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21. 发明授权

KR101595394B1 조명 균일성 보정 및 균일성 드리프트 보상을 위한 리소그래피 장치 및 방법 有权
标题翻译：照相装置和照明均匀校正和均匀性补偿的方法
公开(公告)号：KR101595394B1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：KR1020130018911
申请日：2013-02-21
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
发明人： 짐머만,리차드칼 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 코처스퍼거,피터씨. , 다우니,토드알. , 스톤,엘리자베스 , 시스자르,질라드이스트반 , 쿠빅,프레데릭 , 블라디미르스키,올가
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133
摘要： 균일성보정시스템을포함한리소그래피장치가개시된다. 상기시스템은방사선빔의각 부분들의세기를보정하기위해방사선빔과의교차점내로, 및그 밖으로이동가능하도록구성된핑거들을포함한다. 또한, 상기시스템은핑거들중 대응하는핑거에커플링되고, 대응하는핑거들을이동시키도록구성된작동디바이스들을포함한다. 핑거들각각의선단의폭은작동디바이스들의폭의절반이다. 예를들어, 조명빔 이동, 광학기둥균일성, 균일성보상기드리프트등에의해야기된균일성드리프트를보상하는시스템및 방법이제공된다. 시스템드리프트에의해야기된조명슬릿균일성이측정된다. 균일성에기초하여, 균일성보상기들의제 1 개별위치들이결정된다. 제 1 개별위치들로균일성보상기들이이동된다. 기판이노광된다. 대안적으로, 또다른조명슬릿균일성이측정된다. 또다른조명슬릿균일성은타겟조명슬릿균일성과비교된다. 공차밖인경우, 또다른조명슬릿균일성에기초하여균일성보상기들의제 2 개별위치들이결정된다. 제 2 개별위치들로균일성보상기들이이동된다. 균일성보상기들이제 1 또는제 2 개별위치들에있는채로기판이노광된다. 일예시에서, 실시간시스템드리프트를보상하도록로트의각 기판사이에서이 방법이수행되어, 시스템성능을더 증가시킨다.

22. 发明授权

KR101592136B1 결상 광학 시스템 및 이러한 유형의 결상 광학 시스템을 갖는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치 有权
标题翻译：成像光学系统和投影曝光安装与这种类型的成像光学系统的微型计算
公开(公告)号：KR101592136B1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：KR1020147033292
申请日：2008-10-02
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 만,한스-위르겐
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/02 , G02B17/0652 , G03F7/70058 , G03F7/70225 , G03F7/70233 , G03F7/70275
摘要： 결상광학시스템(7)은물체면(5)의물체필드(4)를이미지면(9)의이미지필드(8)로결상하는, 다수의미러들(M1 내지 M8)을구비한다. 미러들중 적어도하나(M6,M7,M8)는차폐되고, 따라서결상광(15)이관통하여통과하기위한관통-개구(21)를갖는다. 이미지필드(8) 앞의광경로내의마지막에서네 번째미러(M5)는차폐되지않고, 그광학유효반사면의외부엣지(22)로결상광학시스템(7)의동공면(17) 내의중앙음영부를제공한다. 마지막에서네 번째미러(M5) 및마지막미러(M8) 사이의거리는물체필드(4)와이미지필드(8) 사이의거리의약 10%이다. 이미지면(9)에가장가까운중간이미지면(23)은마지막미러(M8)와이미지면(9) 사이에배치된다. 결상광학시스템(7)은 0.9인개구수를갖는다. 모두동시에영향을받아야하는것은아닌이 값들은개선된결상특성들및/또는감소된제조비용을갖는결상광학시스템을가져온다.

