专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR100916688B1 웨이퍼의 표면 검사장치 失效
标题翻译：晶圆表面检测系统
公开(公告)号：KR100916688B1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：KR1020020046075
申请日：2002-08-05
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 마쓰다마사노리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/93 , G01N21/9501
摘要： 본 발명은 반도체 제조에 있어서, 검사공정에 사용되어 웨이퍼 표면에 부착된 이물질인 미분자(particle)의 유무를 검사하는 표면 검사장치에 관한 것으로, 고속 회전하는 웨이퍼의 표면에 레이져 광선을 조사하고, 이 레이져 광선의 조사 위치를 반경방향으로 소정의 피치 또는 소정의 속도로 이동시키면서 웨이퍼 표면 전역을 주사케 한 다음, 웨이퍼 표면에서 반사되는 반사광을 검출하는 것으로, 본 발명 표면 검사장치는 이미 알려진 기지(旣知)의 입자가 부착된 교정용 웨이퍼와 반송 로버트를 가지며 크린 유니트를 형성하는 웨이퍼 반송부와 표면검사 프로그램, 교정 프로그램 및 반송 로버트 구동 프로그램등을 갖는 컴퓨터를 구비한 표면검사부와 항상 개폐가능하고 기밀한 방진공간을 가지며, 불활성 가스로 충진된 교정용 웨이퍼 수납부로 구성됨을 특징으로 하는 것으로, 본 발명 표면 검사장치는 교정작업의 자동화를 기할 수 있고, 교정작업의 효율을 향상시키며, 교정용 웨이퍼를 불활성 가스 분위기 하에서 검사하므로 자연산화막의 생성을 억제하고 표면상태의 변화를 방지하여 장기간에 걸쳐 안정된 표면검사를 가능하게 한다.

2. 发明授权

KR100495710B1 표면 검사장치 失效
标题翻译：表面检查系统
公开(公告)号：KR100495710B1
公开(公告)日：2005-06-14
申请号：KR1020020058389
申请日：2002-09-26
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 에노모토요시유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501
摘要： 본 발명은 반도체 제조에 있어서, 검사공정에 사용되어 표면에 부착된 이물질인 미분자(particle)의 유무를 검사하는 표면 검사장치에 관한 것으로, 기판의 표면에 레이져광을 조사하고 이 레이져광의 산란 반사광을 검출하여 이물질을 검출하는 표면 검사장치에 있어서, 레이져광선을 발사하는 여러개의 발광원을 갖는 광원부와 이들 각각의 발광원에서 레이져광을 기판의 표면에 조사하는 조사 광학계를 구비함을 특징으로 하는 표면 검사장치로서, 본 발명의 표면 검사장치는 산란 반사광은 기판 표면의 막(膜) 종류나 두께에 영향을 주지 않으므로 장기간에 걸쳐 안정된 고 정밀도의 표면 검사를 가능하게 한다.

3. 发明公开

KR1020030047704A 표면 검사장치 失效
标题翻译：表面检查系统
公开(公告)号：KR1020030047704A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：KR1020020058389
申请日：2002-09-26
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 에노모토요시유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501
摘要： PURPOSE: A surface inspection system is provided to obtain sufficient projected light intensity, to improve inspection accuracy and to improve throughput. CONSTITUTION: A surface inspection system primarily comprises a scanning drive mechanism(6), a projecting optical system(7), and a detection system(8). The scanning drive mechanism(6) further includes a substrate holder(9) for holding a substrate(5). The substrate holder(9) is rotatably supported by a rotary drive unit(10). The rotary drive unit(10) is moved linearly in a radial direction in parallel to a rotating surface of the substrate(5) by a linear drive mechanism(11). The projecting optical system(7) further includes a light source unit(12) for emitting a laser beam(2), serving as an inspection light, deflection optical members(13,14) such as mirror for deflecting the laser beam(2) from the light source unit(12) toward the substrate(5), and a lens group(15) for converging the laser beam(2) to the surface of the substrate(5). The detection system(8) further includes photodetectors(16,17) having photodetection optical axes, which run perpendicularly to an optical axis of the laser beam(2) projected to the surface of the substrate(5).
摘要翻译：目的：提供表面检测系统以获得足够的投射光强度，以提高检测精度并提高产量。构成：表面检查系统主要包括扫描驱动机构（6），投影光学系统（7）和检测系统（8）。扫描驱动机构（6）还包括用于保持基板（5）的基板支架（9）。衬底保持器（9）由旋转驱动单元（10）可旋转地支撑。旋转驱动单元（10）通过线性驱动机构（11）在径向方向上平行于基板（5）的旋转表面线性移动。投影光学系统（7）还包括用于发射用作检查光的激光束（2）的光源单元（12），用于偏转激光束（2）的诸如镜子的偏转光学部件（13,14）从光源单元（12）朝向基板（5），以及用于将激光束（2）会聚到基板（5）的表面的透镜组（15）。检测系统（8）还包括具有光检测光轴的光电检测器（16,17），其垂直于投射到基板（5）的表面的激光束（2）的光轴延伸。

