专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR100587910B1 레티클 로테이션 방법 및 장치 失效
标题翻译：光罩旋转方法和装置
公开(公告)号：KR100587910B1
公开(公告)日：2006-06-09
申请号：KR1020040114249
申请日：2004-12-28
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027

2. 发明授权

KR100777588B1 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치 失效
标题翻译：曝光半导体制造设备的照明系统
公开(公告)号：KR100777588B1
公开(公告)日：2007-11-16
申请号：KR1020050125084
申请日：2005-12-19
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조를 위한 포토리소그래피 공정의 웨이퍼에 노광 공정을 진행하는 스텝퍼 장비의 조명 장치에서 고감도 감광제를 사용하여 노광을 하는 경우 최소의 노출 시간으로 노광을 진행하여 장비 처리속도를 향상시킬 수 있는 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치에 관한 것이다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치는 고감도 감광제를 사용하여 반도체를 제조하기 위해 램프, 반사경, 셔터, 인풋 렌즈, 필터 유닛, 플라이즈아이 렌즈, 레티클 블라인드, 릴레이 렌즈, 반사경, 콘덴서 렌즈, 레티클, 프로젝션 렌즈를 순차로 배열하여 이루어진 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치에 있어서, 상기 필터 유닛을 다수개 설치함과 아울러 하나의 필터 유닛의 광 필터와 다른 하나의 필터 유닛의 광 필터를 겹치게 배열하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치에 의하면 필터 유닛을 다수개 구비함으로써 고감도 감광제를 사용하여 노광을 하는 경우 최소의 노출 시간으로 노광을 진행하여 장비 처리속도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
노광 장비, 조명 장치, 필터 유닛, 고감도 감광제

3. 发明公开

KR1020070064707A 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치 失效
标题翻译：用于半导体制造的曝光设备照明系统
公开(公告)号：KR1020070064707A
公开(公告)日：2007-06-22
申请号：KR1020050125084
申请日：2005-12-19
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： An illumination device for exposure equipment for fabricating a semiconductor device is provided to improve a processing speed of the equipment by performing the exposure for minimum exposing time using plural filter units. A filter unit includes plural optical filters(51) having different transmittance, a body(52) supporting the optical filters, and driving unit(53) rotating the body. The body is rotated by the driving unit to conveniently select the optical filters according to necessary exposure. Two optical filters are combined by arranging an optical filter of one filter unit and an optical filter of another filter unit in an overlapped relation to select various illuminations.
摘要翻译：提供了一种用于制造半导体器件的曝光设备的照明装置，以通过使用多个滤光单元执行最小曝光时间的曝光来提高设备的处理速度。过滤器单元包括具有不同透光率的多个滤光器（51），支撑滤光器的本体（52）和旋转主体的驱动单元（53）。主体由驱动单元旋转，以便根据必要的曝光方便地选择滤光片。通过以一个重叠关系布置一个滤光器单元的滤光器和另一个滤光单元的滤光片来组合两个滤光片，以选择各种照明。

4. 发明授权

KR100620170B1 노광장치의 조명계 失效
标题翻译：曝光装置照明系统
公开(公告)号：KR100620170B1
公开(公告)日：2006-09-01
申请号：KR1020020086386
申请日：2002-12-30
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 노광장치의 조명계에 관한 것으로서, 광원(110)으로부터 투사된 빔을 빔위치 조정용 미러(150)의 조작에 의해 빔 위치를 조정하여 투영렌즈(130)를 통해 웨이퍼 스테이지(140)상에 위치한 웨이퍼로 투사하는 노광장치의 조명계(100)에 있어서, 빔위치 조정용 미러(150)의 일측에 회전축(161a)이 수평되게 결합되는 제 1 스텝모터(161)와; 제 1 스텝모터(161)의 몸체(161b)에 회전축(162a)이 수평되게 직교하도록 결합되며, 일정 위치에 고정되는 제 2 스텝모터(162)와; 투영렌즈(130)를 통과한 빔이 노광에 필요한 최대 에너지와 유니포미티를 가질 때 웨이퍼 스테이지(140)의 일측으로 투사되는 위치에 중심이 일치하도록 설치되며, 중심을 지나는 X축 및 Y축상에 투영렌즈(130)를 통과하여 투사된 빔의 영역을 이미지화하여 신호로 출력하는 TDI 센서(180)와; TDI 센서(180)로부터 출력되는 신호로부터 투영렌즈(130)를 통과하여 투사됨 빔의 영역 중심이 X축과 Y축상의 교차점에 일치하도록 제 1 및 제 2 스텝모터(161,162)를 구동하는 유니포미티 콘트롤러(190)를 포함하는 것으로서, 노광공정을 위해 투사되는 빔이 최대 에너지와 유니포미티를 획득할 수 있도록 빔의 위치를 정확하고도 용이하게 자동으로 조정되도록 함으로써 웨이퍼 패턴의 불량을 감소시켜 웨이퍼의 수율을 향상시키는 효과를 가지고 있다.

