专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

61. 发明公开

KR1019970030406A 반도체 제조 장치의 자동 냉매 공급 장치 无效
标题翻译：半导体制造装置的自动制冷剂供给装置
公开(公告)号：KR1019970030406A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950042864
申请日：1995-11-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박동수 , 오재영 , 김태욱 , 박진호
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본 발명은 반도체 제조 장치의 웨이퍼 가공을 위한 드라이 에칭공정에 있어서, 상기 공정을 진행하기 위하여 필수적으로 마련되는 기초 설비의 하나의 칠러(CHILLER)에 냉매를 공급하는 장치에 관한 것으로, 특히 N
2 레벨 센서의 N
2 압력 차이에 의하여 칠러내의 냉매 수위를 항상 일정하게 유지토록 하는 개선된 반도체 제조 방치의 자동 냉매 공급장치에 관한 것으로 반도체 웨이퍼의 드라이 에칭용 칠러에 있어서, 상기 칠러의 냉매수위를 검출하도록 설치된 검출 수단과, 상기 검출 수단에 의해 온/오프 작동될 수 있는 스위치 수단 및 상기 스위치 수단에 의해 냉매 공급용 밸브를 개/폐하는 솔레노이드 밸브를 구비하여 칠러에 냉매가 자동으로 공급되게 함을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 자동 냉매 공급 장치.

62. 发明公开

KR1019970030208A 반도체 제조의 유해가스 제거 장치 无效
标题翻译：从半导体制造中去除有害气体的设备
公开(公告)号：KR1019970030208A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950041914
申请日：1995-11-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 노수광 , 오재영 , 장호선 , 박진호
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼의 건식 식각(DRY ETCHING) 설비에 있어서, 식각기(ETCHING SPECIES)로 사용되는 유해 가스(TOXIC GAS)의 발생된 흄(FUME)이 설비 내에서 발생과 동시에 제거되도록 한 유해 가스 제거장치에 관한 것으로, 특히 건식 식각 설비 내에 가스 분출 수단인 블로워(BLOWER)와 배출 수단으로 흡기관(VACUUM EXHAUST)을 설치하여 효과적으로 발생된 가스의 제거가 가능한 반도체 제조의 유해 가스 제거장치에 관한 것으로 웨이퍼 이송시에 유출되는 가스가 설비 표면 및 대기와 반응하지 못하도록 설치된 가스 분출 수단과, 상기 가스 분출 수단에 의해 분출된 가스가 흡수되어 배출될 수 있도록 배출 수단을 구비하여 건식 식각의 잔유 가스 유출이 억제됨을 특징으로 하는 반도체 제조의 유해 가스 제거 장치.

63. 发明公开

KR1019970023776A 반도체 식각공정의 가스분사기구 失效
公开(公告)号：KR1019970023776A
公开(公告)日：1997-05-30
申请号：KR1019950034557
申请日：1995-10-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오재영 , 정석용 , 김한성 , 박진호
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 중앙부에 공정가스가 분사되는 다수의 분사구멍이 형성되고, 가장자리부에는 가스분사장치에 고정하기 위한 보울트 구멍이 형성되며, 상기 보울트 구멍으로 관통되는 보울트의 머리가 삽입되는 보울트머리홈이 가스분사면측에 형성된 반도체 식각공정의 가스분사기구에 관한 것으로, 상기 보울트 머리가 삽입되는 보울트머리홈을 분사면의 반대면측에도 형성하여 가스분사기구를 반대로 뒤집어 가스분사장치에 고정할 수 있도록 구성된 것이다.
따라서 반복적인 식각공정으로 분사면이 식각되어 사용할 수 없게 되면, 반대로 뒤집어 사용할 수 있게 되므로 수명을 2배로 연장할 수 있는 효과가 있다.

