape laser beam having a length in a direction parallel with a substrate to the substrate. The substrate support is movable in the horizontal direction along the longitudinal direction of the laser beam. The beam profiler arranged opposite to the line of the laser. The beam profiler is installed at the side of the substrate support. The beam profiler is moved with the substrate support in the horizontal direction and measures a beam profile in the longitudinal direction of the laser beam.
    • 目的:提供一种配备有激光束轮廓仪的激光加工设备,以测量以线形式照射的激光纵向的光束轮廓,以实现热处理均匀性并提高测量精度。 构成:配备有激光束轮廓仪的激光加工装置包括激光照射装置,基板支架(40)和光束轮廓仪(130)。 激光照射装置将具有与基板平行的方向的长度的线状激光束照射到基板。 基板支撑件沿着激光束的纵向在水平方向上可移动。 光束轮廓仪布置成与激光线相对。 光束轮廓仪安装在基板支架的侧面。 光束轮廓仪与基板支撑件沿水平方向一起移动,并测量激光束的纵向方向上的光束轮廓。
    • 4. 发明授权
    • 레이저 가공장치
    • 激光加工设备
    • KR100939043B1
    • 2010-01-27
    • KR1020070117781
    • 2007-11-19
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 김현중김대진엄승환이광재
    • H01S3/10
    • B23K26/042
    • 본 발명에 따른 레이저 가공장치는 레이저 빔을 발진시키는 레이저 발진부; 레이저 발진부에서 발진된 레이저 빔을 소정의 빔 폭을 구비한 빔 프로파일의 에너지 밀도를 가지도록 변환하는 광학계; 광학계에서 변환된 레이저 빔이 투과되며, 투과된 레이저 빔이 내부에 배치된 공정대상물에 조사되는 챔버; 레이저 발진부와 챔버 사이에 배치되며, 레이저 빔을 반사시키는 반사기; 및 챔버로 조사되는 레이저 빔을 정렬하기 위한 레이저 빔 정렬유닛;을 구비하는 레이저 가공장치에 있어서, 레이저 빔 정렬유닛은, 반사기와 공정대상물 사이에 설치되어 레이저 빔의 진행 경로 상에 배치되며, 레이저 빔이 통과 가능하도록 레이저 빔의 단면적 보다 더 크게 관통 형성된 관통공이 형성된 정렬부재; 반사기에서 반사된 레이저 빔의 진행경로가 조절되도록 반사기를 구동하는 구동기; 및 정렬부재의 관통공을 통과하는 것으로 검출된 레이저 빔을 기초로 레이저 빔의 중심과 관통공의 중심 간의 거리가 조절되도록 구동기를 제어하는 제어기;를 구비한다.
      레이저 어닐링, 엑시머 레이저, 정렬(alignment), 호모지나이저
    • 5. 发明授权
    • 불활성 가스 분위기 형성장치 및 이를 이용한 레이저어닐링 장치
    • 用于形成惰性气体环境的装置和使用相同装置的激光退火装置
    • KR100865479B1
    • 2008-10-27
    • KR1020060129249
    • 2006-12-18
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 양상희김현중김대진조운기
    • H01L21/324
    • 본 발명은 불활성 가스 분위기 형성장치 및 이를 이용한 레이저 어닐링 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 불활성 가스 분위기 형성장치는 챔버의 투명윈도우와 스테이지 사이에 배치되며, 레이저광이 통과할 수 있도록 상면과 하면 사이를 관통하는 슬릿이 형성되어 있는 본체와, 본체를 관통하여 본체의 외측과 슬릿을 상호 연통시킴으로써 본체 외부의 불활성 가스를 슬릿의 내측으로 유입시키는 유로부 및 스테이지의 상면에 장착된 기판으로부터 상방으로 이격되도록 본체의 둘레를 따라 복수 개 배치되며, 슬릿을 통해 기판의 상면측으로 유입된 불활성 가스가 기판의 평면 방향을 따라 배출되도록 불활성 가스의 배출을 가이드하는 가이드부재를 구비하여, 유로부와 슬릿을 통해 나온 불활성 가스는 스테이지에 기판이 장착되는 경우 기판의 상면과 가이드부재의 하면 사이를 통해 배출되는 것에 특징이 있다.
