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51. 发明公开

KR1020060086145A 자기부상척 및 그 이용 방법 无效
标题翻译：磁力捕获和使用方法相同
公开(公告)号：KR1020060086145A
公开(公告)日：2006-07-31
申请号：KR1020050007070
申请日：2005-01-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 윤종우
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/683 , G03F7/70733 , G03F7/70875
摘要： 노광 공정에서 웨이퍼의 초점 불일치 현상을 방지하는 자기부상척 및 그 이용 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 자기부상척은 바디, 바디의 내측벽에 위치하고, 웨이퍼를 지지하며, 전자석을 포함하는 지지블럭 및 바디의 하부에 위치하며 전자석과 대응하여 웨이퍼를 부상시키는 초전도체 플레이트를 포함한다.
자기부상, 초전도, 초점 불일치

52. 发明公开

KR1020060078951A 웨이퍼 냉각기를 구비한 노광장치 无效
标题翻译：具有冷却器的外观设备
公开(公告)号：KR1020060078951A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：KR1020040118206
申请日：2004-12-31
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F9/7096
摘要： 본 발명은 반도체 노광장치에서 웨이퍼에 대한 노광을 실시하기 전에 웨이퍼의 노치를 정렬하는 웨이퍼 정렬장치에 웨이퍼의 온도를 안정화시킬 수 있는 웨이퍼 냉각기를 구비한 노광장치에 관한 것으로, 트랙에서 스캐너로 반출된 웨이퍼의 노치를 정렬하기 위해 웨이퍼가 스테이지에 로딩되는 노치정렬부를 포함하여 이루어진 노광장치에 있어서, 상기 노치정렬부에는 웨이퍼에 공기를 송풍시키기 위한 냉각기가 설치되고, 상기 냉각기에 공기를 공급하는 공기공급부를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 함으로써, 웨이퍼의 미스 얼라인먼트 및 그로 인한 오버레이 미스를 방지하여 수율을 향상시킬수 있는 웨이퍼 냉각기를 구비한 노광장치에 관한 것이다.
스캐너, 노치정렬, 냉각기

53. 发明公开

KR1020060056101A 스피너-스테퍼 시스템 无效
标题翻译：微调步进系统
公开(公告)号：KR1020060056101A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：KR1020040095380
申请日：2004-11-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오성식
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7075 , G03F7/70875
摘要： 스피너-스테퍼 시스템이 제공된다. 상기 스피너-스테퍼 시스템은 웨이퍼 상에 코팅 및 현상공정을 수행하는 스피너 및 상기 스피너와 일정한 간격을 두고 배치된 노광장치를 구비한다. 상기 노광장치와 상기 스피너 사이에 입출력장치가 배치된다. 상기 입출력장치 내에는 가열/방열장치, 출력 대기 장치 및 적어도 하나의 엘리베이터가 배치된다. 상기 가열/방열장치를 상기 입출력장치 내에 배치함으로서 상기 스피너-스테퍼 시스템이 클린룸(clean room)내에서 점유하는 공간을 축소할 수 있다. 이에 더하여, 상기 웨이퍼의 이동경로 및 이송시간을 단축할 수 있다.

