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81. 发明授权

KR101196359B1 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：KR101196359B1
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020110022125
申请日：2011-03-11
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 덴보에프,아리에예프레이
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/0608 , G03F9/7034 , G03F9/7096
摘要： 본 발명은 기판의 높이 레벨을 결정하도록 구성되는 레벨 센서를 제공하며, 상기 레벨 센서는:
상기 기판 상에 실질적으로 주기적인 광 세기를 갖는 측정 빔을 투영하기 위한 투영 유닛, 및
상기 기판 상의 반사 후에 상기 측정 빔을 수용하도록 배치되는 검출 유닛 - 상기 검출 유닛은, 반사된 측정 빔을 수용하도록 배치되는 검출 격자 - 상기 검출 격자는, 함께 상기 검출 격자 상에 투영되는 상기 측정 빔의 주기의 길이와 실질적으로 같은 길이를 갖는 3 개 이상의 세그먼트들을 포함하고, 상기 3 개 이상의 세그먼트들은 상기 반사된 측정 빔을 3 개 이상의 반사된 측정 빔 부분들로 나누도록 구성됨 - , 및 상기 3 개 이상의 반사된 측정 빔 부분들 중 하나를 수용하도록 각각 배치되는 3 개 이상의 검출기들을 포함함 - , 및
상기 3 개 이상의 검출기들에 의하여 수용된 상기 측정 빔 부분들을 토대로 높이 레벨을 계산하기 위한 처리 유닛을 포함한다.
摘要翻译：本发明提供了一种配置成确定衬底的高度水平的水平传感器，该水平传感器包括：

82. 发明授权

KR101198347B1 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법용 레벨 센서 구성부 有权
标题翻译：用于平版印刷设备和器件制造方法的液位传感器布置
公开(公告)号：KR101198347B1
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：KR1020100022284
申请日：2010-03-12
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 덴보에프,아리에예프레이 , 벤스호프,요제프페트루스헨리쿠스 , 브린크호프,랄프 , 매치,루카즈예지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7065 , G03F9/7088
摘要： 본 발명은 리소그래피 장치에서 기판의 표면의 높이를 측정하는 레벨 센서 구성부에 관한 것이다. 상기 레벨 센서 구성부에는 기판을 향해 검출 방사선을 방출하는 광원, 및 작동 시 상기 기판으로부터 반사된 방사선을 측정하는 검출기 유닛이 제공된다. 상기 광원은 기판을 처리하는데 사용될 레지스트가 감응하는 파장 범위 내의 검출 방사선을 방출하도록 구성된다.

83. 发明公开

KR1020120024800A 이동체 장치, 노광 장치 및 방법, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：可移动身体装置，曝光装置和方法以及装置制造方法
公开(公告)号：KR1020120024800A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：KR1020117030395
申请日：2010-05-20
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7034 , H01L21/67259
摘要： 미동 스테이지 (WFS) 는 제어기에 의해, 계측계 (70) 에 의해 계측된 미동 스테이지 (WFS) 의 계측 방향의 위치 정보, 및 위치 정보에 포함된 미동 스테이지 (WFS) 의 경사에 의해 야기된 계측 오차의 보정 정보에 기초하여 구동된다. 따라서, 미동 스테이지 (WFS) 를 고정밀도로 구동하는 것이 가능하게 되며, 이는 미동 스테이지 (WFS) 의 경사로 인해 발생하는 계측 시스템의 계측 방향의 위치 정보에 포함된 계측 오차에 의해 영향을 받지 않는다.
摘要翻译：基于由测量系统测量的测量方向上的精细运动级的位置信息和由位置信息中包括的微动台的倾斜引起的测量误差的校正信息，由控制器驱动精细运动级。因此，可以高精度地进行微动作阶段的驱动，不会受到微小移动台的倾斜而导致的测量系统的测量方向上的位置信息中包含的测量误差的影响。