4. 发明授权

KR100721231B1 표면검사방법 및 장치 失效
标题翻译：表面检查方法和装置
公开(公告)号：KR100721231B1
公开(公告)日：2007-05-22
申请号：KR1020030069860
申请日：2003-10-08
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 야마자키미치히로 , 요시카와히로시 , 다카세다케히로 , 시다유타카 , 이와요이치로
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501
摘要： 동일입사각도에서 2종 이상의 레이저를 교체 또는 혼합형으로 막이 부착된 웨이퍼에 입사하여, 웨이퍼의 표면을 검사하는 방법 및 장치에 있어서, 미리, 검사장치에 관한 검사데이터와 막에 관한 막파라미터가, 소정의 검사조건을 얻도록 서로 관련지어진 상태로 검사장치의 기억수단에 기억되어 있다. 각 측정시에, 측정하고자 하는 웨이퍼의 막파라미터를 검사장치의 설정수단으로 오퍼레이터가 설정한다. 그에 따라, 원하는 검사조건이 검사장치 내에서 자동설정된다. 각 측정마다 오퍼레이터에 의해 설정되는 막파라미터는, 막두께나 막의 굴절률이다.

5. 发明公开

KR1020090118024A 표면 검사 방법 및 장치 无效
标题翻译：表面检测方法和装置
公开(公告)号：KR1020090118024A
公开(公告)日：2009-11-17
申请号：KR1020097004750
申请日：2007-12-04
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 다카세다케히로 , 가키누마다카시 , 마에카와히로유키 , 고다후미오 , 야마자키미치히로
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/88 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/8422 , G01N21/94 , G01N21/9505 , G01N2201/06113
摘要： A light source unit emits two light beams having a long and a short wavelength and variable intensities. The light source unit makes the two light beams falling onto an inspection surface of an inspection subject at a predetermined angle simultaneously or selectively one at a time. The intensity of at least the light beam with the long wavelength is adjusted depending on which light beam is emitted and on the output from a first light intensity detecting unit. The output of the first light intensity detecting unit of when the light beam with the short wavelength is emitted is compared with that of when the light beam with the long wavelength is emitted. A signal appearing only in the output of the first light intensity detecting unit of when the light beam with the long wavelength is emitted is determined as a detection signal from an inside object, and the intensity of the light beam with the long wavelength is adjusted. A disappearance level around which the detection signal from the inside object disappears is determined. A first intensity of the light beam of the long wavelength is set at a level higher than the disappearance level. The inside object of the inspection subject is measured according to the output of the first light intensity detecting unit obtained by the light beam with the long wavelength having the first intensity.
摘要翻译：光源单元发射具有长波长和短波长以及可变强度的两个光束。光源单元使得两个光束一次一个地同时或选择地以预定角度落在检查对象的检查表面上。至少具有长波长的光束的强度根据发射的光束和来自第一光强度检测单元的输出而被调节。当发射具有短波长的光束时的第一光强度检测单元的输出与发出长波长的光束的输出进行比较。当发出长波长的光束时，仅在第一光强检测单元的输出端出现的信号被确定为来自内部物体的检测信号，并且调节长波长的光束的强度。确定来自内部物体的检测信号消失的消失水平。将长波长的光束的第一强度设定为高于消失水平的水平。检查对象的内部物体是根据由具有第一强度的长波长的光束获得的第一光强检测单元的输出来测量的。

