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    • 60. 发明公开
    • 간접 밴드갭 반도체 구조 검사 방법 및 시스템
    • 用于检测间接带状半导体结构的方法和系统
    • KR1020130024954A
    • 2013-03-08
    • KR1020137001369
    • 2006-10-11
    • 비티 이미징 피티와이 리미티드
    • 토르스텐트룹케로버트앤드류바도스
    • H02S50/10G01N21/64
    • G01N21/6489F21Y2115/10G01N21/6456G01N21/8851G01N2021/8887H01L22/14
    • 본 발명은 간접 밴드갭 반도체 구조(140)를 검사하는 방법들(600) 및 시스템들(100)을 개시한다. 광원(110)은 간접 밴드갭 반도체 구조(140)에 광루미네센스를 유도하기에 적합한 광을 생성한다(612). 단파장 통과 필터부(114)는 특정 방사 최고값보다 큰 상기 생성된 광의 장파장 광을 감소시킨다. 시준기(112)는 빛을 시준한다(616). 간접 밴드갭 반도체 구조(140)의 넓은 영역은 상기 시준된 단파장 통과 필터링된 광에 의해 실질적으로 균일하면서도 동시에 조명된다(618). 영상 획득 소자(130)은 상기 간접 밴드갭 반도체 구조의 넓은 영역에 걸쳐 입사하는 상기 실질적 균일하면서 동시성을 갖는 조명에 의해 동시에 유도되는 광루미네센스의 영상들을 획득한다(620).광루미네센스 영상들은 영상 처리되어, 상기 넓은 영역에 유도되는 광루미네센스의 공간 변화들을 사용하여 간접 밴드갭 반도체 구조의 특정 전기적 특성들을 공간적으로 분석하여 수치화한다.
    • 描述了用于检查间接带隙半导体结构(140)的方法(600)和系统(100)。 光源(110)产生适于在间接带隙半导体结构(140)中诱导光致发光的光(612)。 短路滤波器单元(114)将产生的光的长波长光减少到特定发射峰以上。 准直器(112)准直(616)光。 间接带隙半导体结构(140)的大面积基本均匀地并且被同步地照射(618)并且被准直的短路滤波的光。 图像捕获装置(130)捕获(620)由间接带隙半导体结构的大面积上基本均匀的同时照射入射引起的光致发光图像。 对光致发光图像进行成像处理(622),以使用在大面积中诱导的光致发光的空间变化来量化间接带隙半导体结构(140)的空间分辨的特定电子特性。