专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2019095363A 光計測方法、光計測装置、光計測プログラム、及び光計測プログラムを記録する記録媒体审中-公开
公开(公告)号：JP2019095363A
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：JP2017226567
申请日：2017-11-27
申请人： HAMAMATSU PHOTONICS KK
发明人： SHIMASE AKIRA , HOTTA KAZUHIRO
IPC分类号： G01R31/28 , G01R31/26 , G01R31/302
摘要：【課題】光計測対象の位置を適切に設定することにより、半導体デバイスの故障解析を容易にすること。【解決手段】半導体デバイス検査装置1は、電気信号が入力されているDUTである半導体デバイス10からの光を検出する光センサ12と、半導体デバイス10からの光を光センサ12に導光する光学系と、光センサ12に電気的に接続された制御装置18とを備え、制御装置18は、半導体デバイス10のマスクレイアウトを示すマスクデータを読み込むデータ読込部23と、マスクデータに含まれる半導体デバイス10におけるゲート層のポリゴンデータを基に、半導体デバイス10におけるトランジスタの位置を探索する探索部24と、探索されたトランジスタの位置を光計測対象の位置に設定する設定部25と、設定された光計測対象の位置に対して光計測を実行して計測結果を取得する計測部26とを有する。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2017092502A フォトダイオードの製造方法有权
公开(公告)号：JP2017092502A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2017029950
申请日：2017-02-21
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： FUJII YOSHIMARO , YAMAMURA KAZUHISA , SAKAMOTO AKIRA , NAGANO TERUMASA
IPC分类号： H01L31/10
摘要：【課題】シリコンフォトダイオードであって、近赤外の波長帯域に十分な分光感度特性を有しているフォトダイオードの製造方法を提供すること。【解決手段】n−型半導体基板1の第2主面1bにおける少なくともp+型半導体領域3に対向する領域に、パルスレーザ光を照射して、不規則な凹凸10を第2主面1bに光学的に露出させて形成する。ここでは、不規則な凹凸10の高低差が0.5〜10μmとなり、不規則な凹凸10における凸部の間隔が0.5〜10μmとなるように、不規則な凹凸10を形成する。n−型半導体基板1の第2主面1b側に、その表面が第2主面1bにおける不規則な凹凸10が形成された領域を含んでいるように、n−型半導体基板1よりも高い不純物濃度を有する第1導電型のアキュムレーション層11を形成する。【選択図】図20

3. 发明专利

JP2017090186A 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017090186A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015219211
申请日：2015-11-09
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： ABE KEIJI , IZAWA TOSHIYUKI , YAMAMOTO AKINAGA
IPC分类号： G01T1/24 , H01L27/144 , H01L27/146
CPC分类号： G01T1/24 , H01L27/144 , H01L27/146
摘要：【課題】量産性に優れた放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法を提供すること。【解決手段】放射線検出器1Aは、電荷収集電極13を有するパネル10と、パネル10に対して一方の側に配置され、ペロブスカイト構造体粒子4p及びバインダ樹脂4rを含む放射線吸収層4と、放射線吸収層4に対して一方の側に配置され、電荷収集電極13との間に電位差が生じるようにバイアス電圧が印加される電圧印加電極6と、を備えている。【選択図】図1

4. 发明专利

JP2017090156A カビの生死判定方法及びカビの生死判定装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017090156A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015218502
申请日：2015-11-06
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： TSUJI ATSUNORI , HIRANO KENICHI
IPC分类号： G01N21/64 , C12Q1/02
摘要：【課題】簡便にカビの生死を判定することができる、生死判定方法及び生死判定装置を提供すること。【解決手段】カビの生死判定方法であって、カビに対し、260〜300nmの波長の第一の励起光、及び320〜370nmの波長の第二の励起光を照射する励起光照射工程と、カビからの310〜380nmの波長の第一の蛍光及び390〜500nmの波長の第二の蛍光を測定する蛍光測定工程と、第一の蛍光及び第二の蛍光の蛍光強度比に基づき、カビの生死を判定する判定工程と、を備える、方法。【選択図】なし

