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    • 64. 发明公开
    • 박막 트랜지스터 기판, 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
    • 薄膜晶体管基板,显示器件和制造显示器件的方法
    • KR1020150043803A
    • 2015-04-23
    • KR1020130122664
    • 2013-10-15
    • 삼성디스플레이 주식회사
    • 김재식
    • G02F1/136H01L29/786
    • H01L27/3276H01L29/66969H01L29/78606H01L29/7869H01L51/0017H01L51/0021H01L51/0545H01L51/107H01L27/1248H01L27/1225H01L27/3248H01L27/3258H01L27/3262
    • 박막트랜지스터기판은게이트전극, 게이트절연층, 액티브패턴, 식각저지막패턴, 소스전극, 드레인전극및, 무기배리어막및 평탄화층을포함한다. 게이트전극은베이스기판상에배치된다. 게이트절연층은베이스기판상에배치되어게이트전극을커버한다. 액티브패턴은게이트절연층상에배치되어게이트전극과중첩된다. 식각저지막패턴은액티브패턴상에배치되어액티브패턴을부분적으로노출시킨다. 소스전극및 드레인전극은노출된액티브패턴의일부와접촉하며게이트전극의양 단부와부분적으로중첩된다. 무기배리어막은소스전극, 드레인전극및 식각저지막패턴상에배치되어액티브패턴과접촉한다. 평탄화층은배리어막상에배치된다. 무기배리어막에의해전극들사이의중첩면적이감소되고액티브패턴이보호될수 있다.
    • 薄膜晶体管基板包括栅电极,栅极绝缘层,有源图案,蚀刻停止层图案,源电极,漏电极,无机阻挡层和平坦化层。 栅极布置在基底上。 栅极绝缘层位于基底基板上以覆盖栅电极。 有源图案放置在栅极绝缘层上,与栅电极重叠。 蚀刻停止层图案布置在活动图案上,其部分地暴露活性图案。 源电极和漏电极部分地与露出的有源图案的一部分接触,并与栅电极的两端重叠。 无机阻挡层设置在源电极,漏电极和蚀刻停止层图案上,接触有源图案。 平坦化层布置在阻挡层上。 因此,通过无机阻挡层减少电极之间的重叠区域,并且可以保护活性图案。