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1. 发明授权

KR102219451B1 스토리지 컨트롤러, 이의 동작 방법 및 이를 포함하는 솔리드 스테이트 디스크 有权
公开(公告)号：KR102219451B1
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：KR1020140125437
申请日：2014-09-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박광수 , 김수진 , 조정희
IPC分类号： G11C16/06 , G11C16/30
摘要： 스토리지컨트롤러는제1 온-다이터미네이션(on-die termination, 이하 ODT) 회로, 제2 ODT 회로및 ODT 제어회로를포함한다. 상기제1 ODT 회로는데이터스트로브신호가전달되는스트로브신호라인에제1 종단저항을제공한다. 상기제2 ODT 제어회로는데이터가전달되는적어도하나의데이터라인에제2 종단저항을제공한다. 상기 ODT 제어회로는상기제1 ODT 회로와상기제2 ODT 회로의활성화와비활성화를개별적으로제어한다.

2. 发明公开

KR1020170019196A 사용자의 활동 정보를 검출하기 위한 방법 및 그 전자 장치 审中-实审
标题翻译：用户资料我的帐户我的资料我的资料我的资料
公开(公告)号：KR1020170019196A
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：KR1020150113288
申请日：2015-08-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희 , 구상철 , 서정원 , 주선태 , 나신영 , 김태호 , 박정민
IPC分类号： G06Q50/22 , A61B5/00 , G06Q10/10
CPC分类号： G06F19/3481 , G06F19/00 , G09B5/02 , G09B19/003 , G09B19/0038
摘要： Various embodiments of the present invention relate to a device and a method to provide an exercise service in an electronic device. According to the present invention, the electronic device comprises: a communication module; a memory to store a plurality of algorithms for analyzing user activities; and a processor. The processor: acquires activity schedule information associated with user activity; selects at least one recognition algorithm from the plurality of recognition algorithms at least based on the activity schedule information; and uses the at least one recognition algorithm to analyze the activity information associated with the user activity, so as to provide activity guide information associated with the user activity. Other embodiments can be possible.
摘要翻译：本发明的各种实施例涉及在电子设备中提供锻炼服务的设备和方法。根据本发明，该电子设备包括：通信模块; 存储器，用于存储用于分析用户活动的多个算法; 和一个处理器。处理器：获取与用户活动相关的活动时间表信息; 至少基于活动调度信息从多个识别算法中选择至少一个识别算法; 并且使用至少一个识别算法来分析与用户活动相关联的活动信息，以便提供与用户活动相关联的活动指导信息。其他实施例是可能的。

3. 发明授权

KR100834832B1 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법 有权
标题翻译：使用覆盖测量装置测量图案的关键尺寸的方法
公开(公告)号：KR100834832B1
公开(公告)日：2008-06-03
申请号：KR1020060119040
申请日：2006-11-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희 , 강현태 , 김장훈 , 전기현
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/027
CPC分类号： H01L22/12 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要： A method for measuring a critical dimension of a pattern by using an overlay measuring apparatus is provided to enhance reliability of a semiconductor memory device by measuring accurately an open size of a fuse box. A scanning range of a z-axis of an overlay measuring apparatus is determined by using pattern thickness information(106). A step pitch of the overlay measuring apparatus is inputted and X and Y coordinates of a reticle to the pattern are inputted(108,110). A size of the pattern is inputted into the overlay measuring apparatus and a position of a measuring target pattern of the patterns is inputted(112,114). Thickness information of a passivation layer is inputted(116). The size of the pattern is measured and a high quality condition is inputted(118). A top region size of the pattern is measured and a position of a z-axis focus at a fuse box top region is stored(120,122). A pattern size of a succeeding lot is measured by using stored information(124). The measured pattern size of the succeeding lot is compared with the high quality condition(128).
摘要翻译：提供了一种通过使用覆盖测量装置来测量图案的临界尺寸的方法，以通过精确地测量保险丝盒的开口尺寸来增强半导体存储器件的可靠性。通过使用图案厚度信息（106）确定覆盖测量装置的z轴的扫描范围。输入覆盖测量装置的步距，并输入掩模版的X和Y坐标（108,110）。将图案的尺寸输入到重叠测量装置中，并且输入图案的测量对象图案的位置（112,114）。输入钝化层的厚度信息（116）。测量图案的尺寸并输入高质量条件（118）。测量图案的顶部区域尺寸并存储在保险丝盒顶部区域处的z轴焦点的位置（120,122）。通过使用存储的信息来测量后续批次的图案尺寸（124）。将后续批次的测量图案尺寸与高质量条件（128）进行比较。

