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1. 发明授权

KR101711424B1 반도체 기판 코팅을 위한 비중합체성 결합제 有权
标题翻译：用于半导体衬底涂层的非聚合物粘合剂
公开(公告)号：KR101711424B1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：KR1020117018999
申请日：2010-01-15
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 말릭산제이 , 디로커스테파니제이 , 레이너스윌리암에이 , 사카무리라지
IPC分类号： G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/094 , H01L21/0276 , H01L21/312
摘要： 하기 (1) ~ (3) 을함유하는, 구멍충전조성물및 바닥반사방지코팅으로서유용한반도체코팅조성물: (1) 하기화학식 (A) 으로나타내지는비중합체성, 결합제 (NPB):(식중, Q 는다원자가유기핵이고, Z및 Z은 2 원자가연결기이고, W 는 2 원자가유기브릿지기이고, 세타는유기 DUV 발색단-함유치환기 T 또는 DUV 광에대한흡광도가없거나거의없는유기치환기슈바이고, X 는반응성작용기이고, Y은반응성작용기이고, a 는약 2 내지 15 의범위이고, b 는약 0 내지 10 의범위이고, c 는약 0 내지 5 의범위이고, d 는독립적으로 0 또는 1 이며, Q, W, 및세타는함께, 가교결합반응에서반응성인 2 개이상의기 또는부위를함유하고, 단, (a+b+c) 의합은 3 을초과하거나 3 임) (2) 가교결합제; 및 (3) 용매.
摘要翻译：可用作孔填充组合物和底部抗反射涂层的半导体涂料组合物，其包含：（1）由式（Ao）表示的非聚合性粘合剂（NPB），其中Q为多价有机核，Z1和Z11为二价连接基团，W为二价有机桥基，θ是含有DUV发色团的有机取代基T或对DUV光具有很小或不吸光度的有机取代基，W是反应性官能团，Y 11为反应性官能团，其范围为约2至15， b的范围为约0至10，c为约0至5，d为零或1，其中Q，W和θ一起含有至少两个在交联反应中具有反应性的基团或部位，条件是（a + b + c）之和大于或等于3.（2）交联剂; 和（3）溶剂。

2. 发明公开

KR1020160075577A 표면 잔류물 제거용 세정 제형 审中-实审
标题翻译：用于清除表面上残留物的清洁配方
公开(公告)号：KR1020160075577A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：KR1020167012925
申请日：2014-09-15
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 도리토마스 , 두빙 , 다카하시도모노리 , 크네어에밀에이.
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/50 , C11D11/00 , G03F7/42 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D3/2003 , C11D3/2068 , C11D3/2072 , C11D3/2079 , C11D3/2082 , C11D3/2086 , C11D3/2093 , C11D7/3245 , C11D7/3281 , C11D7/5022 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/02063 , G03F7/70925 , H01L21/02052
摘要： 본발명은 1) 하나이상의킬레이트제; 2) 수용성알코올, 수용성케톤, 수용성에스테르및 수용성에테르로이루어진군으로부터선택되는하나이상의유기용매; 3) 일차아미노기또는이차아미노기, 및질소를함유하는하나이상의부가적인염기성기를포함하는하나이상의모노카르복실산; 4) 하나이상의금속부식저해제; 및 5) 물을포함하는, 세정조성물에관한것으로서, 킬레이트제는폴리아미노폴리카르복실산이며, 금속부식저해제는치환또는비치환된벤조트리아졸이다. 본발명은또한, 상기조성물을사용하여반도체기판을세정하는방법에관한것이다.

3. 发明公开

KR1020110127244A 표면 상의 잔류물을 제거하기 위한 세정 조성물 无效
标题翻译：用于清除表面残留物的清洁配方
公开(公告)号：KR1020110127244A
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：KR1020117023060
申请日：2010-03-09
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 두빙 , 워지책윌리엄에이. , 픽너스탠리에이.
IPC分类号： C11D3/33 , C11D3/20 , G03F7/42
CPC分类号： C23G1/18 , C11D7/3245 , C11D11/0047 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/02063 , H01L21/02071
摘要： 본 발명은 반도체 기판으로부터 잔류물을 제거하는 데 사용할 수 있는 조성물에 관한 것이다.

4. 发明授权

KR101067825B1 신규한 포지티브 감광성 수지 조성물들 有权
标题翻译：新型正性感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101067825B1
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：KR1020057019033
申请日：2004-06-03
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 러쉬킨,일리야 , 나이니,어매드,에이. , 호플라,리차드 , 워터슨,파멜라,제이. , 웨버,윌리암,디.
IPC分类号： G03F7/004 , G03C1/73
CPC分类号： C08G73/22 , C09D179/04 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , Y10S430/107
摘要： 산에 불안정한 작용기들을 가지는 말단-캡핑된 폴리벤족사졸 전구체, 그를 포함하는 포지티브-방식 감광성 조성물들 및 기판들 상에 내열성 릴리프 이미지들을 생성하기 위한 상기 조성물의 용도가 개시된다.
산에 불안정한 작용기(acid labile functional group), 말단-캡핑된 폴리벤족사졸 전구체(end-capped polybenzoxazole precursor), 내열성 릴리프 이미지, 포지티브-방식 감광성 조성물, 포지티브-방식 감광성 제제.