6. 发明公开

KR1020040055577A 반도체 웨이퍼의 표면 검사방법 및 그 장치 失效
标题翻译：使用两个激光束检测半导体波长的表面的方法及其设备
公开(公告)号：KR1020040055577A
公开(公告)日：2004-06-26
申请号：KR1020030087116
申请日：2003-12-03
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 사토오타쿠치 , 에노모토요시유키 , 마에가와히로유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501
摘要： PURPOSE: A method of inspecting a surface of a semiconductor wafer and an apparatus thereof are provided to improve the stability of inspection for any substrate having different kinds of layers with different thicknesses by using a plurality of laser beams. CONSTITUTION: At least two laser beams(22,23) with different wavelengths are irradiated a predetermined portion of a semiconductor wafer(5) by using the same projection lens(28). Incident angles of the laser beams are set to complement the variation of each laser beam in reflectivity. Then the light scattered due to reflection is detected. The wavelengths of the laser beams are 395 nm and 415 nm.
摘要翻译：目的：提供一种检查半导体晶片的表面的方法及其装置，以通过使用多个激光束来提高对具有不同厚度的不同层的任何基板的检查的稳定性。构成：通过使用相同的投影透镜（28）将具有不同波长的至少两个激光束（22,23）照射到半导体晶片（5）的预定部分。设置激光束的入射角以补偿每个激光束在反射率中的变化。然后检测由于反射而散射的光。激光束的波长为395nm和415nm。

7. 发明公开

KR1020030014590A 웨이퍼의 표면 검사장치 失效
标题翻译： WAFER表面检测系统
公开(公告)号：KR1020030014590A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：KR1020020046075
申请日：2002-08-05
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 마쓰다마사노리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/93 , G01N21/9501
摘要： PURPOSE: A surface inspection system for wafer is provided to improve inspection efficiency without involvement of manual operation in calibration process of the surface inspection system, to avoid contamination of a calibration wafer with particles, etc., and to prevent changes over time of responsiveness of a photodetection sensor so as to improve detection accuracy. CONSTITUTION: A surface inspection system comprises a calibration wafer where particles of known specifications are spread, a wafer transport unit(1) having a transport robot(17), d surface inspection unit, and a calibration wafer accommodation unit(29) for accommodating the calibration wafer.
摘要翻译：目的：提供晶片表面检测系统，以提高检测效率，而不需要在表面检查系统的校准过程中进行手动操作，以避免用颗粒等污染校准晶片，并防止随时间变化的响应性光检测传感器，以提高检测精度。构成：表面检查系统包括已知规格的颗粒被扩散的校准晶片，具有传送机器人（17），表面检查单元和校准晶片容纳单元（29）的晶片传送单元（1），用于容纳校准晶圆。

8. 发明授权

KR101199082B1 반도체 웨이퍼의 표면 검사방법 및 그 장치 失效
标题翻译：表面检查方法和装置
公开(公告)号：KR101199082B1
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020030087116
申请日：2003-12-03
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 사토오타쿠치 , 에노모토요시유키 , 마에가와히로유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼의 기판(基板) 표면에 있는 미세한 이물질 또는 결정(結晶)결함등 미세한 상처를 검사하는 표면 검사방법 및 그 장치에 관한 것으로, 파장이 서로 다른 적어도 두 개의 레이저 광선을 동일한 투영렌즈를 사용하여 같은 검사부위를 비춰주는 단계와 각 레이저 광선의 반사율의 값 변동을 서로 보완할 수 있도록 양쪽 레이저 광선의 입사각(入射角)을 설정하는 단계 및 반사 산란광을 검출하는 단계를 갖는 것을 특징으로 하는 표면 검사방법과 파장이 서로 다른 복수개의 레이저 광선을 독립하여 사출(射出)하는 적어도 두 개의 레이저 발광부(發光部)와 상기 레이저광을 기판의 표면에 투영하는 투영렌즈 및 이 투영렌즈에 레이저광을 평행으로 입사케 하는 투영(投影)광학계를 구비하고, 상기 투영렌즈에 대한 입사위치(入射位置)를 조절하여 각 레이저광의 기판 표면에 대한 입사각을 설정함을 특징으로 하는 표면 검사장치에 관한 것으로, 서로 막의 종류가 다르거나, 막의 두께가 다른 어떠한 기판에 대하여도 안정적인 검사를 할 수 있게 된다.