5. 发明公开

KR1020050069527A 레티클 반송장치 失效
标题翻译：反转传送装置
公开(公告)号：KR1020050069527A
公开(公告)日：2005-07-05
申请号：KR1020030101669
申请日：2003-12-31
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 레티클 반송장치에 관한 것으로, 반송암에 레티클의 위치를 고정하는 지지대와 푸셔를 설치함으로써, 레크클을 보다 안전하게 이송하면서, 동시에 정렬이 이루어져 상기 레티클의 로딩 및 언로딩 시간이 단축되도록 한 것이다.
본 발명은, 반송암의 포크부에는 레티클의 위치를 고정시키기 위한 지지대가 서로 이격된 상태로 각각 설치되어 있고, 상기 반송암의 포크와 목부의 내측면에는 놓여진 레티클의 얼라이먼트를 위하여 하나 이상의 푸셔가 설치된 레티클 반송장치가 제공된다.

6. 发明授权

KR100852092B1 레티클 반송장치 失效
标题翻译：标线转印装置
公开(公告)号：KR100852092B1
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：KR1020030101669
申请日：2003-12-31
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 레티클 반송장치에 관한 것으로, 반송암에 레티클의 위치를 고정하는 지지대와 푸셔를 설치함으로써, 레크클을 보다 안전하게 이송하면서, 동시에 정렬이 이루어져 상기 레티클의 로딩 및 언로딩 시간이 단축되도록 한 것이다.
본 발명은, 반송암의 포크부에는 레티클의 위치를 고정시키기 위한 지지대가 서로 이격된 상태로 각각 설치되어 있고, 상기 반송암의 포크와 목부의 내측면에는 놓여진 레티클의 얼라이먼트를 위하여 하나 이상의 푸셔가 설치된 레티클 반송장치가 제공된다.

레티클, 반송, 얼라이먼트, 암, 지지, 포크, 노광, 소자, 제조

7. 发明授权

KR100664791B1 스텝퍼의 웨이퍼 트랜스퍼 失效
标题翻译：一台步进器的转移
公开(公告)号：KR100664791B1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：KR1020020086379
申请日：2002-12-30
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥 , 길풍기
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 스텝퍼의 웨이퍼 트랜스퍼에 관한 것으로서, 블레이드(140)에 의해 디스차지 스테이지(6; 도 1에 도시)로부터 로컬 진행용 반출포트(4)의 웨이퍼카세트(4a)로 이송되는 웨이퍼(W) 일측의 이동경로상에 서로 일정 간격을 가지도록 설치되는 제 1 및 제 2 감지부(161,162)로 이루어지고, 제 2 감지부(162)는 제 1 감지부(161)에 비해 로컬 진행용 반출포트(4)에 인접하도록 설치되며, 제 1 및 제 2 감지부(161,162) 각각은 이동경로의 상,하측에 각각 설치되어 이동경로를 향해 일정한 파장의 빛을 출력하는 발광소자(161,a,162a) 및 발광소자(161a,162a)로부터 출력되는 빛을 수신받아 웨이퍼감지신호를 출력하는 수광소자(161b,162b)로 이루어지는 감지부(160)와; 감지부(160)의 수광소자(161b,162b) 각각으로부터 출력되는 웨이퍼감지신호를 수신받아 제 2 감지부(162)의 수광소자(162b)로부터 출력되는 웨이퍼감지신호를 제 1 감지부(161)의 수광소자(161b)로부터 출력되는 웨이퍼감지신호에 비해 먼저 수신시 구동부(150)를 정지시키는 제어부(170)를 포함하는 것으로서, 웨이퍼 트랜스퍼가 웨이퍼를 디스차지 스테이지로부터 로컬 진행용 반출포트의 웨이퍼카세트로 이송시 블레이드가 웨이퍼카세트의 슬롯에 웨이퍼를 안착시키지 못하고 웨이퍼를 다시 들고 나와 로컬 진행용 반입포트의 웨이퍼카세트로 이동하여 웨이퍼와 충돌하여 웨이퍼가 파손되는 것을 방지하는 효과를 가지고 있다.

