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1. 发明授权

KR101643293B1 일련의 웨이퍼 이동을 통하여 획득된 보상 값을 이용한 웨이퍼의 동적 정렬 有权
标题翻译：使用通过一系列波浪运动获得的补偿值的波形的动态对齐
公开(公告)号：KR101643293B1
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：KR1020107025002
申请日：2009-04-24
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 웡스코트 , 린제프리 , 베일리앤드류디3세 , 첸잭 , 무링벤자민더블유 , 후앙청호
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68
摘要： 제어된일련의웨이퍼이동을이용하여반도체제조장비에서웨이퍼배치재현성(wafer placement repeatability)를최적화하는방법및 시스템이제공된다. 일실시형태에서, 예비스테이션교정이수행되어, 반도체제조시에이용되는진공이송모듈의패싯에인터페이싱된각각의스테이션에대한로봇위치를교시한다. 이방법은또한상기시스템을교정하여, 웨이퍼가위치될스테이션, 각각의패싯에서의센서위치, 및로봇아암의확장및 수축동작을수행하는것에기인한오프셋을고려한보상파라미터를획득한다. 상기로봇이 2개의아암을포함하는다른실시형태에서, 상기방법은상기시스템을교정하여, 한쪽아암또는다른쪽 아암을이용함으로부터유래된차를보상한다. 제조하는동안, 보상파라미터를이용하여상이한스테이션에웨이퍼가배치된다.

2. 发明公开

KR1020080044201A 플라즈마 프로세싱 툴에서의 프로세싱 정보 관리 有权
标题翻译：在等离子体加工工具中处理信息管理
公开(公告)号：KR1020080044201A
公开(公告)日：2008-05-20
申请号：KR1020077020420
申请日：2006-02-16
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 윗맨채드알 , 후앙청호 , 세토재클린 , 젠슨존
IPC分类号： G11C11/34
CPC分类号： G05B19/4183 , G05B2219/31304 , G05B2219/35391 , G05B2219/45031 , Y02P90/10 , Y02P90/20
摘要： A computer-implemented method for managing substrate processing data. Substrate process data is acquired while substrate is processed in a plasma-processing chamber of a cluster tool. The method includes receiving meta-data that identifies at least one of an identification of the substrate and a process. The method further includes receiving from transducers process data streams, each of the process data streams pertaining to a process parameter being monitored. Individual data items in each of the process data streams are being collected in accordance to one of a first methodology and a second methodology. The first methodology represents data collection that is periodic in time. The second methodology represents data collection that happens when predefined events occur. The method also includes storing individual data items associated with process data streams in a single file. The single file stores only data pertaining to a single recipe used to process the substrate.
摘要翻译：一种用于管理基板处理数据的计算机实现的方法。在基板在簇工具的等离子体处理室中进行处理时，获取基板工艺数据。该方法包括接收识别基板的识别和处理中的至少一个的元数据。该方法还包括从换能器处接收数据流，每个过程数据流与被监视的过程参数有关。根据第一方法和第二方法之一，正在收集每个过程数据流中的各个数据项。第一种方法代表了在时间上是周期性的数据收集。第二种方法表示发生预定义事件时发生的数据收集。该方法还包括将与过程数据流相关联的各个数据项存储在单个文件中。单个文件仅存储与用于处理基板的单个配方有关的数据。

3. 发明授权

KR101083625B1 플라즈마 프로세싱 툴에서의 프로세싱 정보 관리 有权
标题翻译：在等离子体加工工具中处理信息管理
公开(公告)号：KR101083625B1
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：KR1020077020420
申请日：2006-02-16
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 윗맨채드알 , 후앙청호 , 세토재클린 , 젠슨존
IPC分类号： G11C11/34
CPC分类号： G05B19/4183 , G05B2219/31304 , G05B2219/35391 , G05B2219/45031 , Y02P90/10 , Y02P90/20
摘要： 본 발명은 기판 프로세싱 데이터를 관리하는 컴퓨터-구현 방법에 관한 것이다. 기판 프로세스 데이터는 기판이 클러스터 툴의 플라즈마 프로세싱 챔버에서 프로세싱되는 동안에 획득된다. 방법은 기판의 식별자와 프로세스 중 하나 이상을 식별하는 메타-데이터를 수신하는 단계를 포함한다. 이 방법은 트랜스듀서로부터 프로세스 데이터 스트림을 수신하는 단계를 포함하며, 프로세스 파라미터에 관한 프로세스 데이터 스트림의 각각은 모니터링된다. 각각의 프로세스 데이터 스트림에서 개별적인 데이터 아이템은 제 1 방법과 제 2 방법 중 하나에 따라 수집된다. 제 1 방법은 시간적으로 주기적인 데이터 수집을 나타낸다. 제 2 방법은 소정의 이벤트가 발생한 경우에 발생하는 데이터 수집을 나타낸다. 또한, 이 방법은 단일 파일 내의 프로세스 데이터 스트림과 연관되는 개별적인 데이터 아이템을 저장하는 단계를 포함한다. 단일 파일은 기판 프로세스에 사용되는 단일 레시피에 관한 데이터만을 저장한다.
기판 프로세싱 데이터, 메타-데이터, 클러스터 툴, 아카이브 데이터베이스

4. 发明公开

KR1020110009136A 일련의 웨이퍼 이동을 통하여 획득된 보상 값을 이용한 웨이퍼의 동적 정렬 有权
标题翻译：使用通过一系列波浪运动获得的补偿值的波形的动态对齐
公开(公告)号：KR1020110009136A
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：KR1020107025002
申请日：2009-04-24
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 웡스코트 , 린제프리 , 베일리앤드류디3세 , 첸잭 , 무링벤자민더블유 , 후앙청호
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67739
摘要： 제어된 일련의 웨이퍼 이동을 이용하여 반도체 제조 장비에서 웨이퍼 위치결정 반복도(wafer placement repeatability)를 최적화하는 방법 및 시스템이 제공된다. 일 실시 형태에서, 예비 스테이션 교정이 수행되어, 반도체 제조시에 이용되는 진공 이송 모듈의 패싯에 인터페이싱된 각각의 스테이션에 대한 로봇 위치를 교시한다. 이 방법은 또한 상기 시스템을 교정하여, 웨이퍼가 위치될 스테이션, 각각의 패싯에서의 센서 위치, 및 로봇 아암의 연장 및 수축 동작을 수행하는 것에 기인한 오프셋을 고려한 보상 파라미터를 획득한다. 상기 로봇이 2개의 아암을 포함하는 다른 실시 형태에서, 상기 방법은 상기 시스템을 교정하여, 한쪽 아암 또는 다른 쪽 아암을 이용함으로부터 유래된 차이를 보상한다. 제조하는 동안, 보상 파라미터를 이용하여 상이한 스테이션에 웨이퍼가 위치결정된다.

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