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    • 32. 发明公开
    • 반응성 단량체, 이의 제조방법 및 이로부터 얻어진포지티브형 감광성 폴리이미드 전구체
    • 反应性单体,其制备方法和阳离子型光敏聚酰亚胺前体
    • KR1020090126370A
    • 2009-12-09
    • KR1020080052413
    • 2008-06-04
    • 주식회사 동진쎄미켐
    • 최성묵최중근최진욱
    • G03F7/039G03F7/037
    • G03F7/039C08G73/1017C08L79/08G03F7/0226G03F7/0233G03F7/0392G03F7/105H01L2924/01019
    • PURPOSE: A method for manufacturing a reactive monomer, and the reactive monomer manufactured by the method are provided to improve residual film rate remarkably and to allow a positive photosensitive polyimide precursor of the desired structure to be prepared easily. CONSTITUTION: A method for manufacturing a reactive monomer represented by the formula 1 comprises the steps of reacting a compound represented by the formula 2 with a compound represented by R1-OH; and reacting the obtained product with a compound represented by R2-X2 and a compound represented by R3-X3, wherein R1 is an aliphatic group of the carbon number 3 ~ 20 or a monovalent organic group containing at least one aromatic unsaturated double bond; R2 is a monovalent organic group containing at least one epoxy group of the carbon number 2 ~ 20; R3 is a 1,2-naphthoquinonediazide-4- sulfonyl group or a 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl group; X1 and X2 are independently Cl or Br; and X3 is Cl.
    • 目的:提供制造反应性单体的方法和通过该方法制备的反应性单体,以显着提高残留膜速率,并且容易地制备所需结构的正型光敏聚酰亚胺前体。 构成:由式1表示的反应性单体的制造方法包括使式2表示的化合物与由R 1 -OH表示的化合物反应的工序; 并使所得产物与由R 2 -X 2表示的化合物和由R3-X3表示的化合物反应,其中R 1为碳数3〜20的脂族基团或含有至少一个芳族不饱和双键的一价有机基团; R2是含有至少一个碳原子数2〜20的环氧基的一价有机基团; R3是1,2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰基或1,2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰基; X1和X2独立地为Cl或Br; 而X3是Cl。
    • 35. 发明公开
    • 감방사선성 수지 조성물, 절연막 및 유기 EL 표시 소자
    • 辐射敏感性树脂组合物,绝缘膜和有机EL显示元件
    • KR1020080104987A
    • 2008-12-03
    • KR1020080049445
    • 2008-05-28
    • 제이에스알 가부시끼가이샤
    • 아리또메,이사오시라끼,신지치바,다까시
    • G03F7/037G03F7/004
    • G03F7/037G03F7/004G03F7/0045G03F7/0047
    • A negative photosensitive resin composition for forming the insulating layer for an organic EL display device, and an organic EL display device using the composition are provided to improve heat resistance and to obtain the film hardness suitable for resisting against a resist stripper. A negative photosensitive resin composition for forming the insulating layer for an organic EL display device comprises a polyamide resin comprising the repeating units represented by the formulas 1 and 2 in a ratio of 1-49 mol% : 51-99 mol%; a photoacid generator; and a crosslinking agent having an alkoxyalkylated amino group, wherein R1 and R3 are a tetravalent aromatic or aliphatic hydrocarbon group; R2 is a divalent group having a hydroxyl group; and R4 id a divalent group having no hydroxyl group.
    • 提供用于形成有机EL显示装置的绝缘层的负型感光性树脂组合物和使用该组合物的有机EL显示装置,以提高耐热性并获得适于抵抗抗蚀剂剥离剂的膜硬度。 用于形成有机EL显示装置的绝缘层的负型感光性树脂组合物包括:含有由式1和2表示的重复单元的比例为1-49摩尔%:51-99摩尔%的聚酰胺树脂; 光致酸发生器; 和具有烷氧基烷基化氨基的交联剂,其中R 1和R 3是四价芳族或脂族烃基; R2是具有羟基的二价基团; R4代表没有羟基的二价基团。
    • 39. 发明授权
    • 감광성 폴리이미드 전구체 및 그 제조방법
    • 光敏聚酰亚胺前体及其制备方法
    • KR100242684B1
    • 2000-03-02
    • KR1019970077719
    • 1997-12-30
    • 학교법인 포항공과대학교
    • 이문호김경준표승문
    • G03F7/037
    • 본 발명은 감광성 폴리이미드 전구체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 상기 감광성 폴리이미드 전구체는 화학식 1로 표시된다.

      상기식중, R
      1 은 CH
      2 =C(R
      4 )-COO(CH
      2 )
      K -이고(여기에서, R
      4 는 수소 또는 알킬기이고, k는 1 내지 10의 수임), R
      2 는 하기 구조식으로 표시되고,

      상기식중, Y
      1 , Y
      2 , Y
      3 , Y
      4 , Y
      5 , Y
      6 , Y
      7 및 Y
      8 은 서로에 관계없이 수소, (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CH
      2 F, (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CHF
      2 또는 (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CF
      3 이고(단, m은 0 내지 1의 수이고, l은 0 내지 10의 수임), R
      3 은 탄소수 1 내지 20의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 30의 방향족 탄화수소이고, x/(x+y)=0.1∼1.0이다. 본 발명에 따른 감광성 폴리이미드 전구체는 종래의 폴리이미드 전구체에 비하여 감도가 개선될 뿐만 아니라, 이미드화 과정 전후로 수축율이 감소된다. 본 발명의 폴리이미드 전구체로부터 형성된 폴리이미드 절연막은 종래의 경우에 비하여 분해능 및 내구성이 개선될 뿐만 아니라, 유전상수, 열팽창계수 및 잔류응력이 낮고, 기계적 성질을 비롯한 물리적 특성이 우수하다.
    • 40. 发明公开
    • 감광성 폴리이미드 전구체 및 그 제조방법
    • 感光性聚酰亚胺前体及其制造方法
    • KR1019990057654A
    • 1999-07-15
    • KR1019970077719
    • 1997-12-30
    • 학교법인 포항공과대학교
    • 이문호김경준표승문
    • G03F7/037
    • 본 발명은 감광성 폴리이미드 전구체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 상기 감광성 폴리이미드 전구체는 화학식 1로 표시된다.

      상기식중, R
      1 은 CH
      2 =C(R
      4 )-COO(CH
      2 )
      K -이고(여기에서, R
      4 는 수소 또는 알킬기이고, k는 1 내지 10의 수임), R
      2 는 하기 구조식으로 표시되고,

      상기식중, Y
      1 , Y
      2 , Y
      3 , Y
      4 , Y
      5 , Y
      6 , Y
      7 및 Y
      8 은 서로에 관계없이 수소, (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CH
      2 F, (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CHF
      2 또는 (CH
      2 )
      m -(CF
      2 )
      l -CF
      3 이고(단, m은 0 내지 1의 수이고, l은 0 내지 10의 수임), R
      3 은 탄소수 1 내지 20의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 30의 방향족 탄화수소이고, x/(x+y)=0.1∼1.0이다. 본 발명에 따른 감광성 폴리이미드 전구체는 종래의 폴리이미드 전구체에 비하여 감도가 개선될 뿐만 아니라, 이미드화 과정 전후로 수축율이 감소된다. 본 발명의 폴리이미드 전구체로부터 형성된 폴리이미드 절연막은 종래의 경우에 비하여 분해능 및 내구성이 개선될 뿐만 아니라, 유전상수, 열팽창계수 및 잔류응력이 낮고, 기계적 성질을 비롯한 물리적 특성이 우수하다.