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1. 发明专利

JP2018525845A セルフシーディング高出力レーザー审中-公开
公开(公告)号：JP2018525845A
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：JP2018510421
申请日：2016-06-21
申请人：レイセオンカンパニー
发明人：フィルガス,デイヴィッド,エム.
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/083 , H01S3/067 , H01S3/136
CPC分类号： H01S3/10023 , H01S3/0632 , H01S3/06791 , H01S3/07 , H01S3/08013 , H01S3/0805 , H01S3/08072 , H01S3/083 , H01S3/1003 , H01S3/10053 , H01S3/10084 , H01S3/10092 , H01S3/105 , H01S3/1053 , H01S3/1065 , H01S3/1307 , H01S3/136
摘要：セルフシーディング高出力レーザーが、空間フィルター413;前記空間フィルターからの低パワー非歪み光学ビームを循環させるための光学リレー414;前記低パワー非歪み光学ビームの位相面を適応的に変更するために前記光学リレーの出力に光学的に結合される適応光学系404;高パワー非歪み光学ビームを生成するために前記適応光学系の位相制御素子の出力に光学的に結合される高出力増幅器406であり、前記適応光学系により射出された適応的に変更された位相面が、当該高出力増幅器によりもたらされる歪みを打ち消して前記高パワー非歪み光学ビームを生成する、高出力増幅器406;前記高パワー非歪み光学ビームをセルフシーディング高出力レーザーの出力としての高パワー出力ビーム410と低パワービーム426とに分割するために高出力増幅器に光学的に結合されたビームスプリッター408;前記低パワービーム426を前記空間フィルター413に集束させる集束レンズ412;前記空間フィルター413によりフィルタリングされた前記低パワービームのメトリックを検出する検出器416;及び前記の検出されたメトリックに基づいて、前記の検出されたメトリックを入力し、前記適応光学系404を適応的に制御して、前記高出力増幅器のパワーを最大化するためのコントローラー418;を有する。

2. 发明专利

JP6343229B2 レーザ増幅装置、レーザ装置及びレーザ核融合炉有权
公开(公告)号：JP6343229B2
公开(公告)日：2018-06-13
申请号：JP2014233729
申请日：2014-11-18
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：関根尊史 , 加藤義則 , 竹内康樹 , 川嶋利幸
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/23 , H01S3/042 , H01S3/06 , G21B1/00 , H01S3/10
CPC分类号： G21B1/23 , H01S3/0407 , H01S3/042 , H01S3/0604 , H01S3/0606 , H01S3/0623 , H01S3/07 , H01S3/091 , H01S3/094061 , H01S3/094084 , H01S3/0941 , H01S3/1618 , H01S3/1643 , H01S3/2316

3. 发明专利

JP6040184B2 超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザシステム有权
标题翻译：超高重复率窄带气体放电激光器系统
公开(公告)号：JP6040184B2
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：JP2014027965
申请日：2014-02-17
申请人：サイマーリミテッドライアビリティカンパニー
发明人：ステイガートーマスディー , ホルタウェイエドワードピー , ムースマンブライアンジー , ラオラジャセッカーエム
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/104
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/104 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/1305 , H01S3/2333

