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1. 发明授权

KR100969014B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 패턴 형성방법 有权
标题翻译：正型光敏树脂组合物及其形成过程
公开(公告)号：KR100969014B1
公开(公告)日：2010-07-09
申请号：KR1020087003487
申请日：2006-07-11
申请人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
发明人： 오카자키마사키 , 오니시히토시 , 야마시타와타루
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： C08L79/08 , C08G73/10 , C08G73/1032 , C08G73/1075 , C08G73/1082 , C08K5/06 , G03F7/0233 , G03F7/0392 , H05K3/287 , Y10S430/107
摘要： 본 발명은, 알칼리 금속 탄산염의 수용액으로 현상할 수 있고, 미세한 패턴을 형성할 수 있고, 우수한 내열성 등을 갖는 폴리이미드를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 포지티브형 패턴의 형성방법 및 그들의 용도를 제공한다. 본 발명의 포지티브형 감광성 수지 조성물은, 하기식 1로 표시되는 구성단위를 갖는 폴리이미드 전구체(A) 100중량부와, 하기식 2로 표시되는 가교제(B) 15 내지 25중량부와, 활성 광선의 조사에 의해서 산을 발생하는 감광제(C) 2 내지 5중량부를 함유한다.
화학식 1

화학식 2

(식 중, m은 1 이상의 정수를 나타내고, R은 1가 이상의 방향족기 또는 지방족기를 나타낸다.)
摘要翻译：含有100重量份具有由式（1）表示的结构单元的聚酰亚胺前体（A），15-25重量份由式（2）表示的交联剂（B）的正性感光性树脂组合物，和2〜5重量份的光敏剂（C），其在光化射线照射时产生酸：其中m为1以上的整数，R为芳族基或1价以上的脂肪族基。正型感光性树脂组合物可以通过使用碱金属碳酸盐的水溶液显影，能够形成微图案，并且具有优异的耐热性等。还提供了形成正图案的方法及其用途。

2. 发明公开

KR1020100036110A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020100036110A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：KR1020080095569
申请日：2008-09-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 정두영 , 유용식 , 정지영 , 이종화 , 정민국 , 이길성 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , Y10S430/107
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition is provided to ensure high-sensitivity, high definition, excellent residue elimination, and good patterns and to maintain the balance of solid content and viscosity even with a small amount of polybenzoxazole precursor. CONSTITUTION: A positive type photosensitive resin composition comprises (A) 100.0 parts by weight of a polybenzoxazole precursor having a repeating unit represented by chemical formula 1, (B) 5 -100.0 parts by weight of photosensitive diazoquinone compound, (C) 0.1-30 parts by weight of a silane compound, (D) 10-100.0 parts by weight of polyamic acid ester compound, and (E) a solvent.
摘要翻译：目的：提供正型感光性树脂组合物，以确保高灵敏度，高分辨率，优异的残留物消除和良好的图案，并且即使使用少量的聚苯并恶唑前体也能保持固体含量和粘度的平衡。构成：正型感光性树脂组合物含有（A）100.0重量份具有化学式1所示重复单元的聚苯并恶唑前体，（B）5〜100.0重量份光敏重氮醌化合物，（C）0.1-30 重量份的硅烷化合物，（D）10-100.0重量份的聚酰胺酸酯化合物和（E）溶剂。

