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1. 发明公开

KR1020170098504A 포토마스크의 결함 검사 방법 审中-实审
标题翻译：如何光罩缺陷检测
公开(公告)号：KR1020170098504A
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：KR1020160020499
申请日：2016-02-22
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사
发明人： 정구민 , 김문식
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/72 , H01L21/66 , H01L21/033 , G03F9/00
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2021/95615 , G01N2021/95676
摘要： 포토마스크(photomask)의캘리브레이션(calibration) 가늠자패턴영역의광 투과율을필드영역의광 투과율까지감소시키는광 투과율보정을수행하고, 광투과율보정된캘리브레이션(calibration) 가늠자패턴영역을이용하여광 캘리브레이션을수행한후, 광캘리브레이션결과를적용하여필드영역에대한결함검사를수행하는포토마스크결함검사방법을제시한다.
摘要翻译：进行的光透射率校正所述刻度图案区域的光透射率的光掩模（光掩模）（校准）的校准，以减少对场区的光透射，并且所述光透射率校正校准（校准），使用刻度图案区域进行光学校准施加hanhu，光学校准结果以呈现为场区进行的缺陷检查的光掩模缺陷检查方法。

2. 发明公开

KR1020170031730A 오버레이 및 수율 임계 패턴을 이용한 계측 审中-实审
标题翻译：使用重叠和产量阈值模式进行测量
公开(公告)号：KR1020170031730A
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：KR1020177003719
申请日：2015-07-07
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 캔들다니엘 , 스미스마크디 , 와그너마크 , 아미트에란 , 이명준
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/66 , G06F17/50 , G01N21/93 , G01N21/956
CPC分类号： G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
摘要： 소자설계에서설계사양에의존하는특정역치보다큰 처리변동에대한오버레이감도를가진오버레이임계패턴을식별하는단계와, 식별된오버레이임계패턴에대응하는계측타겟을이용하는단계를포함한계측방법이제공된다. 대안적으로또는상보적으로, 계측방법은특정처리변동에기인하는대응하는처리창 내로우잉에따라수율임계패턴을식별하는단계를포함하고, 여기에서상기내로우잉은처리파라미터에서패턴들의에지배치오차(EPE)의의존성에의해규정된다. 대응하는타겟및 측정법이제공된다.
摘要翻译：该测量方法包括：使用对应于所识别的重叠阈值图案用于识别与比取决于设计规范中的元件设计，提供了一种阈值大的工艺变化的叠加灵敏度覆盖阈图案的计测对象的步骤。可替代地或补充地，该测量方法根据由于特定过程变量拉拢包括识别收率阈图案，拉拢这里进入地点的过程参数误差的图案的边缘是相应的处理窗内由（EPE）的依赖性限定。提供相应的目标和测量。

3. 发明公开

KR1020140059186A 검사 유닛 및 검사 유닛을 검정하기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：用于校准测试仪器的测试仪器和方法
公开(公告)号：KR1020140059186A
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：KR1020147001455
申请日：2012-07-03
申请人： 기제케 운트 데브리엔트 게엠베하
发明人： 블로스,마이클 , 덱켄바흐,울프강 , 하이만,베르너 , 에르,한스-피터 , 케스트,에리히
IPC分类号： G01N33/36 , G01N33/34 , G01N21/86 , G01N21/89
CPC分类号： G01D18/00 , G01N1/00 , G01N21/86 , G01N21/8914 , G01N21/91 , G01N21/93 , G01N33/346 , G01N33/367 , G01N37/00 , G01N2021/8663 , G01N2021/8917 , G01N33/36 , G01N21/00 , G01N21/89 , G01N33/34
摘要： 본 발명은 재료 웨브를 검사하기 위한 검사 유닛 및 검사 유닛을 위한 검정 방법과 관련이 있다. 검사 유닛은 복수의 검정 매체의 측정값을 감지하기 위하여 검사 유닛을 지나 검정 매체를 운송하기 위한 구동 수단을 갖춘다. 구동 수단은 환경으로부터의 습기 또는 오염 물질로부터 구동 수단이 보호되도록 검사 유닛의 하우징 내에 배치된다. 하우징 내에 구동 수단의 배열을 대신하여 검사 유닛을 지나는 검정 매체의 운송을 얻기 위하여, 검정 매체와 비접촉 상호작용을 위하여 구성되고 검정 매체를 검사 유닛을 지나도록 비접촉으로 운송할 수 있는 구동 수단이 사용된다. 이 목적을 위하여 바람직하게는 구동 수단 및 검정 매체 사이의 자기적 상호작용이 사용된다.