4. 发明专利

JP2016134528A レーザ媒質、レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置审中-公开
标题翻译：激光介质，激光介质单元和激光束放大器件
公开(公告)号：JP2016134528A
公开(公告)日：2016-07-25
申请号：JP2015008808
申请日：2015-01-20
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：関根尊史 , 加藤義則 , 玉置善紀 , 栗田隆史 , 川嶋利幸 , 森田宇亮
IPC分类号： H01S3/042 , H01S3/07 , H01S3/06 , H01S3/10
CPC分类号： H01S3/042 , H01S3/06 , H01S3/07 , H01S3/10
摘要：【課題】レーザ光を高品質に増幅可能なレーザ光増幅装置に用いることが可能なレーザ媒質、レーザ媒質ユニット及びレーザ光増幅装置を提供する。【解決手段】このレーザ光増幅装置は、レーザ媒質ユニット10と、レーザ媒質ユニット10内に励起光を入射させる励起光源21と、レーザ媒質14の貫通孔14a内に冷却媒体を供給する手段(窓材の貫通孔16a)と、レーザ媒質ユニット10の周囲に配置された冷却媒体流路F1とを備えることを特徴とする。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供可用于能够以高质量放大激光束的激光束放大装置的激光介质，激光介质单元和激光束放大装置。解决方案：激光束放大装置包括：激光介质单元10; 使激发光入射到激光介质单元10中的激发光源21; 用于将冷却介质供应到激光介质14的通孔14a中的装置（窗口材料的通孔16a）以及布置在激光介质单元10周围的冷却介质通路F1

5. 发明专利

JP2016509370A 集積マッハツェンダ変調器を有する調整可能Ｕレーザ送信機有权
标题翻译：具有集成的Mach-Zehnder调制可调ù激光发射器
公开(公告)号：JP2016509370A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：JP2015551763
申请日：2014-01-02
申请人：オーイー・ソリューションズ・アメリカ・インコーポレーテッド
发明人：ダニエルジェイコブブルメンタール， , ダニエルジェイコブブルメンタール，
IPC分类号： H01S5/026 , H01S5/50 , H04B10/50
CPC分类号： H04B10/505 , H01S3/07 , H01S3/10061 , H01S3/105 , H01S3/106 , H01S5/005 , H01S5/0085 , H01S5/0206 , H01S5/026 , H01S5/0265 , H01S5/06256 , H01S5/1007 , H01S5/101 , H01S5/1032 , H01S5/1071 , H01S5/1096 , H01S5/14 , H01S5/142 , H01S5/4012
摘要：本発明によれば、(本書で、Uレーザ(102)または集積二重光出射レーザ(102)とも呼ばれる)モノリシック集積レーザ(102)であって、第1光出射(104)および第2光出射(106)を有し、第1光出射(104)と第2光出射(106)の両方は、変調器(108)または他のデバイスと光通信する、モノリシック集積レーザ(102)が提供される。集積二重出射レーザ(102)は、U字状の形態の導波路または全内部反射(TIR)鏡、曲がり導波路、および自由空間のエッチングされた隙間鏡を含む様々な構成の、光湾曲部(134)によって形成され得る。集積二重光出射レーザ(102)は、また、2つのレーザゲインセクション(130)、(148)を有し得、ゲインを制御するためにレーザ(102)の各アームにそれぞれ設けられる。【選択図】図3
摘要翻译：根据本发明，（在本文中也称为当U激光器（102）或集成的双光发射激光器（102））单片集成的激光器（102），所述第一发光（104）和所述第二光出射（它有106），第一光出射（104）和所述第二光出射（106）包括一个调制器（108）或光通信的其他设备中，提供了单片集成激光器（102）。波导或全内反射（TIR）镜，弯曲波导，以及蚀刻的各种配置的自由空间，其中包括一个间隙反射镜的集成的双发射激光器（102），U形的形式，LIGHT弯曲部它可以由（134）来形成。集成的双光发射激光器（102），还两个激光增益部分（130）设置在所述激光器（102），用于控制所获得的每个臂提供的，增益具有（148）。点域