3. 发明公开

KR1020080018122A 알칼리 수용액에 가용인 감광성 폴리이미드 수지, 상기수지를 포함하는 조성물 및 상기 조성물로부터 얻어지는 막 有权
标题翻译：碱性水溶液 - 可溶性光敏聚酰胺树脂，包含由组合物获得的树脂和膜的组合物
公开(公告)号：KR1020080018122A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：KR1020070083871
申请日：2007-08-21
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 고또,도모유끼 , 스고,미찌히로 , 다가미,쇼헤이 , 가또,히데또
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , C08J5/22 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/037 , C08G73/1042 , G03F7/0387 , H05K3/287 , Y10S430/107
摘要： A polyimide resin, a photosensitive resin composition containing the polyimide resin, a method for forming a pattern by using the composition, and a method for forming a protective coating film by using the composition are provided to improve photosensitivity and the solubility in alkali. A polyimide resin comprises the three kinds of repeating units represented by the formula 1 and has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 5,000-500,000, an acrylic equivalence of 400-3,000 and a carboxylic acid equivalence of 300-2,500, wherein X is a tetravalent organic group; Y is a divalent organic group having at least one group selected form a (meth)acryl group, a carboxyl group or a hydroxyl group; Z is a divalent organic group having no group selected form a (meth)acryl group, a carboxyl group or a hydroxyl group; W is a divalent organic group having a polyorganosiloxane structure; X, Y, Z and W can form a dual or more structure; 0.2
摘要翻译：提供聚酰亚胺树脂，含有聚酰亚胺树脂的感光性树脂组合物，使用该组合物形成图案的方法以及使用该组合物形成保护涂膜的方法，以提高光敏性和在碱中的溶解度。聚酰亚胺树脂包括由式1表示的三种重复单元，聚苯乙烯换算的重均分子量为5,000-500,000，丙烯酸当量为400-3,000，羧酸当量为300-2,500，其中X为四价有机基团; Y是具有至少一个选自（甲基）丙烯酰基，羧基或羟基的基团的二价有机基团; Z是没有选自（甲基）丙烯酰基，羧基或羟基的基团的二价有机基团; W是具有聚有机硅氧烷结构的二价有机基团; X，Y，Z和W可以形成双重结构或更多结构; 0.2 <= K <= 1.0; 0 <= M <= 0.8; 0 <= N <= 0.8; 和k + m + n = 1。

4. 发明授权

KR100805134B1 감광성 수지 조성물, 이를 사용한 패턴제조법 및 전자부품 失效
标题翻译：光敏树脂组合物，与其形成图案的方法和电子组件
公开(公告)号：KR100805134B1
公开(公告)日：2008-02-21
申请号：KR1020037003009
申请日：2002-07-03
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 나고야도모히로 , 마쯔우라히데까즈 , 시미즈다께히로
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0758 , C08L77/00 , C08L79/08 , G03F7/037 , G03F7/0387 , G03F7/0388 , G03F7/0755 , Y10S430/107 , C08L2666/20
摘要： 이하에 나타낸 화학식 (Ⅰ) 로 표시되는 반복단위 (U1) 을 갖는 폴리아미드수지 (A) 및 화학식 (Ⅱ) 로 표시되는 반복단위 (U2) 를 갖는 폴리아미드이미드수지 (B) 중의 적어도 하나의 감광성 수지와, 광중합성 불포화결합을 갖는 실란커플링제 (C) 및 분자내에 5개 이상의 광중합성 불포화결합을 갖는 모노머 (d1) 를 함유하는 광중합성 불포화 모노머 (D) 중 적어도 하나의 광중합성 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 패턴 제조법 및 전자 부품을 개시한다.
[화학식 Ⅰ]

(식 중, X
1 은 방향환을 갖는 3 가의 유기기를 나타내고, Y
1 은 방향환을 갖는 2 가의 유기기를 나타내며, R
1 은 감광성기를 갖는 1 가의 유기기를 나타냄)
[화학식 Ⅱ]

(식 중, X
2 및 Y
2 는 방향환을 갖는 3 가의 유기기를 나타내고, R
2 는 감광성기를 갖는 1 가의 유기기를 나타냄)

5. 发明公开

KR1020060016082A 신규한 포지티브 감광성 수지 조성물들 有权
标题翻译：新型正性感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020060016082A
公开(公告)日：2006-02-21
申请号：KR1020057019033
申请日：2004-06-03
申请人： 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨.
发明人： 러쉬킨,일리야 , 나이니,어매드,에이. , 호플라,리차드 , 워터슨,파멜라,제이. , 웨버,윌리암,디.
IPC分类号： G03F7/004 , G03C1/73
CPC分类号： C08G73/22 , C09D179/04 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , Y10S430/107
摘要： An end-capped polybenzoxazole precursor having acid labile functional groups, positive working photosensitive compositions thereof and use of the compositions for producing heat resistant relief images on substrates.
摘要翻译：具有酸不稳定官能团的端封聚苯并恶唑前体，其正性工作感光组合物和用于在基材上制备耐热浮雕图像的组合物。