64. 实用新型

KR2019970016569U 잉크제트 프린터의 헤드 청소 장치 无效
标题翻译：喷墨打印机头部清洁装置
公开(公告)号：KR2019970016569U
公开(公告)日：1997-05-23
申请号：KR2019950029095
申请日：1995-10-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박진호
IPC分类号： B41J29/17
摘要： 본고안은와이퍼를다수개로구성하는동시에헤드의이동방향과반대방으로이동되도록하므로서, 헤드의이동거리를줄여서프린터의소형화에도움을주면서서어비스영역으로헤드의 1회이동시작동시켜헤드의노즐을다수개의와이퍼로순차적으로수회연속하여정확하게닦아서청소능력을향상시키도록안출한잉크제트프린터의헤드청소장치에관한것으로, 캐리지에장착되어캐리지와함께이동하면서일정형태를갖추어잉크를분사하도록노즐(11)이설치된헤드(10)와, 인쇄시일정한주기에크리닝신호에따라서어비스영역으로헤드(10)의 1회이동시헤드(10)의노출면을순차적으로수 회연속하여닦아주도록다수개의와이퍼날(21)을일정한간격으로형성하여탄력있게휘어지도록하는와이퍼(20)와, 서어비스영역으로이동하는헤드(10)의이동방향과반대방향으로와이퍼(20)를수평이동시켜헤드(10)의이동거리를줄이도록하는와이퍼구동부(30)로구성하며상기와이퍼구동부(30)는, 와이퍼(20)를수평방향으로이동되게안내하는케이스(40)의가이드(41)와, 와이퍼(20)의저면에길이방향으로형성되는와이퍼랙(22)과, 케이스(40)의바닥면에헤드(10)의이동방향으로슬라이딩하도록설치되는작동랙(31)과, 작동랙(31)의일측에상방으로일체로돌출시켜서어비스영역으로헤드(10)의이동시동일한방향으로작동랙(31)을밀어주도록하는작동레버(32)와, 케이스(40)와작동랙(31)을연결하여헤드(10)의인쇄영역으로이동시탄력있게원상복귀시키는탄력부재(33)와, 와이퍼랙(22)과작동랙(31)사이에위치되어상호맞물리도록케이스(40)에굴대설치한뒤 작동랙(31)의슬라이딩시작동랙(31)의이동방향과반대방향으로와이퍼랙(22)을수평이동시키는피니언기어(34)로구성한다.

65. 发明公开

KR1019970018317A 웨이퍼 운반대 无效
标题翻译：晶圆载体
公开(公告)号：KR1019970018317A
公开(公告)日：1997-04-30
申请号：KR1019950031664
申请日：1995-09-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오재영 , 정석용 , 김한성 , 박진호
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 본 발명은 웨이퍼 운반대에 관해 게시한다. 종래의 웨이퍼 운반대는 그 모서리가 각이 지고 또 웨이퍼 운반대의 윗면이 미끄러워 웨이퍼의 모서리 깨짐을 유발할 수 있다. 그러나 본 발명은 웨이퍼 운반대의 모서리를 둥글게하여 웨이퍼와 충돌시 웨이퍼의 모서리가 깨어지는 것을 방지하며, 상기 웨이퍼 운반대의 윗면의 가이드 안쪽에 패드를 구비하여 이동시 웨이퍼가 미끄러지지 않게 함으로 후속 공정에서 발생하는 웨이퍼 깨짐을 예방할 수가 있다.

66. 实用新型

KR2019970012416U 잉크젯 프린터의 페이퍼잼 제거 장치 无效
标题翻译：喷墨打印机的卡纸清除装置
公开(公告)号：KR2019970012416U
公开(公告)日：1997-04-25
申请号：KR2019950024997
申请日：1995-09-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박진호
IPC分类号： B41J13/00
摘要： 본고안은잉크젯프린터에있어인쇄중또는용지이동중에발생되는페이퍼잼을보다신속하고간편하게제거시킬수 있도록하려는목적으로안출된장치에관한것으로서, 고정축(7)을중심으로회동되는회전구(6)의레버(6a)를당기면스톱퍼(6b)가로울러가이드(3)의제낌턱부(3b)를밀어제낌으로써상기로울러가이드(3)가가이드축(2)을중심으로회전되어피동로울러(1)로부터압지로울러(4)가멀리떨어지도록상승이동됨에따라형성되게되는틈새로걸려있는용지(P)를쉽게빼내어제거시킬수 있도록이루어지게한 것이다.

67. 发明公开

KR1019960005922A 웨이퍼 운반장치 및 운반장치 제조방법 失效
标题翻译：晶圆输送装置和载体装置的制造方法
公开(公告)号：KR1019960005922A
公开(公告)日：1996-02-23
申请号：KR1019940016647
申请日：1994-07-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최선용 , 유근홍 , 박진호
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 웨이퍼 운반장치 및 운반장치 제조방법이 개시되어 있다. 웨이퍼 운반장치 (transfer arm)의 끝부분에 해당하는 웨이퍼 운반대(transfer blade)에 있어서, 운반대의 측면 및 평면 모서리가 둥근것을 특징으로 하는 웨이퍼 운반장치를 제공하고, 상기 운반대 제조에 있어서, 상기 운반대의 모서리를 연마시켜 제조하는 웨이퍼 운반장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 의한 둥근 모양의 측면 및 평면 모서리를 갖는 운반대와 상기 운반대의 모서리를 연마시켜 운반대를 웨이퍼 운반장치를 제조하면, 종래 발생되던 모서리 깨짐 현상을 감소 시킬 수 있다.