54. 发明公开

KR1020060050451A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR1020060050451A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050074411
申请日：2005-08-12
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 카데테오도루스페트루스마리아 , 야콥스요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 텐카테니콜라스 , 루프스트라에릭로엘로프 , 반메르아쉬빈로데비요크헨드리쿠스요한네스 , 메르텐스예뢴요한네스소피아마리아 , 데몰크리스티아누스게라르두스마리아 , 무이트옌스마르첼요한누스엘리자베스후베르투스 , 반데르네트안토니우스요한누스 , 오텐스유스트예뢴 , 콰에다커스요한네스안나 , 로이만-후이스켄마리아엘자베스 , 슈타벤가마르코코에르트 , 틴네만스파트리시우스알로이시우스야코부스 , 베르하겐마르티누스코르넬리스마리아 , 베어스파이요야코부스요한누스레오나르두스헨드리쿠스 , 데종프레데릭에두아르트 , 구르만코엔 , 멘치트치코프보리스 , 붐헤어만 , 니흐티아노프스토얀 , 모에르만리하르트 , 슈메츠마르틴프랑스피에르 , 슌더마르크바르트레오나르트페터 , 얀센프란시스쿠스요한네스요제프 , 리펜미첼
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875 , H01L21/0274
摘要： 본 발명에 따른 리소그래피 장치는, 방사선 빔을 콘디셔닝하도록 구성된 조명시스템; 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사선 빔을 형성시킬 수 있는 패터닝장치를 지지하도록 구성된 지지부; 기판을 유지하도록 구성된 기판테이블; 상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하도록 구성된 투영시스템; 상기 투영시스템의 최종 요소와 상기 기판 사이의 공간을 적어도 부분적으로 액체로 충전시키도록 구성된 액체 공급 시스템; 상기 투영시스템의 최종 요소와 상기 기판 사이의 상기 공간내에 실질적으로 상기 액체를 한정하도록 구성된 시일 부재; 및 상기 기판으로부터의 침지 액체의 증발을 제어 및/또는 보상하기 위한 요소들을 포함한다.

55. 发明公开

KR1020060049138A 기판을 지지하거나 및/또는 열적으로 콘디셔닝하는 장치,방법, 지지테이블 및 척 有权
标题翻译：装置，用于支撑和/或热调制基板的方法，支撑台和卡盘
公开(公告)号：KR1020060049138A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：KR1020050099822
申请日：2005-10-21
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 메르텐스예뢴요한네스소피아마리아 , 반메르아쉬빈로데비요크헨드리쿠스요한네스 , 오텐스유스트예뢴 , 반곰펠에드빈아우구스티누스마테우스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67109 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要： 본 발명에서는, 기판을 지지하는 지지테이블을 포함하는 장치에 대해 개시된다. 지지테이블은 기판을 지지하기 위하여 사용시 상기 기판과 접촉하는 복수의 지지 돌출부들을 포함한다. 상기 지지테이블은 기판이 상기 지지 돌출부들에 의해 지지되는 경우 상기 기판과 접촉하지 않고 사용시 상기 기판을 향하여 연장되는 복수의 열 전달 돌출부를 포함한다. 상기 기판과 열을 교환하기 위한 가스-포함 열 교환 갭들은 상기 열 전달 돌출부들과 상기 기판 사이에서 연장된다.

56. 发明公开

KR1020060047974A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR1020060047974A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：KR1020050041315
申请日：2005-05-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 스트리프케르크밥 , 돈더스쇼에르트니콜라스람베르투스 , 루프스트라에릭로엘로프 , 물켄스요한네스카타리누스후베르투스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , B05C9/12 , G03F7/70341 , G03F7/70991 , G03F7/2041 , H01L21/67034
摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a liquid supply system (LSS) provides an immersion liquid between a final element of the projection system (PL) and the substrate (W). An active drying station (ADS) is provided for actively removing immersion liquid from the substrate (W) or other objects after immersion of the substrate.

57. 发明公开

KR1020060018612A 웨이퍼 얼라인먼트 장치 无效
标题翻译： WAFER对齐单元
公开(公告)号：KR1020060018612A
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：KR1020040067083
申请日：2004-08-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍석종
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/681 , G03F7/70875 , H01L21/67248
摘要： 온도 센서를 장착한 미러 유닛을 구비한 웨이퍼 얼라인먼트 장치를 개시한다. 광학계를 통하여 웨이퍼를 얼라인먼트 하는 본 발명에 의한 웨이퍼 얼라인먼트 장치는 웨이퍼가 놓이는 웨이퍼 스테이지와 상기 웨이퍼 스테이지의 각 축에 장착되어 레이저빔을 반사시키는 미러 유닛과 상기 미러 유닛에 미러 유닛의 온도를 측정하는 온도 센서를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 따라서 작업자가 미러 유닛의 온도를 관측하여 미러 플랫니스(mirror flatness)계측 및 보정을 진행하게 되고, 그에 따라 웨이퍼를 얼라인먼트 함으로써 웨이퍼의 위치를 정확하게 계측하게 되고 정확한 얼라인먼트를 할 수 있게된다.