6. 发明授权

KR100529577B1 감광성 수지조성물, 드라이필름 및 그것을 이용한 가공부품 有权
标题翻译：光敏树脂组合物，干膜和使用它的产品
公开(公告)号：KR100529577B1
公开(公告)日：2005-11-17
申请号：KR1020020069153
申请日：2002-11-08
申请人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
发明人： 타하라슈지 , 오카와도에츠오 , 모리타모리츠구 , 후지타카즈히토 , 츠다다케시
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/037 , Y10S430/107 , Y10T428/24917 , Y10T428/31721
摘要： 본 발명은 저에너지노광에 의해 정교한 화상형성이 가능하고, 유기용제를 사용하지 않더라도 현상할 수 있으며, 또한 현상후 열처리하여 이미드화하여 얻어지는 피막이, 양호한 가요성, 굴곡성을 가지면서 우수한 내열성, 난연성, 도체와의 접착성, 전기특성 등을 발현하도록 한 감광성 수지조성물, 상기 감광성 수지조성물로부터 얻어지는 드라이필름 및 상기 드라이필름이 경화하여 형성된 피막을 갖는 가공품을 제공하는 것을 목적으로 하고 있고, 본 발명의 감광성 수지조성물은, (A) 하기 일반식(1)로 표시되는 구성단위로 이루어진 폴리아미드산, (B) 적어도 2개 이상의 광중합가능한 C=C 불포화 2중결합을 갖는 (메타)아크릴레이트, (C) 광중합개시제 및 (D) 난연제를 함유하고, 상기 (A) 폴리아미드산 100중량부에 대해서, 상기 (B) 적어도 2개 이상의 광중� ��가능한 C=C 불포화 2중결합을 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 10∼700중량부의 비율로 함유한다.

(식중, n은 1∼100의 정수이고, R
1 은 C, H 및 O로부터 선택되는 원소만으로 구성되는 2가의 유기기를 나타내고, R
2 는 C, H 및 O로부터 선택되는 원소만으로 구성되는 4가의 유기기를 나타낸다.)

7. 发明公开

KR1020000028756A 네가티브형 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：负面光电组成
公开(公告)号：KR1020000028756A
公开(公告)日：2000-05-25
申请号：KR1019990042050
申请日：1999-09-30
申请人： 닛토덴코 가부시키가이샤
发明人： 하야시순이치 , 히가시가즈미
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0387 , Y10S430/107 , Y10S430/121 , Y10S430/127
摘要： PURPOSE: A negative photoresist composition is provided to improve a sensitivity and a resolution by including a photosensitive polyamide acid. CONSTITUTION: A negative photoresist composition has a polyamide acid, a 1,4-dihydropyridine derivative with a chemical formula 1, and a 1,4-dihydropyridine derivative with a chemical formula 2. The 1,4-dihydropyridine derivative with the chemical formula 1 and the 1,4-dihydropyridine derivative with the chemical formula 2 have a weight ratio with 1: 5 to 5: 1. The negative photoresist composition has the polyamide acid, a 1-carboxyl ethyl-3,5-dimethoxycarbonyl-4-(2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine with a chemical formula 3, and a 1-ethyl-3,5-dimethoxycarbonyl- 4-(2-nitrophenyl)- 1,4- dihydropyridine with a chemical formula 4. The 1-carboxyl ethyl-3,5- dimethoxycarbonyl- 4-(2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine with the chemical formula 3 and the 1-ethyl-3,5- dimethoxycarbonyl-4-(2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine with the chemical formula 4 have a weight ratio with 1: 5 to 5: 1.
摘要翻译：目的：提供负性光致抗蚀剂组合物以通过包括感光性聚酰胺酸提高灵敏度和分辨率。构成：负性光致抗蚀剂组合物具有聚酰胺酸，化学式1的1,4-二氢吡啶衍生物和化学式2的1,4-二氢吡啶衍生物。化学式1的1,4-二氢吡啶衍生物化学式2的1,4-二氢吡啶衍生物的重量比为1:5至5:1。负性光致抗蚀剂组合物具有聚酰胺酸，1-羧基乙基-3,5-二甲氧基羰基-4-（ 2-硝基苯基）-1,4-二氢吡啶和化学式为4的1-乙基-3,5-二甲氧基羰基-4-（2-硝基苯基）-1,4-二氢吡啶。羧基乙基-3,5-二甲氧基羰基-4-（2-硝基苯基）-1,4-二氢吡啶，其化学式为3和1-乙基-3,5-二甲氧基羰基-4-（2-硝基苯基）-1,4 - 二氢吡啶与化学式4的重量比为1:5至5:1。

