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81. 发明授权

KR101086901B1 면 방출형 전자원 및 묘화 장치 失效
标题翻译：表面发射型电子源和绘图装置
公开(公告)号：KR101086901B1
公开(公告)日：2011-11-25
申请号：KR1020097020219
申请日：2008-04-23
申请人： 크레스텍 코포레이션
发明人： 코지마,아키라 , 오이,히데유키
IPC分类号： H01J1/30 , H01J37/073
CPC分类号： H01J37/073 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/312 , H01J37/06 , H01J37/3174 , H01J2201/312 , H01J2237/0635
摘要： 본 발명의 면 방출형 전자원은, 평면 형상의 제1 전극과, 제1 전극에 대향하여 마련된 평면 형상의 제2 전극과, 제1 전극과 제2 전극 사이에 마련된 전자 통과층과, 제2 전극 및 제1 전극에 전압을 인가하는 전원부를 갖는다. 전자 통과층은, 제1 전극으로부터 제2 전극을 향하는 제1 방향으로 연장되는 양자 세선이 소정의 간격을 두고 복수로 마련되어 있으며, 제2 전극의 표면에서 전자가 방출된다. 양자 세선은 실리콘으로 구성되어 있다.

82. 发明授权

KR101077098B1 전자 빔 노출 시스템 失效
标题翻译：电子束曝光系统
公开(公告)号：KR101077098B1
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：KR1020107016866
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 본발명은: 복수의전자빔릿들(5a, 5b)을발생하는빔릿발생기; 전자빔릿의세기를변조하는복수의변조기들을포함하고, 상기복수의전자빔릿들을제공받는변조어레이; 변조어레이에연결되고, 변조기를개별적으로제어하는제어기; 각각의변조기에조작적으로연결되고, 각각의변조기에대한제어신호를개별적으로조절하는조절기; 정전기적렌즈들의어레이(7)를포함하고, 각각의렌즈는상기변조어레이를지나서투과된해당개별적빔릿의초점을 300 nm보다작은단면에맞추는집속전자광 시스템; 및집속전자광 시스템의제1 초점면에서패턴이전사되는노출표면을구비한표적을홀드하는표적홀더를포함하는, 표적의표면상에패턴을전사하는전자빔 노출장치에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及：用于产生多个电子小射束（5a，5b）的小射束发生器; 一种调制阵列，包括多个用于调制电子小射束强度的调制器，所述调制阵列具有所述多个电子小射束; 耦合到调制阵列的控制器，用于单独地控制调制器; 调节器，可操作地连接到每个调制器，用于分别调节每个调制器的控制信号; 1.一种聚焦电子光学系统，用于将通过调制阵列透射的单个子束聚焦成小于300nm的截面;以及静电透镜阵列（7）; 以及保持具有曝光表面的台的目标支架，在该曝光表面上，在聚焦电子光学系统的第一焦平面上图案被转印到该曝光表面上。

83. 发明公开

KR1020110102607A 전자빔 발생장치 및 이를 제조하는 방법 有权
标题翻译： 전자빔발생장치및이를제조하는방법
公开(公告)号：KR1020110102607A
公开(公告)日：2011-09-19
申请号：KR1020100021697
申请日：2010-03-11
申请人： 포항공과대학교 산학협력단
发明人： 박용운 , 홍주호 , 김승환 , 고인수 , 박용정 , 문성익 , 박성주
IPC分类号： H01J37/06
CPC分类号： H01J37/06 , H01J3/024 , H01J3/027 , H01J37/075 , H01J2237/0473 , H01J2237/061 , H01J2237/166 , Y10T29/49004
摘要： The present invention relates to an apparatus for generating an electron beam, comprising: a cathode; a housing which has an opening formed at one side thereof such that the cathode is coupled to the opening, and which has a resonant cavity formed therein; and a gasket interposed between the cathode and the housing such that the gasket is compressed in accordance with the coupling strength between the cathode and the housing so as to shut off the resonant cavity from the outside.
摘要翻译：本发明涉及一种用于产生电子束的装置，包括：阴极; 壳体，其具有在其一侧形成的开口，使得阴极耦合到开口，并且其中形成有谐振腔; 以及介于阴极和壳体之间的垫圈，使得垫圈根据阴极和壳体之间的耦合强度被压缩，从而从外部切断谐振腔。