9. 发明授权

KR101169157B1 측정 장치 失效
标题翻译：测量装置
公开(公告)号：KR101169157B1
公开(公告)日：2012-07-30
申请号：KR1020100079346
申请日：2010-08-17
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 에노모토요시유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01B11/25 , G01B11/0608 , G01N21/951 , G01N21/956
摘要： 라인광을 피측정물에 조사하는 출사 광학 시스템과, 상기 피측정물로부터 반사된 라인 반사광을 취득하는 촬상 소자를 가지며, 상기 촬상 소자로 취득된 그 라인 반사광의 상기 피측정물 상에서의 기하학적인 위치 관계에 기초하여, 그 피측정물의 표면 형상을 계측하는 측정 장치로서, 상기 측정 장치는, 상기 피측정물과 상기 촬상 소자 사이에 설치되고, 상기 피측정물 상에서의 상기 라인광의 형상을 취득시키도록, 상기 라인 반사광을 상기 촬상 소자의 수광면에 결상시키는 복수의 결상 광학 시스템과, 상기 피측정물과 상기 각 결상 광학 시스템 사이에 설치되고, 상기 라인 반사광을 분기하여 상기 각 결상 광학 시스템으로 유도하는 광속 분기 기구를 구비한다. 상기 각 결상 광학 시스템은, 상기 피측정물의 측정 대상에 대한 광학적인 설정이 서로 상이한 것으로 되어 있고, 상기 촬상 소자는, 수광면 상에 있어서 복수의 세그먼트가 설정되어 있으며 그 각 세그먼트가 복수의 영역으로 구획되고, 상기 각 세그먼트에서의 적어도 하나 이상의 영역을 수광 영역으로 하며, 상기 각 결상 광학 시스템은, 상기 광속 분기 기구에 의해 분기된 상기 라인 반사광을, 상기 촬상 소자의 상기 수광면에 있어서 서로 상이한 상기 세그먼트의 상기 수광 영역에 결상시킨다.
摘要翻译：线发射用于照射的测量对象，以避免光光学系统，和血液具有图像用于测量采集的反射线从水反射的感测装置，在物体上的几何位置到该行的被测量反射由成像装置获得的光基于该关系，作为用于测量血液中的工件表面形状的测定装置，其中，所述测量装置被布置在被测对象和成像装置之间，以便获取该对象上的线状光束的形状来测量中，线光以及多个成像光学系统的所述成像元件的光接收表面上形成图像，被布置成测量对象和相应的成像光学系统之间，对分支线的反射光，以诱导在每个成像光学系统还有一个光束分支机构。每个图像形成光学系统的，用于测定对象的水的光学装置进行测量和对彼此不同的，所述成像装置具有多个节段被根据光接收表面设置，并且，每个段具有多个区域的隔室，并在光接收区中的每个段中的至少一个区域中，每个成像光学系统，该分束由机构的所述线的反射光分支的，光接收表面彼此成像装置的不同并在该段的光接收区域上形成图像。

10. 发明公开

KR1020110018845A 측정 장치 失效
标题翻译：测量工具
公开(公告)号：KR1020110018845A
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：KR1020100079346
申请日：2010-08-17
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 에노모토요시유키
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01B11/25 , G01B11/0608 , G01N21/951 , G01N21/956
摘要： PURPOSE: A measuring device is provided to efficiently prevent the increase of measurement time by simultaneously processing a plurality of measurement data at high speed. CONSTITUTION: An imaging optical system is installed between an object(16) and an imaging device(17). The imaging optical system images the line reflection light on the receiving surface of the imaging device to obtain the shape of the line light on the object. A light flux dividing unit is installed between the object and each imaging optical system. The light flux dividing unit divides line reflection light and induces the divided line reflection light to each imaging optical system. The imaging optical system images the divided line reflection light on the receiving area of different segments in the receiving surface of the imaging device.
摘要翻译：目的：提供一种测量装置，通过高速同时处理多个测量数据来有效地防止测量时间的增加。构成：成像光学系统安装在物体（16）和成像装置（17）之间。成像光学系统将成像装置的接收表面上的线反射光成像，以获得物体上的线光的形状。光束分离单元安装在物体和每个成像光学系统之间。光束分割单元对行反射光进行分割，并对每个成像光学系统产生分割的行反射光。成像光学系统将分割的线反射光成像在成像装置的接收表面中的不同段的接收区域上。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式