84. 发明公开

KR1020110016400A 측정 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：测量装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020110016400A
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：KR1020100074657
申请日：2010-08-02
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 사사끼료
IPC分类号： G01N21/45 , G01B9/02 , H01L21/66
CPC分类号： G01B9/02028 , G01B9/02022 , G01B9/0209 , G01B11/2441 , G01B2290/45 , G03B27/58 , G03F9/7034
摘要： PURPOSE: A measuring device, a light exposing device and a device manufacturing method are provided to detect interference light since a plurality of detection units move the relative movement between a test surface and a measuring unit, which comprises an image taking device and an optical system. CONSTITUTION: A measuring device(1) comprises an image taking device(24) and an optical system. The image taking device comprises a detection unit. The detection unit is formed to detect an interference light, which is formed by a measured light from a test surface and a reference light from a reference surface. The optical system is formed to guide the measured light and the reference light to the detection units. The reference surface is arranged so that a difference occurs on an optical path difference between a reference light beam and a measured light beam, which respectively enter the detection units. Measured light beams, which are reflected from a plurality of measured points on the test surface, and reference light beams, which are reflected from a plurality of reference points on the reference surface, respectively enter the detection units.
摘要翻译：目的：提供测量装置，曝光装置和装置制造方法以检测干涉光，因为多个检测单元移动测试表面和测量单元之间的相对运动，其包括图像拍摄装置和光学系统。构成：测量装置（1）包括摄像装置（24）和光学系统。图像摄取装置包括检测单元。检测单元被形成为检测由来自测试表面的测量光和来自参考表面的参考光形成的干涉光。光学系统被形成为将测量的光和参考光引导到检测单元。参考表面被布置成使得在分别进入检测单元的参考光束和测量光束之间的光程差上出现差异。从测试表面上的多个测量点反射的测量光束和从参考表面上的多个参考点反射的参考光束分别进入检测单元。

85. 发明公开

KR1020100132004A 진공 환경에 적합한 가스 게이지 有权
标题翻译：气体尺寸与真空环境兼容
公开(公告)号：KR1020100132004A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：KR1020107020674
申请日：2009-02-17
申请人： 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
发明人： 슐츠,제프리앨런
IPC分类号： G01B13/12 , G03F7/20
CPC分类号： G01L13/02 , G01B13/12 , G03F9/7026 , G03F9/7034 , G03F9/7053 , G03F9/7096
摘要： 본 발명의 일 실시예에서, 진공 환경에서 사용되고 측정 가스 유동 채널을 갖는 가스 게이지가 제공된다. 가스 게이지는 측정 가스 유동 채널 내에 측정 노즐을 포함할 수 있다. 측정 노즐은 측정 가스 유동 채널에 커플링된 가스 공급기로부터 제공되는 부피 유동의 음속 초킹된 유동 조건에서 작동하도록 구성될 수 있다. 가스 게이지는 측정 노즐의 말단부와 그에 근접한 타겟 표면 간의 갭의 표시를 제공하는 부피 유동의 차압을 측정하기 위해, 부피 유동의 음속 초킹된 유동 조건으로부터 하류에서 측정 가스 유동 채널에 커플링되어 작동하는 압력 센서를 더 포함할 수 있다.

86. 发明公开

KR1020100103420A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법용 레벨 센서 구성부 有权
标题翻译：液晶显示装置的水平传感器装置和装置的制造方法
公开(公告)号：KR1020100103420A
公开(公告)日：2010-09-27
申请号：KR1020100022284
申请日：2010-03-12
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 덴보에프,아리에예프레이 , 벤스호프,요제프페트루스헨리쿠스 , 브린크호프,랄프 , 매치,루카즈예지
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7065 , G03F9/7088 , G03F7/7085 , G03F7/70591 , G03F7/70608
摘要： PURPOSE: A lithography apparatus and a level sensor constituting part for a device manufacturing method are provided to determine the height map of a substrate in a lithography map by adopting a level sensor using a polychromatic radiation ray and lattice optical unit. CONSTITUTION: An illuminating system(IL) conditions radiation beam(B). A supporting structure(MT) supports a patterning device(MA). The supporting structure is connected with a first positioning unit(PM). A substrate table(WT) loads a substrate(W) and is connected with a second positioning unit. A projection system(PS) projects a pattern which is applied to the radiation ray by the pattern device.
摘要翻译：目的：提供用于器件制造方法的光刻设备和液位传感器构成部件，以通过采用使用多色辐射线和点阵光学单元的液位传感器来确定光刻图中的基板的高度图。构成：照明系统（IL）照射辐射束（B）。支撑结构（MT）支撑图案形成装置（MA）。支撑结构与第一定位单元（PM）连接。衬底台（WT）加载衬底（W）并与第二定位单元连接。投影系统（PS）通过图案装置投影应用于放射线的图案。

87. 发明公开

KR1020100097692A 면 위치 검출 장치, 면 위치 검출 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：表面位置检测装置，表面位置检测方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020100097692A
公开(公告)日：2010-09-03
申请号：KR1020107012982
申请日：2008-11-13
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히다카야스히로
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7026 , G03F9/7023 , H01L21/0274
摘要： 물체의 소정의 면의 위치 정보를 검출하는 면 위치 검출 장치는, 소정의 면(14a)에 대하여 경사 방향으로부터 빛을 투사하는 제 1 광학 시스템(51E)과, 물체로부터의 빛을 수광하는 제 2 광학 시스템(52E)과, 제 2 광학 시스템(52E)으로부터의 빛을 수광하고, 수광된 빛에 근거하여, 소정의 면에 교차하는 방향에서의 소정의 면의 위치 정보를 검출하는 검출 시스템(13)과, 제 1 및 제 2 광학 시스템(51E, 52E)중 적어도 하나의 광로내에 배치되고, 제 2 광학 시스템(52E)으로부터의 빛에 있어서의 물체의 소정의 면(14a) 이외의 면을 거쳐서 이동하는 빛중 다른 부분 사이에 위상차를 부여하는 위상차 부여 시스템을 포함한다.