4. 发明公开

KR1020070020743A 플라즈마를 이용한 공정 장치 无效
标题翻译：使用等离子体的设备
公开(公告)号：KR1020070020743A
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：KR1020050074960
申请日：2005-08-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 원종민 , 조정희 , 유정식
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/505 , H01J37/32559 , H01L21/67069
摘要： 본 발명은 전극에 아크가 발생되는 것을 미연에 막을 수 있을 뿐만 아니라 반응 가스의 확산을 보다 향상시킬 있는 플라즈마 공정 장치를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 장치는, 작업 챔버가 형성된 바디와, 작업 챔버의 일측에 위치되며 작업 챔버에 고주파 에너지를 인가하기 위해 외부 전원과 연결되는 제1 전극과, 그리고 작업 챔버의 일측에 대향되는 타측에 위치되며 접지되는 제2 전극을 포함하고, 제1 전극에는 작업 챔버로 반응 가스를 분사시키기 위한 분사공이 형성되고, 그리고 제1 전극의 저면과 분사공의 내주면 사이에는 라운드 처리된다.
플라즈마, 전극, 반응 가스, 분사공

5. 发明授权

KR100611069B1 얼라인 마크를 이용하여 오버레이 보정 및 정렬 보정을수행하는 방법 失效
标题翻译：通过对齐标记来补偿覆盖和对齐错误的方法
公开(公告)号：KR100611069B1
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：KR1020000042684
申请日：2000-07-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 오버레이 보정 및 정렬 보정 기능을 갖는 얼라인 마크를 형성하고, 상기 얼라인 마크를 이용하여 오버레이 보정 및 정렬 보정을 수행하는 방법이 개시되어 있다. 상기 얼라인 마크는 3개의 동심적인 박스형 마크로 구성된다. 상기 얼라인 마크가 기판 상의 소정 위치에 형성되면, 상기 박스형 마크의 좌변, 우변, 상변, 및 하변의 좌표를 파악하여 기판의 X축 및 Y축 좌표를 인식한다. 상기 인식된 X, Y축 좌표는 프리셋된 좌표값에 비교되며, 이를 상기 프리셋된 좌표값에 일치시키므로써 정렬보정이 이루어진다. 오버레이 보정은 노광 후 상기 박스형 마크 내에 형성되는 이너 박스와 박스형 마크 사이의 간격을 검출하고, 이를 프리셋된 수치와 비교, 일치시키는 과정을 통해 이루어진다. 레티클의 제조가 용이해지며, 공정 시간이 단축되고, 생산성을 향상시킬 수 있다.

6. 发明授权

KR100577568B1 오버레이 측정방법 및 그에 사용되는 오버레이 마크 失效
标题翻译：测量覆盖和超标记的方法使用相同
公开(公告)号：KR100577568B1
公开(公告)日：2006-05-08
申请号：KR1020040079766
申请日：2004-10-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , H01L23/544 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 오버레이 측정방법 및 그에 사용되는 오버레이 마크를 개시한다. 그의 방법은, 소정의 단위 공정이 완료된 웨이퍼를 정렬하는 단계; 상기 웨이퍼 상에 형성된 오버레이 마크를 측정하는 단계; 상기 웨이퍼의 오버레이 측정이 처음으로 수행되었는지를 확인하는 단계; 및 상기 오버레이 측정이 처음으로 수행되었을 경우, 상기 웨이퍼의 중심과 상기 오버레이 마크의 중심간의 거리를 이용하여 오버레이 데이터를 검출하는 단계를 포함함에 의해 웨이퍼의 초기 오버레이 측정 시 오버레이 데이터를 산출토록 하여 이를 후속의 포토 리소그래피 공정에 적용할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.
포토레지스트(photo-resist), 오버레이(overlay), 이너 마크(inner mark), 아웃 마크(outer mark)

7. 发明公开

KR1020050081761A 플라즈마 장치 无效
标题翻译：提供等离子体的装置
公开(公告)号：KR1020050081761A
公开(公告)日：2005-08-19
申请号：KR1020040010135
申请日：2004-02-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희 , 유정식 , 임석영 , 박병승
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 밀도가 높고, 낮은 전자 온도를 갖는 플라즈마 장치가 제공된다. 본 발명에 따른 플라즈마 장치는 제 1 전기 신호와 제 2 전기 신호를 교대로 반복하여 제공하는 전력 공급 장치 및 제 1 전기 신호와 제 2 전기 신호에 의해서 플라즈마가 형성되는 플라즈마 반응 챔버를 포함한다.

