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    • 1. 发明授权
    • 듀티 사이클식 자이로스코프
    • 占空比陀螺仪
    • KR101835193B1
    • 2018-03-06
    • KR1020157028086
    • 2014-02-28
    • 인벤센스, 인크.
    • 쉐퍼,데릭왕,스탠리
    • G01C19/5776H03L7/085H03L7/089H03L7/099
    • G01C19/10G01C19/065G01C19/5776H03G3/20H03L7/0891H03L7/093H03L7/099Y10T74/1229
    • 자이로스코프시스템은구동시스템및 감지시스템에결합되는 MEMS 자이로스코프를포함한다. 구동시스템은진동상태로 MEMS 자이로스코프를유지하고, 감지시스템은회전속도를나타내는 MEMS 자이로스코프의출력신호를수신하고, 증폭하고, 복조한다. 자이로스코프시스템은구동시스템으로부터기준클럭(REFCLK)을수신하고시스템클럭(CLK)을생성하는위상동기루프(PLL)를더 포함한다. 마지막으로, 자이로스코프시스템은구동시스템및 감지시스템의작동상태를설정하고또한 PLL의상태를제어하는시스템클럭상에서작동하는제어기를포함한다. 하나이상의시스템상태변수는보호모드동안실질적으로고정상태로유지되어자이로스코프시스템의저전력모드와정상작동모드사이의빠른전이를가능하게한다.
    • 陀螺仪系统包括耦合到驱动系统和感测系统的MEMS陀螺仪。 驱动系统将MEMS陀螺仪维持在振动状态,并且感测系统接收,放大并解调表示旋转速度的MEMS陀螺仪的输出信号。 陀螺仪系统包括从驱动系统接收参考时钟(REFCLK)并产生系统时钟(CLK)的锁相环(PLL)。 最后,陀螺仪系统包括一个控制器,用于设置驱动系统和感测系统的工作状态,并且还用于控制PLL状态的系统时钟。 一个或多个系统状态变量在保护模式期间保持基本静止,以实现陀螺仪系统的低功率模式和正常操作模式之间的快速转换。
    • 2. 发明公开
    • 집적된 CMOS 및 MEMS 센서 제조 방법 및 구조
    • 集成CMOS和MEMS传感器制造的方法和结构
    • KR1020170021846A
    • 2017-02-28
    • KR1020177001572
    • 2015-07-06
    • 인벤센스, 인크.
    • 스미스,피터
    • B81B7/02B81C1/00
    • B81C1/00238B81B7/02B81C1/00246B81C2201/0197B81C2203/0792
    • CMOS-MEMS 구조를제공하는방법이개시된다. 본방법은 MEMS 작동기판상에제1 상부금속을및 CMOS 기판상에제2 상부금속을패터닝하는단계를포함한다. 상기 MEMS 작동기판및 상기 CMOS 기판각각은그 위에산화물층을포함한다. 본방법은 MEMS 작동기기판의상기제1 패터닝된상부금속을상기베이스기판의상기제2 패터닝된상부금속에접합하는제1 접합단계를이용하여, MEMS 작동기판및 베이스기판상에각각의산화물층을식각하는단계를포함한다. 마지막으로, 본방법은 MEMS 작동기판내로작동층을식각하는단계및 MEMS 작동기판을 MEMS 핸들기판에접합하는제2 접합단계를이용하는단계를포함한다.
    • 公开了一种用于提供CMOS-MEMS结构的方法。 该方法包括图案化MEMS致动器板上的第一上部金属和CMOS衬底上的第二上部金属。 MEMS操作基板和CMOS基板中的每一个在其上包括氧化物层。 该方法包括以下步骤:应用将MEMS致动器基板的第一图案化的上金属结合到基底基板的第二图案化的上金属以在MEMS工作基板和基底基板上形成相应的氧化物层的第一结合步骤 和蚀刻。 最后,该方法包括使用第二接合步骤将有源层蚀刻到MEMS致动基板中并且将MEMS致动基板接合到MEMS处理基板。