68. 发明公开

KR1020160095913A 엑스선 촬영 장치 및 그 제어 방법 审中-实审
标题翻译： X射线成像装置及其控制方法
公开(公告)号：KR1020160095913A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：KR1020150017502
申请日：2015-02-04
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 곽호성 , 박진호 , 김승훈
IPC分类号： A61B6/10 , A61B6/02 , G05D1/10
CPC分类号： A61B6/54 , A61B6/10 , A61B6/467 , A61B6/589 , A61B6/102 , A61B6/02 , G05D1/10
摘要： 엑스선촬영장치및 그제어방법에대한발명으로, 엑스선소스의이동경로상에서장애물을회피하는경로를자동으로설정하거나, 사용자가간단한조작을통하여수동으로설정함으로써효율적인엑스선촬영시스템을제공하는것을목적으로하는기술이다. 일실시예에따른엑스선촬영장치는, 이동가능하도록마련된엑스선소스, 엑스선소스의이동영역에대한제어명령을입력받는조작부, 입력된제어명령에기초한이동영역내에서엑스선소스가이동하도록엑스선소스의이동을제어하는프로세서를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种X射线摄像装置及其控制方法。本发明的目的是提供一种有效的X射线成像系统，其中用于避免X射线源的移动路径上的障碍物的路径被自动配置或者由用户通过简单的操作来手动配置。根据本发明的实施例的X射线成像装置包括：被设置为能够移动的x射线源; 操作部，其接收所述X射线源的移动区域的控制命令; 以及处理器，用于控制x射线源的移动，使得x射线源可以基于接收到的控制命令在移动区域中移动。

69. 发明公开

KR1020150142812A 렌즈 왜곡 보정 장치 및 이를 포함하는 애플리케이션 프로세서 审中-实审
标题翻译：镜头失真校正装置及其应用处理器
公开(公告)号：KR1020150142812A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：KR1020140071040
申请日：2014-06-11
申请人： 삼성전자주식회사 , 중앙대학교 산학협력단
发明人： 백병준 , 백준기 , 김태찬 , 김동균 , 박진호
IPC分类号： H04N5/217 , H04N5/225
CPC分类号： H04N5/3572 , G06K9/46 , G06K9/522 , G06K2009/4666 , G06T5/003 , G06T5/006 , G06T5/20 , H04N5/2173
摘要： 본발명의하나의실시형태에따른렌즈왜곡보정장치(lens distortion correction device)는왜곡된이미지(distorted image)를비왜곡된이미지(undistorted image)로보정하는왜곡보정부(distortion correction unit) 및상기왜곡된이미지의고주파성분을이용하여상기비왜곡된이미지를향상시키는이미지향상부(image enhancement unit)를포함한다.
摘要翻译：本发明的实施例涉及一种镜头失真校正装置，其包括：失真校正单元，用于将失真图像校正为未失真图像; 以及使用失真图像的高频分量来增强未失真图像的图像增强单元。

70. 发明授权

KR101541779B1 반도체 소자 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：半导体装置及其制造方法
公开(公告)号：KR101541779B1
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020090003566
申请日：2009-01-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박진호 , 최길현 , 박병률 , 이종명 , 최중선 , 정혜경
IPC分类号： H01L21/3205
CPC分类号： H01L21/76846 , H01L21/28562 , H01L21/76856 , H01L23/53223 , H01L23/53238 , H01L23/53252 , H01L27/10855 , H01L27/11521 , H01L27/11524 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 접촉저항을개선한반도체장치및 이의제조방법이개시된다. 다수의하부도전성구조물이배치된기판개구를구비하는절연막을형성하고, 개구의내측면을따라위치하고제1 금속성물질보다제1 환원성물질의조성이우세한제1 금속질화막및 제2 환원성물질보다제2 금속성물질의조성이우세한제2 금속질화막을구비하는장벽층을형성한다. 장벽층으로한정된개구의내부에배치되는접속체를형성한후, 접속체를통하여하부도전성구조물과전기적으로접촉하는상부도전성구조물을형성한다. 하부도전성구조물에대한열 손상을최소화하고전자천이를줄일수 있다.
摘要翻译：公开了一种改善了接触电阻的半导体器件及其制造方法。形成具有其中设置有多个下导电结构的基板开口的绝缘膜，形成沿开口的内表面定位且具有比第一金属材料的组分更高的第一还原材料的第一金属氮化物膜，形成具有主要由金属材料组成的第二金属氮化物膜的阻挡层。在形成布置在由阻挡层限定的开口内的接触之后，形成上导电结构，其通过接触与下面的导电结构电接触。对下面的导电结构的热损伤可以被最小化并且可以减少电子跃迁。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式