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热词
    • 2. 发明公开
    • 공진 수단의 구동 장치 및 방법
    • 用于驱动共振装置的装置和方法
    • KR1020090067516A
    • 2009-06-25
    • KR1020070135200
    • 2007-12-21
    • 삼성전자주식회사재단법인서울대학교산학협력재단
    • 전성찬김선일손영목백찬욱김현진
    • H03B1/00B82Y40/00
    • An apparatus and a method for driving a resonant unit are provided to high maintain a value of a quality factor of a nano resonator by applying a DC power to a resonant unit. An AC power source part(10) generates a driving power having a fixed size in order to generate resonance in a resonant unit(30). An attenuating part(11) is connected between the AC power source part and the resonant unit. A phase dividing part(12) is connected between the AC power source part and the resonant unit. The phase dividing part divides an AC power generated in the AC power source part into two or more power having a fixed phase difference. A DC power supply source part(20) generates a DC power of a desired size. The resonant unit is resonated by using the AC power as the driving power. A detecting unit(40) grasps a resonant property of the resonant unit by detecting an inducing voltage. A control part(50) controls the AC power source part and the DC power source part.
    • 提供了用于驱动谐振单元的装置和方法,以通过向谐振单元施加DC电力来高度维持纳米谐振器的品质因数的值。 交流电源部分(10)产生具有固定尺寸的驱动电力,以便在谐振单元(30)中产生谐振。 在AC电源部分和谐振单元之间连接有衰减部分(11)。 相位分离部(12)连接在交流电源部与谐振单元之间。 相分离部将交流电源部中产生的交流电力分成具有固定相位差的2个以上的电力。 直流电源部件(20)产生期望尺寸的直流电力。 谐振单元通过使用AC电力作为驱动电力来谐振。 检测单元(40)通过检测感应电压来掌握谐振单元的谐振特性。 控制部(50)控制交流电源部和直流电源部。
    • 4. 发明授权
    • 다단계 기판 식각 방법 및 이를 이용하여 제조된테라헤르츠 발진기
    • 通过该方法制造的多级基板蚀刻方法和太赫兹辐射源
    • KR101310668B1
    • 2013-09-24
    • KR1020070074593
    • 2007-07-25
    • 삼성전자주식회사
    • 백찬욱김종석전성찬김선일김종민전찬봉이상훈
    • H01L21/306
    • H01P11/003Y10T428/24802
    • 다단계 기판 식각 방법 및 이를 이용하여 제조된 테라헤르츠 발진기가 개시된다. 본 발명은 제1 기판의 어느 한 면에 제1 마스크 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1 마스크 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 제1 기판을 식각하여 홀을 형성하는 단계; 식각 하고자 하는 깊이와 동일한 두께를 갖는 제2 기판을 상기 제1 기판과 접합하는 단계; 상기 접합된 제2 기판 위에 제2 마스크 패턴을 형성하는 단계; 상기 제2 마스크 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 제2 기판을 식각하여 홀을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 식각 선택비를 갖는 산화막을 제거하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 깊은 단차에서도 에칭 바닥면을 균일하게 할 수 있고, 가장자리의 곡률 반경을 최소화하며, 벽면의 T-shape 형상 등을 방지하여 에칭 품질을 향상시킬 수 있고, 에칭 깊이를 미리 래핑(lapping) 이나 폴리싱(polishing)을 통해 조절 가능하고, 상하판의 얼라인 키를 이용하여 정확하게 접합할 수 있으며, 멀티 레이어(multi layer) 공정이 가능하여 발진기나 증폭기 구조의 정밀도와 균일도를 얻을 수 있다.