4. 发明公开

KR1020130020404A 정렬계를　이용한 계측 시스템 및 위치 계측 방법 无效
标题翻译：使用对准范围的仪器系统和仪器定位方法
公开(公告)号：KR1020130020404A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：KR1020110083026
申请日：2011-08-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안성민 , 손태규
IPC分类号： H01L21/68 , G01B11/00
CPC分类号： G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G06T7/74 , G06T2207/30148 , G06T2207/30204
摘要： PURPOSE: An instrumentation system using an alignment system and a location measuring method are provided to accurately measure the location and posture of an object according to the location of each alignment system and the location of an alignment mark measured by the alignment system. CONSTITUTION: A reference mark array with a plurality of reference marks is mounted on a movable table(100). The plurality of reference marks are measured by using an alignment system(140). The location of the alignment system is obtained by transferring the movable table. Image information about a working object(W) is obtained by using the alignment system. The location of an alignment mark is obtained by using the image information, the location of the alignment system, and the location of the movable table. The location and posture of the working object are measured by using the obtained alignment mark.
摘要翻译：目的：提供使用对准系统和位置测量方法的仪器系统，以根据每个对准系统的位置和由对准系统测量的对准标记的位置精确地测量对象的位置和姿势。构成：具有多个参考标记的参考标记阵列安装在可移动台（100）上。通过使用对准系统（140）来测量多个参考标记。对准系统的位置通过移动可移动工作台获得。通过使用对准系统获得关于工作对象（W）的图像信息。通过使用图像信息，对准系统的位置和可移动台的位置来获得对准标记的位置。通过使用获得的对准标记来测量加工对象的位置和姿势。

5. 发明授权

KR101158323B1 기판 검사방법 有权
标题翻译：检查基板的方法
公开(公告)号：KR101158323B1
公开(公告)日：2012-06-26
申请号：KR1020100100406
申请日：2010-10-14
申请人： 주식회사 고영테크놀러지
发明人： 이현기 , 권달안 , 전정열
IPC分类号： G01N21/93 , G01B11/00
CPC分类号： G01N21/93 , G01B11/24 , G01N21/956
摘要： 본 발명은 측정대상물이 형성된 기판을 검사하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 측정대상물이 형성된 기판을 측정하여 기판에 대한 평면 방정식을 생성하고, 기판에 형성된 측정대상물의 영역을 구한다. 이후, 측정대상물의 영역을 측정대상물의 높이를 고려하여 평면 방정식에 의한 기판면으로 변환한다. 이후, 평면 방정식에 의한 기판면으로 변환된 측정대상물의 영역과 기준 데이터에 의한 측정대상물의 영역을 기초로 측정대상물을 검사한다. 이와 같이, 측정대상물이 형성된 기판의 기울어진 자세에 따른 측정대상물의 옵셋값을 구하고 이를 통해 측정데이터의 왜곡을 보상함으로써, 측정데이터의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

6. 发明授权

KR101021506B1 반도체 디바이스의 검사 방법 및 반도체 디바이스의 검사장치 失效
标题翻译：用于检查半导体器件的方法和装置
公开(公告)号：KR101021506B1
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：KR1020087018793
申请日：2008-02-26
申请人： 파나소닉 주식회사
发明人： 키타가와히로키 , 카츠라히로아키
IPC分类号： H01L21/66 , G01R31/302
CPC分类号： G01R31/311 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , H01L22/12
摘要： The magnitude of an amplitude waveform of an electromagnetic wave generated when irradiating a pulse laser beam to a structure A including diffusion regions provided in the structure of a semiconductor device to be inspected is compared with the magnitude of an amplitude waveform of an electromagnetic wave radiated when irradiating the pulse laser beam to a structure A of a reference device measured in advance, and the detection sensitivity of the electromagnetic wave is corrected (S14). Thereafter, measurement errors caused by variations in the detection sensitivity of electromagnetic waves of an inspecting apparatus are eliminated by inspecting the semiconductor device as an inspection target, so that the quality of the semiconductor device is precisely determined (S16).

7. 发明公开

KR1020110015679A 웨브 검사 교정 시스템 및 관련 방법 无效
标题翻译： WEB检查校准系统及相关方法
公开(公告)号：KR1020110015679A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：KR1020117000111
申请日：2009-04-24
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
发明人： 호펠트데이비드엘 , 저스티스데렉에이치 , 람튠존에이 , 타르노브스키캐서린피 , 슈웬유안
IPC分类号： G01N21/89 , B65H7/02 , G01B11/30
CPC分类号： G01N21/89 , B65H20/00 , B65H43/00 , B65H2220/09 , B65H2515/84 , B65H2553/30 , B65H2553/40 , B65H2553/42 , B65H2557/61 , G01N21/274 , G01N21/93 , B65H2220/03
摘要： 웨브 검사 시스템을 교정하는 시스템 및 방법이 개시된다.