88. 发明公开

KR1020100093006A 이동체 장치 无效
标题翻译：可移动身体装置
公开(公告)号：KR1020100093006A
公开(公告)日：2010-08-24
申请号：KR1020097026847
申请日：2008-11-06
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 가나야유호
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F7/70775 , G03F9/7034 , G03F7/70716 , H01L21/67259 , H01L21/67703
摘要： 투영 유닛 (PU) 의 +X 및 -X 측 상에, Y 스케일의 유효 폭의 반 이하의 간격 (WD) 으로, X-축에 평행하게 복수의 Z 헤드 (76, 74) 가 배치되어, 2 개의 Z 헤드 각각이 항상 쌍을 형성하고 웨이퍼 스테이지 상의 Y 스케일 (반사면) 의 쌍과 대향하도록 한다. Y 스케일과 동시에 대향하는 2 개의 Z 헤드로 이루어지는 헤드의 쌍 중, 우선헤드의 계측값이 사용되고, 스케일 표면 상에 부착된 먼지 등에 기인하여 우선 헤드의 계측값에 이상이 발행하는 경우, 다른 헤드의 계측값이 사용되고, 적어도 Z-축 방향에서의 웨이퍼 스테이지의 위치 정보가 높은 정밀도로 안정한 방식으로 계측된다.
투영 유닛, 스케일, 유효 폭, 우선 헤드, 웨이퍼 스테이지

89. 发明公开

KR1020100085009A 이동체 장치 无效
标题翻译：可移动身体装置
公开(公告)号：KR1020100085009A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：KR1020107001003
申请日：2008-11-06
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 가나야유호
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F9/7034
摘要： On the +X and-X sides of a projection unit (PU), a plurality of Z heads are arranged in parallel to the X-axis, by a distance (WD) half or less than half the effective width of a Y scale so that two Z heads each constantly form a pair and face a pair of the Y scales (reflection surfaces) on a wafer stage. Of the pair of heads consisting of two Z heads which simultaneously face the Y scale, measurement values of a priority head is used, and when abnormality occurs in the measurement values of the priority head due to malfunction of the head, measurement values of the other head is used, and the positional information of the wafer stage in at least the Z-axis direction can be measured in a stable manner and with high precision.
摘要翻译：在投影单元（PU）的+ X和-X侧，多个Z头平行于X轴排列一半或小于Y标尺的有效宽度的一半的距离（WD），所以两个Z头各自经常形成一对并面对晶片台上的一对Y标尺（反射表面）。在由同时面向Y刻度的两个Z头构成的一对头中，使用优先级头的测量值，并且当由于头部故障导致的优先头的测量值发生异常时，另一个的测量值并且可以以高精度稳定地测量晶片载物台在至少Z轴方向上的位置信息。

90. 发明公开

KR1020090100634A 반도체 노광 장치 및 방법 无效
标题翻译：半导体曝光设备及其方法
公开(公告)号：KR1020090100634A
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：KR1020080025930
申请日：2008-03-20
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사
发明人： 박준형 , 금경수
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F9/7034 , H01L22/12
摘要： PURPOSE: A semiconductor exposure apparatus and method are provided to prevent the exposure apparatus from stopping caused by the contamination of a chuck. CONSTITUTION: The semiconductor exposure apparatus(100) performs the exposure process on the semiconductor wafer. The semiconductor exposure apparatus includes the scanner(110), the wafer handler(120), and the contamination removal means(130). The scanner acquires leveling data by scanning the surface of the semiconductor wafer. The scanner and determines the location information of the contamination existing in the semiconductor wafer. If there is a contamination on the semiconductor wafer, the wafer is transferred to remove the contaminant by the contamination removal means.
摘要翻译：目的：提供一种半导体曝光装置和方法，以防止由于卡盘的污染引起的曝光装置停止。构成：半导体曝光装置（100）对半导体晶片进行曝光处理。半导体曝光装置包括扫描器（110），晶片处理器（120）和污染物去除装置（130）。扫描仪通过扫描半导体晶片的表面来获取调平数据。扫描仪并确定存在于半导体晶片中的污染物的位置信息。如果在半导体晶片上存在污染，则转移晶片以通过污染物去除装置去除污染物。

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