5. 发明公开

KR1020080036225A 새로운 포지티브 감광성 폴리벤족사졸 전구체 조성물 无效
标题翻译：新型正极性感光性聚苯并唑前体组合物
公开(公告)号：KR1020080036225A
公开(公告)日：2008-04-25
申请号：KR1020087006447
申请日：2006-08-15
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 나이니아마드에이. , 파월다비드비. , 라치코트도널드더블유. , 러시킨일야 , 베버월리암
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/023 , G03F7/0392 , G03F7/0751
摘要： A heat resistant positive-working photosensitive PBO precursor composition comprising: (a) at least one polybenzoxazole precursor polymer; (b) at least one plasticizer compound; (c) at least one solvent; wherein the amount of the plasticizer p resent i n the composition is an amount effective to reduce the sidewall angle of imaged and cured features in the coated film on the substrate to prevent stress failures in subsequent metallization of the substrate due to steep angles of the imaged features, and with the proviso that if the polybenzoxazole precursor polymer solely consists of polybenzoxazole precursor polymers that do not contain a photoactive moiety on the polymer, then (d) at least one photoactive compound is also present in the composition.
摘要翻译：一种耐热正性感光性PBO前体组合物，其包含：（a）至少一种聚苯并恶唑前体聚合物; （b）至少一种增塑剂化合物; （c）至少一种溶剂; 其中组合物中增塑剂的量是有效减少基材上涂覆膜中的成像和固化特征的侧壁角度的量，以防止由于成像特征的陡峭角度导致的随后的基板金属化中的应力失败，并且条件是如果聚苯并恶唑前体聚合物仅由聚合物上不含光活性部分的聚苯并恶唑前体聚合物组成，则（d）组合物中也存在至少一种光活性化合物。

6. 发明公开

KR1020070029157A 리소그래피 적용을 위한 열경화된 언더코트 无效
标题翻译：用于光刻应用的热固化底漆
公开(公告)号：KR1020070029157A
公开(公告)日：2007-03-13
申请号：KR1020067021214
申请日：2005-03-09
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 드비노드비. , 말리크산제이 , 코갑토마스제이. , 사루비토마스
IPC分类号： G03F7/11 , C09D5/00
CPC分类号： G03F7/094 , C09D133/14 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/128
摘要： Thermally curable undercoat composition comprising for producing a bilayer relief image comprising a) a polymer of Structure (I) comprising repeating units of Structure (II), (III), and (IV) wherein each R1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom; L represents a single bond, a -COO- group, or a -CON(R2)- group; R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms; M represents a C5-7 cycloalkylene group or an arylene group having from 6 to 18 carbon atoms; W represents a single bond, a - COO- group, -0-, -(C=O)-, or -(SO2)-; R3 represents a hydrogen atom or a linear unsubstituted or substituted alkyl having from 5 to 30 carbon atoms or an unsubstituted or substituted cycloalkyl group having from 5 to 30 carbon atoms, a bridged unsubstituted or substituted alicyclic hydrocarbon group having from 5 to 25 carbon atoms or an unsubstituted or substituted aryl group having from 6 to 18 carbon atoms or an arylalkyl group having from 7 to 18 carbon atoms; n is an integer from 1 to 3, q is an integer from 0 to 3, the sum of n and q being no greater than 5; R4 is a linear or branched or cyclic C1 - C10 alkyl or a halogen group; R5 is an alkyl or branched alkyl or cyclic alkyl or an unsubstituted or substituted alicyclic group, having 5 to 30 carbon atoms or (R60)t R7 group where R6 is a C1-10 linear or branched alkylene group and R7 is linear, branched or cyclic alkyl or an unsubstituted or substituted alicyclic group or an unsubstituted or substituted a romatic or a Ikyl a romatic group having 1 to 30 carbon atoms and t is an integer about 1 to 4; b) a phenolic crosslinker; c) a thermal acid generator (TAG); and d) a solvent. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：包含用于制备双层浮雕图像的可热固化底涂层组合物，其包含a）包含结构（II），（III）和（IV）的重复单元的结构（I）的聚合物，其中每个R 1独立地为氢原子或烷基具有1至3个碳原子或卤素原子; L表示单键，-COO-基或-CON（R2） - 基; R2表示氢原子或碳原子数为1〜3的烷基; M表示碳原子数为6〜18的C 5-7亚环烷基或亚芳基。 W表示单键，a-COO-基，-O - ， - （C = O） - 或 - （SO2） - ; R 3表示氢原子或具有5至30个碳原子的直链未取代或取代的烷基或具有5至30个碳原子的未取代或取代的环烷基，具有5至25个碳原子的桥接未取代或取代的脂环族烃基或具有6至18个碳原子的未取代或取代的芳基或具有7至18个碳原子的芳基烷基; n为1〜3的整数，q为0〜3的整数，n和q之和为5以下。 R4是直链或支链或环状的C1-C10烷基或卤素基团; R5是具有5-30个碳原子的烷基或支链烷基或环烷基或未取代或取代的脂环基，或（R60）t R7基，其中R6是C1-10直链或支链亚烷基，R7是直链，支链或支链的环状烷基或未取代或取代的脂环族基团或未取代或取代的芳族或具有1至30个碳原子的烷基芳基，t为约1至4的整数; b）酚类交联剂; c）热酸生成器（TAG）; 和d）溶剂。 ®KIPO＆WIPO 2007