84. 发明授权

KR101016728B1 전자 빔 노출 시스템 有权
标题翻译：电子束曝光系统
公开(公告)号：KR101016728B1
公开(公告)日：2011-02-25
申请号：KR1020057007705
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 본 발명은: 복수의 전자 빔릿들(5a, 5b)을 발생하는 빔릿 발생기; 전자 빔릿의 세기를 변조하는 복수의 변조기들을 포함하고, 상기 복수의 전자 빔릿들을 제공받는 변조 어레이; 변조 어레이에 연결되고, 변조기를 개별적으로 제어하는 제어기; 각각의 변조기에 조작적으로 연결되고, 각각의 변조기에 대한 제어 신호를 개별적으로 조절하는 조절기; 정전기적 렌즈들의 어레이(7)를 포함하고, 각각의 렌즈는 상기 변조 어레이를 지나서 투과된 해당 개별적 빔릿의 초점을 300 nm보다 작은 단면에 맞추는 집속 전자 광 시스템; 및 집속 전자 광 시스템의 제1 초점면에서 패턴이 전사되는 노출 표면을 구비한 표적을 홀드하는 표적 홀더를 포함하는, 표적의 표면상에 패턴을 전사하는 전자 빔 노출 장치에 관한 것이다.

85. 发明授权

KR100955241B1 이동형 전자선 가속장치 有权
标题翻译：移动式电子加速器
公开(公告)号：KR100955241B1
公开(公告)日：2010-04-29
申请号：KR1020090079591
申请日：2009-08-27
申请人： 이비테크(주)
发明人： 김성면 , 강원구 , 김진규 , 한범수 , 박흥규 , 국승한 , 김유리
IPC分类号： H05H3/00 , C02F1/30
CPC分类号： H01J37/06 , C02F1/305 , C02F2303/04 , H01J37/16 , H01J2237/024
摘要： PURPOSE: A mobile type electron accelerator is provided to prevent radiation leakage by projecting an electronic beam accelerating from the high voltage generator to a reaction chamber. CONSTITUTION: A container is loaded on a trailer. A radiation shielding room(30) having a door set(40) is formed inside the container. The high voltage generator(50) accelerates the electronic beam. A beam projector outputs the electronic beam to a radiation shielding room in a vacuum condition. A cooling device(84) cools a high voltage generator, a beam projector, and a beam catcher. The gas supply unit supplies the insulation gas to the high voltage generator. An ozone adsorbent(88) adsorbs the ozone created in the reaction chamber. The controller(89) controls the power supply and the cooling device.
摘要翻译：目的：提供一种移动式电子加速器，用于通过将从高压发生器加速的电子束投影到反应室来防止辐射泄漏。构成：集装箱装在拖车上。具有门组（40）的辐射屏蔽室（30）形成在容器内。高压发生器（50）加速电子束。光束投影仪在真空条件下将电子束输出到辐射屏蔽室。冷却装置（84）冷却高压发生器，射束投射器和束捕获器。气体供应单元将绝缘气体提供给高压发生器。臭氧吸附剂（88）吸附在反应室中产生的臭氧。控制器（89）控制电源和冷却装置。

86. 发明授权

KR100873447B1 시트빔식 검사장치 有权
标题翻译：板材测试装置
公开(公告)号：KR100873447B1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：KR1020027015278
申请日：2001-06-27
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 나카스지마모루 , 노지노부하루 , 사타케도루 , 김바도시후미 , 소부카와히로시 , 가리마타츠토무 , 오와다신 , 요시가와쇼지 , 사이토무츠미
IPC分类号： H01J37/29
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/24564 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要： 시트빔식 검사장치 등의 전자선장치는, 전자선원으로부터의 1차 전자선을 검사대상에 조사하여, 상기 1차 전자선의 조사에 의하여 방출된 2차 전자선의 상을 투영하는 전자 광학계 및 전자 광학계에 의해 투영된 2차 전자선상을 검출하는 검출기를 가진다. 구체적으로는 전자선장치는 특정 폭을 가지는 전자선을 조사하는 빔발생수단(2004)과, 그 빔을 검사대상이 되는 기판(2006)의 표면에 도달시키는 1차 전자 광학계(2001)와, 기판(2006)으로부터 발생한 2차 전자를 보충하여 화상처리계 (2015)로 유도하는 2차 전자 광학계(2002)와, 기판(2006)을 적어도 1 자유도의 연속성을 가지고 이송 가능하게 유지하는 스테이지(2003)와, 기판(2006)의 검사실과, 그 검사실에 기판(2006)을 반출입하는 기판 반송기구와, 기판(2006)의 결함을 검출하는 화상처리 해석장치(2015)와, 검사실의 제진기구와, 검사실의 진공을 유지하는 진공계와, 기판(2006)의 결함위치를 표시 또는 기억하는 제어계(2017)를 구비한다.