8. 发明公开

KR1020050063341A 반도체 노광장비 투영렌즈의 온도제어장치 无效
标题翻译：半导体曝光装置投影镜头温度控制装置
公开(公告)号：KR1020050063341A
公开(公告)日：2005-06-28
申请号：KR1020030094733
申请日：2003-12-22
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 반도체 노광장비 투영렌즈의 온도제어장치에 관한 것으로, 반도체 노광공정에 있어서, 마스크를 통과한 빛 이미지를 축소하여 웨이퍼에 조사하도록 하는 투영렌즈의 온도를 일정하게 유지하는 역할을 하는 온도조절유닛(TCU, Temperature Control Unit)이, 비정상적으로 다운되는 경우에도 일정시간 동안 이를 대신할 수 있는 냉각수보조공급부를 별도로 설치함으로써, 온도조절유닛의 다운시 투영렌즈의 온도가 변화하는 것을 방지할 수 있고 또한 온도조절유닛이 정상화된 후 투영렌즈가 안정화되는데 소요되는 시간을 감소시킬 수 있는 특징이 있다.

9. 发明公开

KR1020040059881A 노광장치의 조명계 失效
标题翻译：曝光装置照明系统
公开(公告)号：KR1020040059881A
公开(公告)日：2004-07-06
申请号：KR1020020086386
申请日：2002-12-30
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: An illumination system of an exposure apparatus is provided to obtain maximum energy and uniformity from a projected beam by controlling exactly a beam-position using the first and second step motor. CONSTITUTION: An illumination system of an exposure apparatus includes the first step motor(161), the second step motor(162), TDI(Time Delay Integration) sensor(180) and a uniformity controller(190). The first step motor is connected to a beam-position controlling mirror(150). The second step motor is connected to the first step motor. The TDI sensor is installed at a beam projected position of a wafer stage(140) to obtain maximum energy and uniformity necessary for an exposure from a projected beam and to output an image signal of the projected beam. The uniformity controller drives finely the first and second step motor to control the beam-position controlling mirror according to the image signal.
摘要翻译：目的：提供一种曝光装置的照明系统，通过使用第一和第二步进电机精确地控制光束位置，从投影光束获得最大的能量和均匀性。构成：曝光装置的照明系统包括第一步骤电动机（161），第二步进电动机（162），TDI（时间延迟积分）传感器（180）和均匀性控制器（190）。第一级马达连接到波束位置控制镜（150）。第二级马达连接到第一步马达。 TDI传感器安装在晶片台（140）的光束投影位置，以获得投影光束的曝光所需的最大能量和均匀性，并输出投影光束的图像信号。均匀性控制器精细地驱动第一和第二步进电动机，以根据图像信号控制光束位置控制反射镜。

10. 发明授权

KR100831266B1 반도체 노광 장치의 진동을 방지하기 위한 방법 失效
标题翻译：防止光刻设备振动的方法
公开(公告)号：KR100831266B1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：KR1020060137330
申请日：2006-12-29
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 반재옥
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/709
摘要： A method of preventing a semiconductor exposure device from being vibrated is provided to improve the uniformity of a pattern CD due to attenuation vibration of a mass damper for attenuating the vibration of a lens unit. A method of preventing a semiconductor exposure device from being vibrated comprises the following steps of: sensing vibration through a plurality of sensors(301,302,303,304,305) attached to a plurality of vibration positions in a semiconductor exposure device(100); receiving information about the vibration sensed by the plurality of sensors through a control unit(400) and generating control information for attenuating the vibration of a lens unit of the exposure device sensed by a sensor attached to a upper side of the lens unit among the plurality of vibration positions; and receiving the control information and attenuating vibration of the lens unit through a mass damper(200), being spaced apart from the sensor attached to a upper side of the lens unit and mounted on the lens unit.
摘要翻译：提供防止半导体曝光装置振动的方法，以改善由于用于衰减透镜单元的振动的质量阻尼器的衰减振动引起的图案CD的均匀性。防止半导体曝光装置振动的方法包括以下步骤：通过安装在半导体曝光装置（100）中的多个振动位置的多个传感器（301,302,303,304,305）感测振动; 通过控制单元（400）接收由多个传感器感测到的振动的信息，并产生用于衰减由安装在多个透镜单元的上侧的传感器感测到的曝光装置的透镜单元的振动的控制信息的振动位置; 并且通过与安装在透镜单元的上侧的传感器间隔开并安装在透镜单元上的质量阻尼器（200）接收控制信息并衰减透镜单元的振动。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式