8. 发明公开

KR1020100039411A 다이 대 표준 기준 다이 검사에서의 이용을 위한 표준 기준 다이를 생성하기 위한 방법들 및 웨이퍼를 검사하기 위한 방법들 有权
标题翻译：用于生成标准参考模型的标准参考模型的方法和标准参考模型的检查方法和检查波形的方法
公开(公告)号：KR1020100039411A
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：KR1020107003699
申请日：2008-07-21
申请人： 케이엘에이-텐코어 코오포레이션
发明人： 바스카,크리스 , 맥코드,마크 , 바타차리야,산토시 , 리앙,아디스 , 월링포드,리차드 , 알텐도르퍼,후베르트 , 마야,카이스
IPC分类号： H01L21/66 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7065 , G01N21/93 , G01N21/95607 , G03F1/84 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： Methods for generating a standard reference die for use in a die to standard reference die inspection and methods for inspecting a wafer are provided. One computer-implemented method for generating a standard reference die for use in a die to standard reference die inspection includes acquiring output of an inspection system for a centrally located die on a wafer and one or more dies located on the wafer. The method also includes combining the output for the centrally located die and the one or more dies based on within die positions of the output. In addition, the method includes generating the standard reference die based on results of the combining step.
摘要翻译：提供了用于生产用于模具的标准参考模具用于标准参考模具检验的方法和用于检查晶片的方法。一种计算机实现的用于生产用于模具中的标准参考模具用于标准参考模具检查的方法包括获取用于晶片上的位于中心的管芯和位于晶片上的一个或多个管芯的检查系统的输出。该方法还包括基于输出的管芯位置组合用于位于中心的管芯和一个或多个管芯的输出。此外，该方法包括基于组合步骤的结果生成标准参考管芯。

9. 发明授权

KR100916688B1 웨이퍼의 표면 검사장치 失效
标题翻译：晶圆表面检测系统
公开(公告)号：KR100916688B1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：KR1020020046075
申请日：2002-08-05
申请人： 가부시키가이샤 토프콘
发明人： 이소자키히사시 , 마쓰다마사노리
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/93 , G01N21/9501
摘要： 본 발명은 반도체 제조에 있어서, 검사공정에 사용되어 웨이퍼 표면에 부착된 이물질인 미분자(particle)의 유무를 검사하는 표면 검사장치에 관한 것으로, 고속 회전하는 웨이퍼의 표면에 레이져 광선을 조사하고, 이 레이져 광선의 조사 위치를 반경방향으로 소정의 피치 또는 소정의 속도로 이동시키면서 웨이퍼 표면 전역을 주사케 한 다음, 웨이퍼 표면에서 반사되는 반사광을 검출하는 것으로, 본 발명 표면 검사장치는 이미 알려진 기지(旣知)의 입자가 부착된 교정용 웨이퍼와 반송 로버트를 가지며 크린 유니트를 형성하는 웨이퍼 반송부와 표면검사 프로그램, 교정 프로그램 및 반송 로버트 구동 프로그램등을 갖는 컴퓨터를 구비한 표면검사부와 항상 개폐가능하고 기밀한 방진공간을 가지며, 불활성 가스로 충진된 교정용 웨이퍼 수납부로 구성됨을 특징으로 하는 것으로, 본 발명 표면 검사장치는 교정작업의 자동화를 기할 수 있고, 교정작업의 효율을 향상시키며, 교정용 웨이퍼를 불활성 가스 분위기 하에서 검사하므로 자연산화막의 생성을 억제하고 표면상태의 변화를 방지하여 장기간에 걸쳐 안정된 표면검사를 가능하게 한다.

10. 发明授权

KR101894201B1 레이저 비전센서 검사장치 有权
公开(公告)号：KR101894201B1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：KR1020180000092
申请日：2018-01-02
申请人： (주)휴엔텍 , 구영욱
发明人： 김종원 , 구영욱 , 송철진
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/93
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/93 , G01N2021/8887
摘要： 본발명은라인레이저를포함하는레이저비전센서에서두 개의라인레이저가수평상태를이루는지를확인하고장비를제작할수 있도록형성된레이저센서검사장치에관한것이다. 본발명에따른레이저비전센서검사장치는기판과, 상기기판에설치되는두 개의라인레이저와, 상기기판에설치되는카메라렌즈어레이를포함하는레이저비전센서에있어서, 상기레이저비전센서를지지하는지그유닛과; 상기레이저비전센서의라인레이저가수평상태로출력되는지를판별하기위한판별유닛을포함한다.

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