87. 发明授权

KR100744896B1 개선된 일 함수를 갖는 캐쏘드 및 그의 제조방법 失效
标题翻译：具有改进的工作功能的CATHODE及其制造方法
公开(公告)号：KR100744896B1
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：KR1020000034530
申请日：2000-06-22
申请人： 알카텔-루센트 유에스에이 인코포레이티드
发明人： 진성호 , 카트삽빅토르 , 와스키위쯔와렌케이 , 주웨이
IPC分类号： H01J9/02
CPC分类号： H01J1/15 , H01J9/042 , H01J37/06 , H01J2237/3175
摘要： 본 발명은 스칼펠(Scattering Angle Limited Projection E-beam Lithography, SCALPEL, 상표명) 시스템과 같은 리쏘그래픽 시스템에 사용하기 위한 개선된 일 함수를 갖는 캐쏘드에 관한 것으로, 기판과 방출층 사이에 완충층(buffer)이 포함되어 기판의 면에서 그레인 구조를 변경시키고 랜덤화시키고 최소화하고/하거나 격리시켜 그레인 크기를 줄이고, 결정 배향을 랜덤화시키고, 결정 성장 속도를 감소시켜 준다. 완충층은 고용체 또는 다중상 합금일 수 있다. 또한, 본 발명은 기판의 면과 방출층 사이에 완충층을 침착시킴으로써 캐쏘드를 제조하는 방법에 관한 것으로, 침착된 완충층이 기판의 면에서 그레인 구조를 변경시키고 랜덤화시키고 최소화하고/하거나 격리시켜 그레인 크기를 줄이고, 결정 배향을 랜덤화시키고, 결정의 성장 속도를 감소시켜 준다.

88. 发明授权

KR100488031B1 표면 처리용 모듈형 전자 빔 시스템에 관한 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于处理表面的模块化电子束系统的装置和方法
公开(公告)号：KR100488031B1
公开(公告)日：2005-05-09
申请号：KR1019997009803
申请日：1998-04-10
申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤
发明人： 워카로푸로스죠지
IPC分类号： H01J37/06
CPC分类号： B29C71/04 , B29C2035/0877 , B29L2007/008 , B29L2031/3462 , H01J5/18 , H01J33/00 , H01J33/04 , H01J37/06 , H01J2237/164
摘要： 본 발명은 모듈형 전자 빔 장치에 관한 것으로서, 이 장치는 전자 빔 튜브(20)에 전력을 제공하도록 결합된 전원 부-시스템(12,14,16) 내에 수용된다. 이 엔클로저의 형상은 복수 개의 이러한 모듈형 유닛의 적층이 각 유닛으로부터 방사된 줄무늬 형상의 빔이 처리되는 표면을 완전히 조사하도록 형성된다. 빔은 상이한 선 상에 놓여지지만 결합된 빔은 처리되는 표면 상의 폭을 포괄한다. 본 발명의 대체 실시예에 있어서, 모듈형 유닛은 각각 복수 개의 전자 튜브(20) 및 튜브에 전력을 제공하는 필라멘트 및 바이어스 공급(14, 16)을 포함하는 복수 개의 전자 빔 유닛을 포함한다. 단일 고전압 적층(12)은 복수 개의 튜브/필라멘트/바이어스 부 유닛에 공통이다. 데이지 체인 배열은 단일 고전압 적층이 모든 튜브 유닛에 전력을 제공하는 것을 가능하게 한다. 또 다른 실시예에서, 모듈형 유닛은 단일 전원에 의해 전력이 제공되는 복수 개의 전자 튜브를 포함한다.

