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热词
    • 2. 发明公开
    • 올리고머 프로브 어레이 및 이의 제조 방법
    • 低分子探针阵列及其制备方法
    • KR1020080075738A
    • 2008-08-19
    • KR1020070015056
    • 2007-02-13
    • 삼성전자주식회사
    • 김원선하정환지성민김경선류만형
    • C12Q1/68B82Y15/00
    • C12Q1/6837B01J19/0046B01J2219/00432B01J2219/00434B01J2219/00466B01J2219/00497B01J2219/005B01J2219/00527B01J2219/00576B01J2219/00585B01J2219/00596B01J2219/00648B01J2219/00659B01J2219/00662B01J2219/00675B01J2219/00711B01J2219/00722B01J2219/00725B82Y30/00B82Y15/00C12Q2563/155
    • An oligomer probe array is provided to improve reaction yield by immobilizing nanoparticles to an immobilization layer, and increase detection intensity after hybridizing with a target material by using photo crystal structure formed by nanoparticles. An oligomer probe array(100) comprises: a substrate(110); an immobilization layer(120) on the substrate, containing a plurality of probe cell regions(A) where the nanoparticles are coupled, which are divided by probe cell separation regions(B); nanoparticles(140) coupled to the immobilization layer and forming photo crystal structure for amplifying wavelength of light emitted from fluorescent materials attached to a target material to be hybridized; and an oligomer probe(165) coupled to the nanoparticles, wherein the diameter of nanoparticles is 100-1,000 nm and the distance between nanoparticle centers is 100-1,000 nm; and the nanoparticle is polystyrene, polymethylmethacrylate, polymethylmethacrylate copolymer or silica, glass, magnet, Wang resin, Merrifield resin, metal, plastic, cellulose, sephadex or sepharose. Further, the plurality of probe cell regions have three-dimensional surfaces.
    • 提供了一种低聚物探针阵列,以通过将纳米颗粒固定在固定化层上来提高反应产率,并通过使用纳米颗粒形成的光致结晶结构,与目标物质杂交后提高检测强度。 低聚物探针阵列(100)包括:基底(110); 在所述基板上的固定层(120),其包含被所述探针单元分离区域(B)分割的多个所述纳米粒子耦合的探针单元区域(A)。 纳米颗粒(140),其耦合到固定层并形成光晶体结构,用于放大从附着于待杂交的靶材上的荧光材料发出的光的波长; 和耦合到纳米颗粒的低聚物探针(165),其中纳米颗粒的直径为100-1,000nm,并且纳米颗粒中心之间的距离为100-1000nm; 纳米颗粒是聚苯乙烯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚甲基丙烯酸甲酯共​​聚物或二氧化硅,玻璃,磁铁,王氏树脂,Merrifield树脂,金属,塑料,纤维素,sephadex或sepharose。 此外,多个探针单元区域具有三维表面。
    • 3. 发明公开
    • 마이크로 어레이용 마스크 세트, 이의 제조 방법, 및마스크 세트를 이용한 마이크로 어레이의 제조 방법
    • 用于微阵列的掩模组,其制造方法以及使用掩模组制作微阵列的方法
    • KR1020080075683A
    • 2008-08-19
    • KR1020070014934
    • 2007-02-13
    • 삼성전자주식회사
    • 신재필최진숙하정환유문현이종배
    • C12Q1/68C12Q1/00
    • G03F1/36G03F1/00G03F1/144B01J19/0046C12Q1/6837C12Q1/6841
    • A mask set for in-situ synthesis of probes of a microarray is provided to permit accurate exposure to the edge of probe cells by adding the optical proximity correction pattern, wherein a transparent portion of each mask reflects the effects of adjacent transparent portion, so that reliability of the probe in-situ synthesis is improved. A plurality of masks for in situ synthesis of probes on a substrate containing a plurality of arrayed probe cells contain a transparent portion and a non-transparent portion in each mask, wherein the probe cell corresponds to any one of the transparent portion and non-transparent portion of each mask; and the transparent portion pattern is a pattern having corrected optical proximity effects. A method for fabricating the mask set for microarray comprises the steps of: providing a plurality of mask layouts containing a transparent portion and a non-transparent portion, wherein the probe cell corresponds to any one of the transparent portion and non-transparent portion of each mask; performing optical proximity effects correction for the transparent portion pattern of each mask layout; and fabricating a plurality of masks by using each mask layout performing the optical proximity effects correction.
    • 提供用于原位合成微阵列探针的掩模组,以允许通过添加光学邻近校正图案来准确地暴露于探针单元的边缘,其中每个掩模的透明部分反映相邻透明部分的影响,使得 探针原位合成的可靠性得到改善。 用于在包含多个排列的探针单元的基板上原位合成探针的多个掩模包含每个掩模中的透明部分和不透明部分,其中探针单元对应于透明部分和不透明的任何一个 每个面罩的一部分; 并且透明部分图案是具有校正的光学邻近效应的图案。 制造微阵列掩模组的方法包括以下步骤:提供包含透明部分和不透明部分的多个掩模布局,其中探针单元对应于每个透明部分和不透明部分中的任一个 面具; 对每个掩模布局的透明部分图案执行光学邻近效应校正; 以及通过使用执行光学邻近效应校正的每个掩模布局来制造多个掩模。
    • 6. 发明授权
    • 포토레지스트용 탑 코팅 조성물과 이를 이용한포토레지스트 패턴 형성 방법
    • 用于光致抗蚀剂的顶涂组合物和使用其形成光致抗蚀剂图案的方法
    • KR100574993B1
    • 2006-05-02
    • KR1020040094925
    • 2004-11-19
    • 삼성전자주식회사
    • 하타미쯔히로류만형우상균김현우하정환윤진영
    • G03F7/027
    • 액침 리소그래피 공정에 적용될 수 있는 포토레지스트용 탑 코팅 조성물과, 액침 리소그래피 공정에 의한 포토레지스트 패턴 형성 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 탑 코팅 조성물은 카르복실기 또는 술폰산기를 함유하는 폴리머, 염기, 및 순수를 포함하는 용매로 이루어진다. 본 발명에 따른 탑 코팅 조성물로 구성된 탑 코팅막은 TAG를 이용하거나 물에 침지시키는 방법에 의해 물에 녹지 않는 불용성막으로 될 수 있다. 이와 같이 얻어진 불용성 탑 코팅막을 배리어로 사용하여 액침 리소그래피 공정을 행함으로써 액침 매체를 통한 노광중에 포토레지스트 성분이 액침 매체에 용해되는 것을 방지할 수 있다.
      액침 리소그래피, 카르복실기, TAG, 침지, 굴절율
    • 可以应用于浸没式光刻工艺的用于光刻胶的顶涂层组合物,以及通过浸没式光刻工艺形成光刻胶图案的方法。 根据本发明的面漆组合物包含含有羧基或磺酸基团的聚合物,碱和包含纯水的溶剂。 由根据本发明的顶部涂层组合物构成的顶部涂层可以是通过使用TAG或通过浸入水中而不溶于水的不溶性膜。 通过使用由此获得的不溶性顶涂膜作为阻挡层进行浸没式光刻工艺,可以防止在通过浸渍介质曝光期间光刻胶组分溶解在浸渍介质中。