7. 发明公开

KR1020070007026A 신규 광감응성 수지 조성물 无效
标题翻译：新型光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020070007026A
公开(公告)日：2007-01-12
申请号：KR1020067007348
申请日：2004-10-15
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 나이니,어매드,에이. , 호플라,리차드 , 포웰,데이빗,비. , 미티비에르,죤 , 러쉬킨,일리야,
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/023 , G03F7/022 , Y10T428/24802 , G03F7/0392
摘要： A positive-working photosensitive composition comprising one or more polybenzoxazole precursor polymers, a diazonaphthoquinone photoactive compound which is the condensation product of a compound containing from 2 to about 9 aromatic hydroxyl groups with a 5-naphthoquinone diazide sulfonyl compound and a 4-naphthoquinone diazide sulfonyl compound, and at least one solvent, and the use of such compositions to form a relief pattern on a substrate thereby forming a coated substrate. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：一种正性光敏组合物，其包含一种或多种聚苯并恶唑前体聚合物，重氮萘醌光敏化合物，其是含有2至约9个芳族羟基的化合物与5-萘醌二叠氮化物磺酰化合物与4-萘醌二叠氮基磺酰基化合物和至少一种溶剂，以及使用这种组合物在基材上形成浮雕图案，从而形成涂布的基材。 ®KIPO＆WIPO 2007

8. 发明授权

KR102256067B1 배리어 루테늄 화학 기계적 연마 슬러리 有权
公开(公告)号：KR102256067B1
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：KR1020190035905
申请日：2019-03-28
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 데이비드타웨이린 , 빈후 , 리칭리차드웬
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304 , H01L21/321
摘要： 적어도부분적으로루테늄및 구리를포함하는, 표면또는기판을연마하기위한슬러리로서, 상기슬러리는알칼리수산화물, 산소화된할로겐화합물, 및할로겐알킬벤조트리아졸을포함한다. 상기슬러리는연마제, 산(들), 및임의로알콕시화알코올을추가로포함할수 있다. 이들성분으로, 상기슬러리는구리에대한루테늄의높은제거율비를나타낸다.

9. 发明授权

KR102070743B1 신규 패시베이션 조성물 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102070743B1
公开(公告)日：2020-01-29
申请号：KR1020147011571
申请日：2012-10-22
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 크루파프랭크제이. , 워지책윌리엄에이. , 두빙 , 타카하시토모노리
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/469 , H01L21/31

10. 发明授权

KR101378826B1 사이클릭 알켄 유도체의 분해를 방지하기 위한 첨가제 有权
标题翻译：用于防止环烯衍生物降解的添加剂
公开(公告)号：KR101378826B1
公开(公告)日：2014-03-28
申请号：KR1020137012784
申请日：2006-09-12
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 테프다니엘제이. , 챠골라존엘
IPC分类号： C09K15/04 , C08K5/05 , C08J5/18
CPC分类号： C07C39/06 , C07C7/20 , C07C39/04 , C07C13/64 , C07C13/00
摘要： 본 발명은 하나 이상의 사이클릭 알켄 및 하나 이상의 화학식 I의 항산화 화합물을 포함하고, 상기 항산화 화합물이 1 ppm 내지 200 ppm의 농도로 존재하며 이의 비점이 265 ℃보다 낮은, 안정화된 사이클릭 알켄 조성물에 관한 것이다:
화학식 I

상기 식에서, R
1 내지 R
5 는 각각 독립적으로 H, OH, C
1 -C
8 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 알킬, C
1 -C
8 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 알콕시 또는 치환되거나 비치환된 아릴이다. 또한, 본 발명은 안정화된 알켄 조성물 및 규소 함유 화합물을 사용하여 기판에 탄소-도핑된 산화규소의 층을 형성하는 방법에 관한 것이다.

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