웨이퍼 얼라인먼트, 미러 유닛, 온도 센서

58. 发明公开

KR1020050105364A 근접 측정 장치를 갖는 반도체 제조 설비 및 그 구동방법 无效
标题翻译：具有近似检测装置的半导体制造装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020050105364A
公开(公告)日：2005-11-04
申请号：KR1020040030471
申请日：2004-04-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 권일형
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7011 , G03F7/7085 , G03F7/70875
摘要： 프리얼라인 기능을 향상시킬 수 있는 반도체 제조 설비 및 그 구동방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 반도체 제조 설비는, 노광 공정을 진행하기 전에 웨이퍼를 사전 정렬하는 프리얼라인 장치로서, 웨이퍼가 안착되는 중심 척을 포함하는 TSU(Temperature stabilization unit), 상기 TSU상에 다수개가 배치되어 상기 웨이퍼와 TSU 사이의 간격을 유지시키는 진공 및 압축공기 제공부, 및 상기 TSU 내부에 설치되며, 상기 웨이퍼와 TSU 사이의 거리를 감지하는 근접 센서를 포함한다.

59. 发明公开

KR1020050065391A 리소그래피 공정 시 웨이퍼 열 변형의 최적화된 보정 失效
标题翻译：在光刻过程中优化的热变形的校正
公开(公告)号：KR1020050065391A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：KR1020040111188
申请日：2004-12-23
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 오텐스요스트예뢴 , 판데르슈트하르멘클라스 , 슈타레펠트예뢴피터 , 마스보우테루스요한네스페트루스마리아 , 베네마빌렘유리아누스 , 멘치트치코프보리스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70616 , G03F7/70783 , G03F7/70875 , G03F7/70558
摘要： 리소그래피적으로(lithographically) 노광된 기판의 열-유도 필드 변형들을 보정하는 방법 및 장치가 본 명세서에 제시된다. 일 실시예에서, 상기 방법은, 미리-특정된 노광 정보에 따라 기판의 복수의 필드상에 패턴을 노광하는 단계 및 노광 프로세스의 열 영향들에 의해 유도된 상기 필드들의 변형을 평가하도록 상기 필드들의 속성들을 측정하는 단계를 포함한다. 상기 방법은, 측정된 속성들에 기초하여 보정 정보를 결정하는 단계, 및 상기 열-유도 필드 변형들을 보상하도록 상기 보정 정보에 기초하여 미리-특정된 노광 정보를 조정하는 단계를 더 포함한다.
다른 실시예들은, 필드들상의 열-유도 영향들을 예측하는 예측 모델 및 기판에 걸친 온도 변화들을 결정하는 서모그래픽 이미징의 사용을 포함한다.

60. 发明公开

KR1020040063326A 펠티어 효과를 이용한 섀도우 마스크 온도 조절 장치 및방법 失效
标题翻译：使用PELTIER效果的阴影掩模的温度控制单元及其控制方法
公开(公告)号：KR1020040063326A
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：KR1020030000702
申请日：2003-01-07
申请人： (주)아비츠 커뮤니케이션즈
发明人： 손민수
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： G03F7/70875 , C23C14/042 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要： PURPOSE: A temperature control unit of a shadow mask using a Peltier effect and a method for controlling the same are provided to cool effectively a local area by selecting a cooling method using the Peltier effect. CONSTITUTION: A temperature control unit of a shadow mask using a Peltier effect includes a main power supply, a cooling module, a shadow mask holder, and a sink tank. The main power supply is used for supplying the power to the cooling module. The cooling module is used for receiving the power from the power supply by using the Peltier effect. The shadow mask holder is close to one side of the cooling module. The sink tank is used for removing the heat from the cooling module.
摘要翻译：目的：提供使用珀耳帖效应的荫罩的温度控制单元及其控制方法，通过选择使用珀尔帖效应的冷却方法来有效地冷却局部区域。构成：使用珀尔帖效应的荫罩的温度控制单元包括主电源，冷却模块，荫罩支架和水槽。主电源用于向冷却模块供电。冷却模块用于通过使用珀耳帖效应从电源接收电力。荫罩座靠近冷却模块的一侧。水槽用于从冷却模块中除去热量。

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