23. 发明授权

KR101581479B1 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：照明装置照明方法曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101581479B1
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：KR1020107012430
申请日：2008-10-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 다니츠오사무
IPC分类号： G02B27/18 , G02B26/08 , G03F7/20 , G02B27/09
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B26/02 , G02B27/0905 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70116
摘要： 본발명은조명동공면에다중레벨의광 강도분포를선택적으로형성할수 있는구조를갖는조명장치에관한것이다. 조명장치는광원으로부터의빛에근거하여조명동공면에형성된소정의광 강도분포를광원으로서사용하여피조사면에쾰러조명을실행한다. 조명장치는공간광변조기, 집광광학계및 제어유닛을구비한다. 공간광변조기는이차원적으로배열되고그 자세가서로독립적으로제어되는복수의반사면을구비한다. 집광광학계는반사면들로부터의빛을집광하여, 조명동공면에소정의광 강도분포를형성한다. 제어유닛은조명동공면에형성하고자하는광 강도분포에따라서광 강도분포를형성하는조명동공면상의각각의지점에도달하는빛에기여하는반사면의수를제어한다.

24. 发明授权

KR101563756B1 조명 광학 장치, 노광 장치, 조명 방법, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：光学单元照明光学装置曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101563756B1
公开(公告)日：2015-10-27
申请号：KR1020107011180
申请日：2008-10-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 타니츠오사무
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/10 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： 조명광학장치는광학유닛(3)을구비한다. 광학유닛은, 입사광속을 2개의광속으로분할하는광 분할기(35)와, 제 1 광속의광로에배치될수 있는제 1 공간광 변조기(33)와, 제 2 광속의광로에배치될수 있는제 2 공간광 변조기(34)와, 제 1 공간광 변조기를통과한광속과제 2 공간광 변조기를통과한광속을합성하는광 합성기(36)를구비하며, 제 1 공간광 변조기및 제 2 공간광 변조기는, 이차원적으로배열되며개별적으로제어되는복수의광학요소(33a, 34a)를각각갖는다.

25. 发明公开

KR1020150089082A 도즈 및 포커스를 결정하는 방법, 검사 장치, 패터닝 디바이스, 기판 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：确定剂量和焦点的方法，检查装置，图案装置，基板和装置的制造方法
公开(公告)号：KR1020150089082A
公开(公告)日：2015-08-04
申请号：KR1020157017415
申请日：2013-11-22
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바노펜,페터 , 브라우어,에릭 , 크라머,휴고 , 덴베스텐,얀 , 엥엘런,아드리아누스 , 힌넨,파울
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70058 , G01N21/4738 , G03F7/70558 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , G03F7/70683
摘要： 본발명은기판상에서의리소그래피공정에사용되는리소그래피장치의노광도즈를결정하는방법에관한것이다. 상기방법은기판상에제 1 구조체를생성하기위해리소그래피공정을이용하는단계를포함하고, 제 1 구조체는기판상에서의리소그래피장치의노광도즈에의존하는형태를갖는도즈-감응피처를갖는다. 상기방법은기판상에제 2 구조체를생성하기위해리소그래피공정을이용하는단계를포함하고, 제 2 구조체는리소그래피장치의노광도즈에의존하는형태를갖지만, 노광도즈에대해제 1 구조체와상이한감응도를갖는도즈-감응피처를갖는다. 상기방법은제 1 및제 2 스캐터로미터신호들을얻기위해제 1 및제 2 구조체들을조명하는동안산란된방사선을검출하는단계를포함한다. 상기방법은제 1 및제 2 구조체들중 적어도하나를생성하는데사용된노광도즈를결정하기위해제 1 및제 2 스캐터로미터신호들을이용하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种确定在光刻工艺中使用的光刻设备在衬底上的曝光剂量的方法。使用光刻工艺在衬底上产生第一结构，第一结构具有剂量敏感特征，其具有取决于光刻设备在衬底上的曝光剂量的形式。使用光刻工艺在衬底上产生第二结构，第二结构具有剂量敏感特征，其具有取决于光刻设备的曝光剂量但与第一结构具有不同于曝光剂量的灵敏度的形式。检测散射辐射，同时用辐射照射第一和第二结构，以获得第一和第二散射仪信号。使用第一和第二散射仪信号来确定用于产生第一和第二结构中的至少一个的曝光剂量值。