6. 发明专利

JP2015509286A ＯＣＴのためのＧＲＳＭを伴う波長調整可能な外部キャビティレーザーダイオード有权
标题翻译：与用于GRSM OCT波长可调外腔激光二极管
公开(公告)号：JP2015509286A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014552457
申请日：2013-01-09
申请人：エグザロス・アクチェンゲゼルシャフトExalos Ag , エグザロス・アクチェンゲゼルシャフトExalos Ag
发明人：バッハマン，エイドリアン , ドゥールク，マルクス
IPC分类号： H01S5/14 , G01N21/17 , G02F1/29
CPC分类号： H01S3/10023 , G01B9/02091 , H01S3/07 , H01S3/08059 , H01S3/0812 , H01S3/0826 , H01S3/105 , H01S3/106 , H01S5/02248 , H01S5/141 , H01S5/142 , H01S5/30 , H01S5/4031
摘要：この発明のある局面によれば、外部キャビティ半導体レーザー光源は、−光増幅を与えるよう動作可能な半導体利得装置(11)と、−回折格子(25)を含む波長選択要素(20)と、−光再方向付け器(13,21)とを含み、利得装置、光再方向付け器および格子を、相互に配置して、光共振器を、利得装置によって発せられ回折格子によって回折される光部分に対して確立し、光共振器は外部キャビティレーザー共振器であり、光源は、共振器において循環する放射の波長選択要素上への入射角を変動させることよって、共振器放射波長を前記入射角に依って選択することが可能である。波長選択要素(20)はGRISM、つまり2つのプリズム(23,24)間の格子(25)であってもよい。
摘要翻译：根据本发明，外腔半导体激光器光源的一个方面， - 可操作半导体增益器件以提供光放大和（11）， - 包括衍射光栅（25）（20），一个波长选择元件 - 和一个光重定向装置（13，21），增益装置，光重定向装置和网格，设置在光谐振器的相互光学部分，被衍射的衍射由增益装置光栅射出建立了，该光谐振器是一个外腔激光谐振器，光源，我会改变入射辐射的在谐振器中循环的波长选择元件上的角度，谐振器辐射波长的入射角有可能取决于选择。波长选择元件（20）是棱栅，即，可以是两个棱镜（23，24）之间的晶格（25）。

7. 发明专利

JP2015032739A 波長可変光源有权
标题翻译：可变波长光源
公开(公告)号：JP2015032739A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：JP2013162445
申请日：2013-08-05
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： WARASHINA SADAHISA
IPC分类号： H01S5/06 , G01J3/08 , G01J3/26 , G02B26/00 , H01S5/10 , H01S5/40 , H01S5/50
CPC分类号： H01S3/1062 , G01J3/10 , G02B26/001 , H01S3/025 , H01S3/07 , H01S3/08027 , H01S3/08059 , H01S3/08086 , H01S3/0809 , H01S3/0823 , H01S3/105 , H01S5/02248 , H01S5/02288 , H01S5/1092 , H01S5/142 , H01S5/183
摘要：【課題】出射光の光特性を安定化すると共に出射光の波長帯域を拡大することが可能な波長可変光源を提供する。【解決手段】波長可変光源1Aは、第1レーザ媒質M1、全反射ミラーK1A及びハーフミラーK2により構成される第1光共振器R1と、第2レーザ媒質M2、全反射ミラーK1B及びハーフミラーK2により構成される第2光共振器R2と、一対の第1ミラーS1a,S1bを有し、第1光L1及び第2光L2を選択的に透過及び反射させる第1フィルタFP1と、一対の第2ミラーS2a,S2bを有し、第1光L1及び第2光L2を選択的に透過及び反射させる第2フィルタFP2と、第1ミラーS1a及び第2ミラーS2aを連動して動作させる第1駆動機構A1と、第2ミラーS2bを動作させる第2駆動機構A2と、を備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够稳定发光的光学特性并且还能够扩大发射光的波长带的可变波长光源。解决方案：可变波长光源1A包括：第一光学谐振器R1，其包括第一激光介质M1，全反射镜K1A和半反射镜K2; 包括第二激光介质M2，全反射镜K1B和半反射镜K2的第二光学谐振器R2; 具有一对第一反射镜S1a，S1b并选择性地透射和反射第一光L1和第二光L2的第一滤光器FP1; 具有一对第二反射镜S2a，S2b并选择性地透射并反射第一光L1和第二光L2的第二滤光器FP2; 第一驱动机构A1，用于一起致动第一反射镜S1a和第二反射镜S2a; 以及用于致动第二镜S2b的第二驱动机构A2。

