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1. 发明公开

KR1020160146789A 층상 물질 함유액 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：包含物质的液体及其生产方法
公开(公告)号：KR1020160146789A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：KR1020167031151
申请日：2015-03-18
申请人： 가부시키가이샤 아데카
发明人： 코바야시아츠시 , 타니우치료 , 아오야마요헤이
IPC分类号： C01G39/06 , C07D403/14 , C01B21/064 , C01G19/00 , C01G39/00 , C01G17/00 , C01G9/08 , C01G33/00
CPC分类号： B01F17/0064 , B01F17/0007 , B01F17/0057 , B01F17/0085 , C01B19/04 , C01B21/0648 , C01B33/22 , C01B33/40 , C01B33/42 , C01G17/00 , C01G19/00 , C01G25/00 , C01G39/06 , C01B21/064 , C01G9/08 , C01G33/00 , C01G39/00 , C01P2002/20 , C01P2002/72 , C07D403/14
摘要： 특정의카티온을포함하는이온액체에, 2종류이상의원소를구성원소로서포함하는층상물질의적층물을함유시켜, 그적층물을함유하는이온액체에, 음파및 전파중의적어도한쪽을조사한다.
摘要翻译：在含有特定阳离子的离子液体中含有各自含有两种以上元素作为构成元素的层状物质层叠体，并且使用声波和电波中的一种或两种照射含有层叠体的离子液体。

2. 发明公开

KR1020170129111A 층상 물질 함유액 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：含有层状物质的液体及其制造方法
公开(公告)号：KR1020170129111A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：KR1020177023338
申请日：2016-03-17
申请人： 가부시키가이샤 아데카
发明人： 코바야시아츠시 , 타니우치료 , 아오야마요헤이
IPC分类号： C08J3/02 , C08L101/00
CPC分类号： B01J19/10 , B01F17/0085 , B01J19/129 , B01J2219/00047 , B32B33/00 , B32B2307/70 , C01B17/22 , C01B19/007 , C01B32/19 , C01B32/205 , C01B32/21 , C01B33/22 , C01B33/38 , C01B33/42 , C01B2204/02 , C01B2204/04 , C08J3/02 , C08J3/09 , C08J3/28 , C08L101/00
摘要： 이온액체와, 가수분해성고분자화합물및 열분해성고분자화합물중 적어도한쪽을포함하는고분자화합물과, 층상물질의적층물을함유하는용액에, 음파및 전파중 적어도한쪽을조사한다. 또는, 이온액체와, 가수분해성고분자화합물및 열분해성고분자화합물중 적어도한쪽을포함하는고분자화합물과, 층상물질의적층물을함유하는용액을가열한다.
摘要翻译：离子液体和含有聚合物化合物和含可水解的聚合物化合物和可热分解的聚合物中的至少一种的层状材料的层压体的溶液中，照射的声波和无线电波中的至少一个。或者，加热含有离子液体，含有可水解聚合物化合物和可热分解聚合物化合物中的至少一种的聚合物化合物的溶液以及层状材料的层压体。

3. 发明公开

KR1020140024342A 무기 폴리실라잔, 이것을 함유해서 이루어지는 실리카막 형성용 도포액 및 실리카막의 형성방법 审中-实审
标题翻译：无机多晶硅，二氧化硅薄膜成型液体及其形成硅胶膜的方法
公开(公告)号：KR1020140024342A
公开(公告)日：2014-02-28
申请号：KR1020137028086
申请日：2012-04-09
申请人： 가부시키가이샤 아데카
发明人： 모리타히로시 , 코바야시아츠시 , 요코타히로오 , 후리하타야스히사
IPC分类号： C08G77/62 , C08G77/26 , C08L83/16 , C09D183/16 , C08K5/00 , C01B21/082 , C01B33/12 , H01L21/316
CPC分类号： H01L21/02164 , C01B21/087 , C08G77/62 , C08L83/16 , C09D1/00 , H01L21/02282 , H01L31/02167 , Y02E10/50
摘要： 본 발명은 수증기 등의 산화제 중에서의 소성 공정에서 수축이 작아, 실리카막의 균열이나 반도체 기판과의 박리가 발생하기 어려운 무기 폴리실라잔 및 무기 폴리실라잔을 함유하는 실리카막 형성용 도포액을 제공하는 것이며,
1 H-NMR 스펙트럼에 있어서 4.75ppm 이상 5.4ppm 미만인 범위의 피크 면적을 A로 하고, 4.5ppm 이상 4.75ppm 미만인 범위의 피크 면적을 B로 하고, 4.2ppm 이상 4.5ppm 미만인 범위의 피크 면적을 C로 했을 때, A/(B+C)의 값이 0.9~1.5이고, (A+B)/C의 값이 4.2~50이며, 폴리스티렌 환산값에 따른 질량평균 분자량이 2000~20000인 무기 폴리실라잔 및 이것을 함유해서 이루어지는 실리카막 형성용 도포액을 제공하는 것이다.