26. 发明公开

KR1020150032856A 투영 노광 장치 및 투영 노광 장치를 제어하기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：投影曝光装置和控制投影曝光装置的方法
公开(公告)号：KR1020150032856A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：KR1020157000214
申请日：2013-06-13
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 파트라,미카엘 , 데귄테르,마르쿠스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70058 , G03F7/70133 , G03F7/7085
摘要： 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치(10)의 제어 방법이 제공되고, 상기 투영 노광 장치는, 노광 동작에서 스캐너로서 구현되고 레티클(40)이 상기 투영 노광 장치의 프레임(42)에 관한 스캐닝 축을 따라 이동하여 상기 레티클이 그 위에서 방사된 조명 필드(60)에 의해 스캐닝되며, 상기 조명 필드의 방사선(22)은 웨이퍼 상의 원하는 도즈 분포를 생성하도록 상기 레티클과 상호작용한 뒤 상기 웨이퍼(44) 상에 가이드된다. 상기 제어 방법은 상기 투영 노광 장치의 프레임(42)에 관한 상기 스캐닝 축의 방향으로의 상기 조명 필드(60)의 위치 변화를 측정하는 단계, 및 상기 투영 노광 장치(10)의 적어도 하나의 동작 파라미터를 변경함으로써 상기 웨이퍼(44) 상의 상기 도즈 분포에 대한 상기 조명 필드의 측정된 위치 변화의 영향을 교정하는 단계를 포함한다.

27. 发明授权

KR101421398B1 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101421398B1
公开(公告)日：2014-07-18
申请号：KR1020137014762
申请日：2004-09-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 니시나가히사시 , 히키마이쿠오 , 도요다미츠노리 , 나카가와마사히로 , 하기와라츠네유키 , 미즈노야스시 , 기타나오노리 , 다니츠오사무 , 에무라노조무
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 투영광학계 (PL) 로부터 액체 (LQ) 에 입사한 노광광 중, 광투과부 (44) 에 입사한 노광광은 기체 속을 통과하지 않고 광학부재 (41) 에 입사하여 수렴된다. 노광장치는 투영광학계의 개구수가 증대하여도 투영광학계로부터의 노광광을 수광하여 각종 계측을 할 수 있다.

28. 发明公开

KR1020140060560A 방사선 소스 및 리소그래피 장치 无效
标题翻译：辐射源和光刻设备
公开(公告)号：KR1020140060560A
公开(公告)日：2014-05-20
申请号：KR1020147008693
申请日：2012-07-27
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바그너,크리스티안 , 루프스트라,에릭
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20 , H01S3/00
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , H01S3/08009 , H01S3/0804 , H01S3/08059 , H01S3/105 , H01S3/123 , H01S3/2232 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： 방사선 소스가 플라즈마 형성 위치를 향해 궤적을 따라 연료 액적(400)들의 스트림을 지향하도록 구성된 노즐, 및 플라즈마 형성 위치에서의 연료 액적들을 플라즈마로 전환하기 위해 플라즈마 형성 위치로 레이저 방사선을 지향하도록 구성된 레이저를 포함한다. 레이저는 증폭기(310, 320), 및 증폭기를 통과하는 방사선에 대한 분기 빔 경로를 정의하도록 구성된 광학 요소(500)를 포함한다.

29. 发明公开

KR1020140043732A 이미징 광학 유닛 审中-实审
标题翻译：成像光学单元
公开(公告)号：KR1020140043732A
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：KR1020137030787
申请日：2012-05-24
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 볼프,알렉산더
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0647 , G02B17/0663 , G02B27/0081 , G03F7/70058 , G03F7/70275
摘要： 이미징 광학 유닛(50)은 이미지 필드(8)내에 오브젝트 필드(4)를 이미징하는 역할을 한다. 상기 오브젝트 필드(4)와 상기 이미지 필드(8) 사이의 이미징 빔 경로(AS)는 복수의 부분 이미징 빔 경로(TAS)로 세분된다. 상기 이미징 광학 유닛(50)은 상기 부분 이미징 빔 경로(TAS)가 상기 오브젝트 필드(4)와 상기 이미지 필드(8) 사이에서 서로 완전히 분리되고 이미징 광학 유닛(50)의 광학적 구성요소(M1 내지 M6)에 의해 안내되는 방식으로 나아가며, 즉, 상기 오브젝트 필드(4)와 상기 이미지 필드(8) 사이의 빔 경로의 어디에서도 상기 부분 이미징 빔 경로(TAS)는 상기 이미징 광학 유닛(50)의 빔 가이드 표면(20)의 동일 영역 상에 충돌하지 않게, 구현된다. 이것은 특히, 마이크로구조 또는 나노구조 반도체 구성요소의 해상도 능력이 증가되는 이미징 광학 유닛을 생성한다.