9. 发明专利

JPWO2012137259A1 固体レーザ装置有权
公开(公告)号：JPWO2012137259A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2011529394
申请日：2011-04-08
申请人：三菱電機株式会社
发明人：小島　哲夫 , 哲夫小島 , 鈴木　寛之 , 寛之鈴木 , 龍英高山 , 龍英高山 , 善夫齊藤 , 善夫齊藤
IPC分类号： H01S3/131 , H01S3/0941
CPC分类号： H01S3/094 , H01S3/025 , H01S3/0405 , H01S3/042 , H01S3/061 , H01S3/07 , H01S3/08054 , H01S3/08072 , H01S3/09408 , H01S3/094084 , H01S3/0941 , H01S3/1022 , H01S3/1611 , H01S3/1643 , H01S5/02415 , H01S5/02438
摘要：従来の固体レーザ装置では、固体レーザ媒質の軸を中心とした励起分布の均一性のみを考慮しており、固体レーザ装置全体での光軸方向の励起分布の対称性については考慮されていなかったため、高出力の高品質レーザビームを高効率に発生することができないという問題があった。この問題を解決すべく、本発明は、共振器の中央付近に偶数個の励起モジュール51、52を固体レーザビーム18の光軸に沿って並べて配置し、それぞれの励起モジュール51、52に配置される励起光源である半導体レーザ21〜28および固体レーザ媒質11、12を、これら偶数個の励起モジュールの中央にある間隙に設けた仮想対称面61に対し面対称になるように配置した。

10. 发明专利

JP2014096610A Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system 有权
标题翻译：非常高的重复率窄带带隙放电激光系统
公开(公告)号：JP2014096610A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：JP2014027965
申请日：2014-02-17
申请人： Cymer LLC , サイマーリミテッドライアビリティカンパニー
发明人： STEIGER THOMAS D , HOLTAWAY EDWARD P , MOOSMAN BRYAN G , RAO RAJASEKHAR M
IPC分类号： H01S3/104 , H01S3/00 , H01S3/038 , H01S3/097 , H01S3/10 , H01S3/13 , H01S3/22 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/2333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas discharge laser used for supplying narrow band light for integrated circuit lithography application.SOLUTION: A method and apparatus for producing a very high repetition rate gas discharge laser system in a MOPA configuration is disclosed which may comprise: a master oscillator gas discharge laser system producing a beam of oscillator laser output light pulses at a very high pulse repetition rate; and at least two power amplification gas discharge laser systems receiving laser output light pulses from the master oscillator gas discharge laser system, each of the at least two power amplification gas discharge layer systems amplifying some of the received laser output light pulses at a pulse repetition that is a fraction of the very high pulse repetition rate equal to one over the number of the at least two power amplification gas discharge laser systems to form an amplified output laser light pulse beam at the very high pulse repetition rate, which may be positioned in series with respect to the oscillator laser output light pulse beam.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于为集成电路光刻应用提供窄带光的气体放电激光器。公开了一种用于产生MOPA配置的非常高重复率气体放电激光器系统的方法和装置，其可以包括：主振荡器气体放电激光系统以非常高的脉冲重复频率产生振荡器激光输出光脉冲束; 以及至少两个功率放大气体放电激光器系统，其从所述主振荡器气体放电激光系统接收激光输出光脉冲，所述至少两个功率放大气体放电层系统中的每一个以脉冲重复放大所接收的激光输出光脉冲中的一些，是等于至少两个功率放大气体放电激光器系统的数量之一的非常高的脉冲重复率的一部分，以形成非常高的脉冲重复频率的放大的输出激光脉冲束，其可以被串联相对于振荡器激光输出光脉冲光束。

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