8. 发明公开

KR1020000011431A 원자외선 노광용 포지티브 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：用于暴露超紫外线的阳性光电复合材料
公开(公告)号：KR1020000011431A
公开(公告)日：2000-02-25
申请号：KR1019990026473
申请日：1999-07-02
申请人： 후지필름 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사토켄이치로오
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0395 , Y10S430/107
摘要： PURPOSE: A positive photoresist composite for exposing ultraviolet rays is provided to enhance image dissection degree and storing stability of constituent solution. CONSTITUTION: The composite comprises a compound and a resin. The compound creates acid by irradiating chemical ray or radioactive ray. The resin is dissolved by acid operation to increase solubility in alkali developer and has a group connected to at least one end. Utilizing a light source having a wavelength of 220 nanometer and less, the composite supplies a resist pattern of excellent sensitivity and image dissection degree and good storing stability.
摘要翻译：目的：提供用于暴露紫外线的正性光致抗蚀剂复合材料，以增强图像解剖度和储存组分溶液的稳定性。构成：复合材料包括化合物和树脂。该化合物通过照射化学射线或放射线照射产生酸。通过酸操作使树脂溶解以增加在碱性显影剂中的溶解度，并且具有连接至少一端的基团。利用波长为220纳米以下的光源，该复合材料提供了极好的灵敏度和图像解剖度以及良好的储存稳定性的抗蚀剂图案。

9. 发明授权

KR100183990B1 양성 감광성 수지 조성물 失效
标题翻译：积极的光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR100183990B1
公开(公告)日：1999-04-01
申请号：KR1019910008819
申请日：1991-05-29
申请人： 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 다께우찌에쓰 , 다께다도시로 , 다께다나소시게 , 도꼬오아끼라
IPC分类号： G03F7/04
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0226 , G03F7/039 , G03F7/0757 , Y10S430/107
摘要： 본 발명은 기재 수지로서 폴리벤족사졸 전구체, 개선된 접착성, 유연성 또는 내열성 부여용 성분으로서 유기 용매-가용성 중합체 또는 그의 전구체(예. 폴리암산), 및 감광성제로서 디아조퀴논 화합물 및/또는 디히드로피리딘 화합물을 함유함을 특징으로 하는 양성 감광성 수지 조성물을 제공한다. 이 감광성 수지 조성물은 고 해상능의 패턴을 형성시킬 수 있으며 또한 우수한 접착성 및 기계적 특성을 갖는다. 본 발명은 또한 감광제로서, 양성 감광성 수지 조성물중에 혼합될때 고해상능, 고대비성 및 후막 형성능을 제공하는 세가지 신규한 디아조퀴논 화합물을 제공한다. 또한 본 발명은 폴리벤족사졸 전구체를 감광제로서 디아조퀴논 화합물과 반응시킴으로써 수득된 새로운 타입의 양성 감광성 수지 조성물을 제공한다. 이 감광성 수지 조성물은 광노출시에 우수한 내알칼리성을 가지므로 고잔류막 비율을 제공할 수 있다.

10. 发明授权

KR100161542B1 감광성 수지 조성물 失效
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR100161542B1
公开(公告)日：1999-01-15
申请号：KR1019940022133
申请日：1994-09-02
申请人： 히따찌 케미칼 컴퍼니, 리미티드
发明人： 히데오하기와라 , 마꼬또가지 , 마사따까누노무라
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0387 , C08G73/10 , G03F7/0125 , G03F7/037 , G03F7/038 , G03F7/075 , H05K3/4676 , Y10S430/106 , Y10S430/107
摘要： (A) 다음 일반식 (Ⅰ)

(식 중, R
1 은 를 표시하고 R
2 는 2가의 유기기를 나타냄)
로 표시되는 반복 단위를 갖는 포리이미드산 및
(B) 아미노기를 갖는 아크릴 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물 및 이 감광성 수지 조성물에 더해 추가로 광개시제를 함유하는 i-선 스테퍼용 감광성 수지 조성물이 개시된다.

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