30. 发明公开

KR1020140036043A 마이크로리소그래피용 조명 시스템 有权
标题翻译：微观照明系统
公开(公告)号：KR1020140036043A
公开(公告)日：2014-03-24
申请号：KR1020147004925
申请日：2010-01-25
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 숄츠,악셀 , 쉴레세너,프랑크 , 하베르캄프,닐스 , 다비덴코,블라디미르 , 게르하르트,미카엘 , 지에글러,게르하르트-빌헬름 , 케른,미르코 , 비쇼프,토마스 , 스태믈러,토마스 , 켈너,스테판 , 몰,만프레드 , 발도르프,다니엘 , 후레비크,이고르 , 데군테르,마르쿠스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： 마이크로리소그래피용 조명 시스템은 일차 광원의 조명 광으로 조명 필드를 조명하는 역할을 한다. 제1 래스터 배열(12)은 조명 시스템의 제1 면에 또는 상기 면에 인접하게 배열된 번들-형성 제1 래스터 소자(24)를 갖는다. 제1 래스터 배열(12)은 이차 광원의 래스터 배열을 생성하는 역할을 한다. 투과 광학기기는 조명 필드로의 이차 광원의 조명 광의 중첩된 투과를 위해 동작한다. 투과 광학기기는 번들-형성 제2 래스터 소자(26)를 갖는 제2 래스터 배열(15)을 갖는다. 각각의 경우에, 제1 래스터 배열(12)의 래스터 소자(24)는, 조명 광(8)의 전체 번들 중 부분 번들(25)을 안내하기 위해 제2 래스터 배열(15)의 래스터 소자(26) 중 하나에 할당된다. 예를 들면, 제1 래스터 배열(12)은 상이한 번들-영향 효과를 갖는 적어도 2가지 유형(Ⅰ, Ⅱ, Ⅲ)의 래스터 소자(24)를 갖는다. 2개의 래스터 배열(12, 15) 중 래스터 소자(24, 26)는, 각각의 래스터 소자 유형(Ⅰ~ Ⅲ)에 이 유형(Ⅰ~ Ⅲ)의 제1 래스터 소자(24)와 제2 래스터 배열(15)의 제2 래스터 소자(26)의 사이에서 적어도 하나의 별개의 거리(△
Ⅰ , △
Ⅱ , △
Ⅲ )가 할당되는 방식으로 서로에게 배열된다.
摘要翻译：用于微光刻的照明系统用于利用一次光源的照明光照射照明场。第一光栅布置具有束形成的第一光栅元件，其布置在照明系统的第一平面中或与该平面相邻。第一光栅布置用于产生二次光源的光栅布置。传输光学器件用于将次级光源的照明光的叠加传输到照明场中。传输光学器件具有第二光栅装置，其具有束形成第二光栅元件。在每种情况下，第一光栅装置的一个光栅元件被分配给第二光栅布置的光栅元件之一，用于引导整束照明光的部分束。例如，第一光栅布置具有至少两种具有不同束影响效果的第一光栅元件（I，II，III）。两个光栅装置的光栅元件相对于彼此布置成使得每个光栅元素类型（I至III）被分配至少一个单独距离（＆Dgr; I，＆Dgr; II，＆Dgr; III）这种类型的第一光栅元素（I至III）和第二光栅布置的分配的第二光栅元素。结果，获得允许特定照明参数受到影响的照明系统，使得最大程度地避免对其他照明参数的不期望的影响。

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