4. 发明公开

KR1020120056773A 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 영구 레지스트 审中-实审
标题翻译：正性感光树脂组合物和永久性抗性
公开(公告)号：KR1020120056773A
公开(公告)日：2012-06-04
申请号：KR1020110119476
申请日：2011-11-16
申请人： 가부시키가이샤 아데카
发明人： 모리타히로시 , 타케노우치히로미 , 코바야시아츠시 , 오미진이치
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/004 , G03F7/0043 , G03F7/0045 , G03F7/039
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition and a permanent resist obtained from the same are provided to improve pattern shapes although an optimal developing time for a developing process is passed. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes a polysiloxane compound with a carboxylic group and/or phenolic hydroxide group as a base resin, a photo-sensitive diazoquinone compound as a photo-sensitive component, and an organic solvent. The composition includes an epoxy siloxane compound in which groups represented by chemical formula 1 or a group represented by chemical formula 1 and a group represented by chemical formula 2 are connected by a residual group of a compound with 2 to 4 vinyl groups in one molecule except for vinyl groups. In chemical formula 1, R1 is identical or different and is a C1 to C4 alkyl group or a C6 to C10 aryl group; E is a group with an epoxy group; and a is 2 to 5. In chemical formula 2, b is 2 to 6 to satisfy inequality, 0
摘要翻译：目的：提供正型感光树脂组合物和由其获得的永久抗蚀剂，以改善图案形状，尽管通过显影过程的最佳显影时间。构成：正型感光树脂组合物包括具有羧基和/或酚氢氧化物基团作为基础树脂的聚硅氧烷化合物，作为感光成分的光敏重氮醌化合物和有机溶剂。该组合物包括环氧硅氧烷化合物，其中由化学式1表示的基团或由化学式1表示的基团和由化学式2表示的基团通过残留的一个具有2-4个乙烯基的化合物在一个分子中连接，除了用于乙烯基。在化学式1中，R 1相同或不同，为C 1〜C 4烷基或C 6〜C 10芳基; E是具有环氧基团的基团; 在化学式2中，b为2〜6，满足不等式，0

5. 发明公开

KR1020110084493A 포지티브형 감광성 조성물 및 영구 레지스트 无效
标题翻译：积极的光敏组合物和永久抗性
公开(公告)号：KR1020110084493A
公开(公告)日：2011-07-25
申请号：KR1020117001842
申请日：2009-10-13
申请人： 가부시키가이샤 아데카
发明人： 사이토세이이치 , 모리타히로시 , 타케노우치히로미 , 코바야시아츠시 , 오미진이치
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/023 , G03F7/039 , G02F1/1333
CPC分类号： G03F7/0757 , C08G77/16 , C08G77/18 , G03F7/0233 , G03F7/40 , H05B33/10 , H05B33/22 , G03F7/0392 , C07F7/21 , C08G77/20 , C08G77/50 , G03F7/0226 , G03F7/0397
摘要： 본 발명의 포지티브형 감광성 조성물은 (A)성분으로서, 하기 일반식(1)로 표시되는 기를 1분자 중에 적어도 2개 가지는 실리콘 수지, (B)성분으로서 글리시딜기를 가지는 실록산 화합물, (C)성분으로서 디아조나프토퀴논류 및 (D)성분으로서 유기 용제를 함유한다. 영구 레지스트는 상기 포지티브형 감광성 조성물을 기재상에 도포하고, 도포물을 노광하여, 알칼리 현상한 후에 120~350℃의 온도로 포스트 베이킹하여 제조된다.

(식 중, R
1 은 치환 탄화수소기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1∼10의 알킬렌기를 나타내고, R
2 는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내며, a는 0 또는 1∼4의 수를 나타내고, b는 1∼3의 수를 나타내는데, a+b는 5를 넘지 않는다.)
摘要翻译：一种正型光敏组合物，其包含（A）在一分子中具有至少两个由通式（1）表示的基团的硅氧烷树脂[其中R 1为可具有取代基烃基的C 1-10亚烷基; R2是C1-4烷基; a是0或1到4的数; b为1〜3的数，条件是a和b的和不超过5]，（B）含有缩水甘油基的硅氧烷化合物，（C）重氮萘醌，（D）有机溶剂。通过将正性感光性组合物涂布在基材上，将被覆基材曝光，然后使所得到的涂布基板进行碱显影，然后在120〜350℃下进行后烘，来制造永久抗蚀剂。

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