8. 发明公开

KR1020020045296A 웨이퍼척 无效
标题翻译： WAFER CHUCK
公开(公告)号：KR1020020045296A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：KR1020000074699
申请日：2000-12-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김현철 , 조정희
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A wafer chuck is provided to reduce a vacuum error rate by improving a structure of a wafer vacuum absorbing portion. CONSTITUTION: A multitude of vacuum absorbing hole(123) is formed on an upper portion of a main body(100) in order to absorb a wafer(200). The main body(100) has a shape of a disc. A circulating flow path(120) is formed on a wafer loading portion of a surface of the main body(100). A connection hole is formed at a lower portion of a center of the circulating flow path(120). The connection hole is connected with an external vacuum system. The circulating flow path(120) is formed with a multitude of linear flow path(121) and three ring-shaped flow paths(122). The ring-shaped flow paths(122) have different diameters, respectively. The vacuum absorbing hole(123) is formed at a crossing portion between the linear flow path(121) and the ring-shaped flow paths(122).
摘要翻译：目的：提供晶片卡盘以通过改善晶片真空吸收部分的结构来降低真空误差率。构成：为了吸收晶片（200），在主体（100）的上部形成有多个真空吸收孔（123）。主体（100）具有盘的形状。在主体（100）的表面的晶片装载部分上形成有循环流路（120）。连接孔形成在循环流路（120）的中心的下部。连接孔与外部真空系统连接。循环流路（120）形成有多个线性流路（121）和三个环形流路（122）。环形流路（122）分别具有不同的直径。真空吸收孔123形成在线状流路121与环状流路122的交叉部。

9. 发明公开

KR1020150028184A 진공 청소기 审中-实审
标题翻译：吸尘器
公开(公告)号：KR1020150028184A
公开(公告)日：2015-03-13
申请号：KR1020140053519
申请日：2014-05-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김태광 , 임태운 , 김탁수 , 유동훈 , 이병조 , 정윤원 , 조정희
IPC分类号： A47L5/28 , A47L9/00
CPC分类号： A47L5/225 , A47L5/26 , A47L5/28 , A47L9/1616 , A47L9/2878 , A47L9/322 , A47L9/325
摘要： 본 발명은 제 1 청소모듈과, 제 1 청소모듈에 분리 가능하게 결합되는 제 2 청소모듈을 포함한 진공 청소기에 관한 것으로, 제 1 청소모듈은 제 1 팬모터 및 제 1 집진유닛을 포함하고, 제 2 청소모듈은 제 2 팬모터 및 제 2 집진유닛을 포함하므로, 업라이트 방식으로 청소를 수행할 경우에는 충분히 큰 흡입력으로 청소할 수 있으며, 제 2 청소모듈을 분리하여 핸디 방식으로 청소를 수행할 경우에는 용이하게 제 2 청소모듈을 들고 청소할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种真空吸尘器。真空吸尘器包括第一清洁模块和联接到第一清洁模块以与之分离的第二清洁模块。第一清洁模块包括第一风扇电动机和第一集尘单元。第二清洁模块包括第二风扇电动机和第二集尘单元。因此，在以直立方式进行清洁的情况下，真空吸尘器能够使用户以足够的吸力进行清洁，并且在分离第二清洁模块并以便利的方法进行清洁的情况下，真空吸尘器用户可以轻松地按住第二个清洁模块进行清洁。

10. 发明授权

KR101387267B1 영상 확대 장치 및 방법 有权
标题翻译：装置和放大图像的方法
公开(公告)号：KR101387267B1
公开(公告)日：2014-04-18
申请号：KR1020070082028
申请日：2007-08-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정희 , 김길윤
IPC分类号： H04N1/393 , H04N5/208 , H04N1/387
摘要： 본 발명은 영상을 확대하는 것에 관한 것으로, 특히 양선형 보간법(Bilinear interpolation)으로 임의의 영상을 확대하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에서, 영상 확대가 요청되면, 영상을 확대하며, 상기 확대된 영상의 화소들 중에서 보간해야 하는 화소들을 검색하고, 상기 검색된 화소들 각각에 대응되는 선형 가중치들을 계산하며, 비트연산을 위해 상기 계산된 선형 가중치들 각각을 2의 거듭제곱들을 나눈 값인 근사 선형 가중치들로 변환하고, 상기 변환된 근사 선형 가중치들을 각각을 근사 선형 보간식에 반영하여 근사 선형 보간식을 생성하며, 상기 생성된 근사 선형 보간식을 비트연산의 근사 선형 보간식으로 변환하고, 상기 비트연산을 처리하여 상기 검색된 화소들 각각에 대응되는 화소값들을 계산한 후, 상기 검색된 화소들을 보간함을 특징으로 한다.
영상 처리, 양선형 보간법(Bilinear interpolation), 화소, 고속 양선형 보간법(High speed bilinear interpolation)

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