      또한, 본 발명에 따른 레이저 어닐링 장치는 레이저광이 통과할 수 있는 투명윈도우가 그 상면에 부착된 챔버와, 챔버 내에 설치되며 서로 수직한 X축 및 Y축 방향을 따라 왕복이동되며 그 상부에 기판이 장착되는 스테이지와, 불활성 가스 분위기 형성장치를 구비하는 것에 특징이 있다.
      불활성 가스, 챔버, 스테이지, 레이저, 어닐링
    • 7. 发明授权
    • 레이저 조사 방법 및 레이저 조사 모듈
    • 用于补充激光和用于操作激光的模块的方法
    • KR101523673B1
    • 2015-05-28
    • KR1020130165585
    • 2013-12-27
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 김현중방용식박건식고병호지호진
    • H01S3/10H01S3/036H01L21/324C21D1/09
    • H01S5/0264C21D1/10H01L21/3242H01S3/036H01S3/101H01S3/1051H01S3/1396
    • 본발명은레이저를모니터링하여보정하는레이저보정방법으로서, 조사되고있는레이저를분석하여, 상기레이저의두 번째피크를검출하는과정; 상기두 번째피크와기 설정된기준피크를비교하여, 상기두 번째피크가상기기준피크에만족하는지판단하는과정; 상기검출된두 번째피크(2peak)와기준피크의비교, 판단결과에따라, 상기레이저를발진하는레이저발진기에레어가스(rare gas) 및할로겐가스중 적어도어느하나의가스의공급여부를제어한다. 따라서, 본발명의실시형태들에의하면기판에형성된비정질박막에레이저를조사하여결정화시키는공정중에, 레이저를실시간으로분석하여레이저세기를제어한다. 즉, 박막에조사되는레이저펄스의두 번째피크가기준피크에비해작을경우레어가스를공급하여상기두 번째피크를기준피크에도달하도록증가시키고, 두번째피크가기준피크에비해클 경우할로겐가스를공급하여상기두 번째피크를기준피크에도달하도록감소시킨다. 따라서, 일정한크기의두 번째피크의레이저세기로기판이결정화됨에따라, 일정한결정화박막및 고품질의결정화박막을얻을수 있다.
    • 本发明涉及一种通过监视校正激光的激光校正方法,包括: 通过分析要照射的激光来检测激光的第二峰的处理; 通过将第二峰与标准峰进行比较来确定第二峰是否满足标准峰的处理; 以及根据第二峰和标准啄的比较和判定结果,将激光振荡器中的稀有气体和卤素气体之间的至少一种控制到激光振荡器的过程。 根据本发明的实施例,通过在用激光照射形成在衬底上的非晶薄膜并使其结晶的工艺中实时分析激光来控制激光的强度。 换句话说,如果照射到薄膜的激光脉冲的第二峰值低于标准峰值,则通过供给稀有气体来增加第二峰值到达标准峰值。 如果第二个峰值高于标准峰值,则通过供应卤素气体来减少第二个峰值达到标准峰值。 因此,由于基板以固定尺寸的第二峰值的激光强度结晶,因此可以获得规则的结晶薄膜和高质量的结晶薄膜。
    • 8. 发明授权
    • 기판 지지 모듈
    • 基板支持模块
    • KR101432152B1
    • 2014-08-22
    • KR1020120128138
    • 2012-11-13
    • 삼성디스플레이 주식회사에이피에스홀딩스 주식회사
    • 김현중이기웅김성진차은희
    • H01L21/683
    • 본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지, 적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대, 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구 및 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구를 포함한다.
      따라서, 본 발명의 실시형태들에 의하면, 기판의 로딩을 위해, 지지대가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지는 경우, 상기 지지대를 지지하고 있는 하부 회전 기구 및 지지 유닛이 고정되어 있지 않고, 유동적으로 움직일 수 있다. 따라서, 지지대에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다.