89. 发明授权

KR100385583B1 단결정윈도우및매칭양극을갖는전자빔장치 失效
公开(公告)号：KR100385583B1
公开(公告)日：2003-08-19
申请号：KR1019970704608
申请日：1996-01-03
申请人： 우시오 인터내셔날 테크놀로지스, 인크.
发明人： 조지워칼로푸로스
IPC分类号： H01J33/04
CPC分类号： B29C71/04 , B29C2035/0877 , B29L2007/008 , B29L2031/3462 , H01J5/18 , H01J33/00 , H01J33/04 , H01J37/06 , H01J2237/164
摘要： A vacuum tube electron beam device having a thin, single crystal, electron permeable, gas impermeable membrane for electron transmission and methods for making such a device. Single crystal membranes can have small thickness due to high strength, are highly transmissive to free electrons due to that small thickness. The ordered crystalline structure of such membranes provides minimal obstructions to electron beams, and yet is highly impermeable to penetration by gas and liquid molecules. Single crystals are anisotropically etched to precise membrane dimensions, and can also be etched to provide microchannel structures for flowing cooling fluid across the membrane during use. A doped silicon anode can provide support for the membrane with matching thermal expansion characteristics, and a crystalline anode can be integral with the membrane. A double membrane embodiment confines the cooling fluid so that it passes close to both membranes. A double membrane structure can also have a pressure between the membranes that is between the pressure within the vacuum tube and ambient pressure outside the vacuum tube, allowing the membranes to be thinner. The membrane can also be compressed for increased strength. A number of cooling methods are used to maintain the integrity of the membrane.
摘要翻译：一种真空管电子束装置，其具有用于电子传输的薄的单晶电子可渗透的不透气膜和用于制造这种装置的方法。由于高强度，单晶膜可以具有小厚度，由于该小厚度，单晶膜对高自由电子具有高度透射性。这种膜的有序晶体结构对电子束提供了最小的阻碍，但对气体和液体分子的渗透却是高度不可渗透的。单晶被各向异性地蚀刻至精确的膜尺寸，并且也可以被蚀刻以提供用于在使用期间使冷却流体流过膜的微通道结构。掺杂的硅阳极可以为具有匹配的热膨胀特性的膜提供支撑，并且结晶阳极可以与膜一体化。双膜实施例限制冷却流体，使其靠近两个膜。双膜结构也可在膜之间具有介于真空管内的压力与真空管外的环境压力之间的压力，从而使膜更薄。膜也可以被压缩以增加强度。许多冷却方法用于维持膜的完整性。

90. 发明公开

KR1020010049594A 일함수 균일성을 가진 결합 제품 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：加工产品
公开(公告)号：KR1020010049594A
公开(公告)日：2001-06-15
申请号：KR1020000034430
申请日：2000-06-22
申请人： 알카텔-루센트 유에스에이 인코포레이티드
发明人： 케셉빅터 , 바스키에비츠바렌케이
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J1/15 , H01J9/04 , H01J37/06 , H01J2237/3175
摘要： PURPOSE: To keep crystal structure after a cathode is bonded to a member by keeping single crystal structure of a single crystal cathode even after joining, reducing structural, radiative ununiformity, and reducing work function on radiation face made of tantalum. CONSTITUTION: A single crystal cathode made of tantalum welded with laser is bonded to a filament. The single crystal cathode is not a true single crystal, a structure body has variation of ±1 degree, and does not have directionally slipped particles. As a result, the single crystal cathode has low structural uniformity, and high radiation characteristics, and a crystal face has a work function having only 2% or less variation. Sufficient uniformity usable as a thermoelectron cathode for projection electron lithography treatment the same as SCALPET can be obtained. As the radiation face of the single crystal cathode, (111) planes or (100) planes are used.
摘要翻译：目的：通过保持接合后的单晶阴极单晶结构将阴极接合到构件上后，保持晶体结构，降低了由钽制造的辐射面上的结构，辐射不均匀性和降低功函数。构成：将由钽焊接的单晶阴极与激光焊接在一起。单晶阴极不是真正的单晶，结构体具有±1度的变化，并且没有定向滑动的颗粒。结果，单晶阴极具有低结构均匀性和高辐射特性，并且晶面具有仅2％或更小变化的功函数。可以获得与SCALPET相同的用作投影电子光刻处理的热电子阴极的足够的均匀性。作为单晶阴极的辐射面，使用（111）面或（100）面。

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