    • 9. 发明公开
    • 레이저 가공장치 및 가공방법
    • 激光加工设备和激光加工方法
    • KR1020090105423A
    • 2009-10-07
    • KR1020080030863
    • 2008-04-02
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 이광재김대진김현중엄승환
    • B23K26/06B23K26/08B23K26/00
    • PURPOSE: A laser processing apparatus and a processing method thereof are provided to improve processing yield of a laser processing apparatus by re- irradiating a laser beam on a processed area in which processing is not completed. CONSTITUTION: A laser processing apparatus(100) comprises a laser beam light source(10), an optical system(30), a stage(40), and a controller. The laser beam light source emits laser beam. The optical system processes the shape and the energy band of the laser beam. The laser beam processed by the optical system is irradiated on the stage. A processed object(P) is arranged on the stage. The stage is arranged to move relatively on the laser beam light source. The controller judges the need for re-irradiating the laser beam on the processed area. The controller controls the laser beam light source to re-irradiate the laser beam on the processed area in case of the need of re-irradiation of the laser beam.
    • 目的:提供一种激光加工设备及其处理方法,通过在未完成处理的处理区域上重新照射激光束来提高激光加工设备的加工成品率。 构成:激光加工装置(100)包括激光束光源(10),光学系统(30),平台(40)和控制器。 激光束光源发射激光束。 光学系统处理激光束的形状和能带。 由光学系统处理的激光束照射在平台上。 处理对象(P)被布置在平台上。 舞台被布置成相对于激光束光源移动。 控制器判断需要在经处理的区域上再次照射激光束。 在需要重新照射激光束的情况下,控制器控制激光束光源在被处理区域上重新照射激光束。
    • 10. 发明公开
    • 불활성 가스 분위기 형성장치 및 이를 이용한 레이저어닐링 장치
    • 使用相同装置形成气体环境和激光退火装置的装置
    • KR1020080056399A
    • 2008-06-23
    • KR1020060129249
    • 2006-12-18
    • 에이피에스홀딩스 주식회사
    • 양상희김현중김대진조운기
    • H01L21/324
    • H01L21/67017H01L21/268H01L21/324H01L21/67098
    • An apparatus for forming an inert gas atmosphere is provided to shorten an interval of process time by performing a laser annealing process in an inert gas atmosphere without forming vacuum in a chamber of a laser annealing apparatus. A main body(30) is disposed between a transparent window and a stage in a chamber wherein a slit penetrates a gap between the upper and lower surfaces of the main body so that laser light can pass through. A flow path part penetrates the main body, interconnecting the outside of the main body and the slit to introduce the inert gas outside the main body into the slit. A plurality of guide members(70) are formed along the circumference of the main body to be separated upward from a substrate mounted on the stage, guiding the exhaust of inert gas so that the inert gas introduced into the upper surface of the substrate through the slit is exhausted along the plasma direction of the substrate. The inert gas exhausted through the flow path part and the slit is exhausted through a gap between the upper surface of the substrate and the lower surface of the guide member when the substrate is mounted on the stage. The guide member can be disposed between the lower surface of the main body and the upper surface of the substrate.
    • 提供一种用于形成惰性气体气氛的装置,以通过在惰性气体气氛中进行激光退火处理来缩短处理时间的间隔,而不在激光退火装置的腔室中形成真空。 主体(30)设置在透明窗和室中的台之间,其中狭缝穿透主体的上表面和下表面之间的间隙,使得激光可以通过。 流路部分穿透主体,将主体的外部和狭缝相互连接,将主体外部的惰性气体引入狭缝。 沿着主体的圆周形成多个引导构件70,以从安装在载置台上的基板向上分离,引导惰性气体的排出,使得通过该惰性气体引入到基板的上表面中的惰性气体 沿着基板的等离子体方向排出狭缝。 当衬底安装在平台上时,通过流路部分和狭缝排出的惰性气体通过衬底的上表面和引导构件的下表面之间的间隙排出。 引导构件可以设置在主体的下表面和基板的上表面之间。