5. 发明专利

JP2017085041A 半導体多層膜反射鏡审中-公开
公开(公告)号：JP2017085041A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2015214474
申请日：2015-10-30
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： HIGUCHI AKIRA , SUGIMOTO KENICHI
IPC分类号： H01L33/46 , H01S5/183
摘要：【課題】温度に対する表面曲率の変化の少ない高品質の反射鏡において、イレギュラーな反射スペクトルを抑制可能な半導体多層膜反射鏡を提供することを目的とする。【解決手段】半導体多層膜反射鏡において、第1のInGaP層2と、第1のInGaP層2上に設けられた第1のInAlGaAs層3と、第1のInAlGaAs層3上に設けられたAlGaAs系化合物半導体多層膜4と、AlGaAs系化合物半導体多層膜4上に設けられた第2のInAlGaAs層5と、第2のInAlGaAs層5上に設けられた第2のInGaP層6とを備えることを特徴とする。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2017078722A 分光器有权
公开(公告)号：JP2017078722A
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016249053
申请日：2016-12-22
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： SHIBAYAMA KATSUMI , YOSHINO TAKAFUMI
IPC分类号： G01J3/18
摘要：【課題】光検出素子と外部配線との電気的な接続の確実化、及び分光部と光検出素子との位置関係の安定化の両立を図ることができる分光器を提供する。【解決手段】分光器1Aは、ステム4及びキャップ5を有するパッケージ2と、ステム4上に配置された光学ユニット10Aと、ステム4を貫通する複数のリードピン3と、を備える。光学ユニット10Aは、キャップ5の光入射部6から入射した光を分光すると共に反射する分光部21と、分光部21によって分光されると共に反射された光を検出する光検出素子30と、分光部21との間に空間が形成されるように光検出素子30を支持する支持体40と、支持体40から突出する突出部11と、支持体40に設けられ、光検出素子30と電気的に接続された配線と、を有する。突出部11は、ステム4から離間する位置に配置され、リードピン3は、突出部11に嵌められて、配線に電気的に接続されている。【選択図】図2

7. 发明专利

JP2015090901A 赤外線検出素子审中-公开
公开(公告)号：JP2015090901A
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：JP2013229629
申请日：2013-11-05
申请人： HAMAMATSU PHOTONICS KK
发明人： MISHIMA ASUKA , OSHIMURA YOSHINORI
IPC分类号： H01L31/10
摘要：【課題】優れた検出特性を有することが可能な赤外線検出素子を提供する。【解決手段】この赤外線検出素子は、バッファ層(InAsSb層)3と、バッファ層(InAs層)4と、光吸収層(InAsSb層)5とを備えている。InAs層の臨界膜厚hcはInAs層の厚みtとはhc

8. 发明专利

JP2015060735A Ｘ線発生装置及び試料検査装置审中-公开
标题翻译： X射线发生装置和样品检查装置
公开(公告)号：JP2015060735A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：JP2013194040
申请日：2013-09-19
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： AI TOSHIHARU , OTA NOBUHIRO , SUZUKI YUTARO , MORI KUNIYOSHI , SAKAI TAKUYA
IPC分类号： H05G1/00 , G01N23/04 , H01J35/00 , H01J35/06 , H01J35/30
摘要：【課題】X線の利用効率を向上可能なX線発生装置及び試料検査装置を提供する。【解決手段】このX線発生装置は、光励起型X線発生源と、光励起型X線発生源から出力されたX線が入射する位置に配置されたX線用キャピラリレンズとを備えている。光励起型X線発生源は、真空容器116と、真空容器116内に配置され、入射光を電子に変換する光電子放出層112と、光電子放出層112に対向配置されたX線ターゲット114とを備えている。X線用キャピラリレンズは、X線導波可能な材料からなる複数のキャピラリを備えている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以提高X射线的利用效率的X射线产生装置和样本检查装置。解决方案：X射线产生装置包括光激发型X射线产生源和设置在从光激发型X射线产生源输出的X射线入射的位置的X射线毛细透镜。光激发型X射线产生源包括真空容器116，设置在真空容器116中并将入射光转换为电子的光电子发射层112和与光电子发射相对设置的X射线靶114 X射线毛细管透镜包括由能够引导X射线的材料制成的多个毛细管。

9. 发明专利

JP2015024428A 加工装置有权
标题翻译：加工设备
公开(公告)号：JP2015024428A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013155756
申请日：2013-07-26
申请人：住友大阪セメント株式会社 , Sumitomo Osaka Cement Co Ltd , 浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk , 株式会社スミテック , Sumitekku:Kk
发明人： KOSUGI JUNICHI , MURE KATSUHITO , YAZAWA SHINOBU , OSAJIMA TETSUYA , INOUE SHOICHI
IPC分类号： B23K26/046 , B23K26/00 , B23K26/064
摘要：【課題】光学系を変更することなく、任意のオフセットに応じた加工を行うことができる加工装置を提供する。【解決手段】対物レンズを介して加工対象物の所定位置に加工用レーザー光を集光して加工を行う加工手段と、非点収差を有した光学系であって、対物レンズを介して加工対象物で反射された検出光の反射光を受光する非点収差光学系と、加工用レーザー光の集光位置におけるオフセット量を調整可能であって、非点収差光学系に設けられるオフセット量調整手段と、オフセット量に対応する位置に加工用レーザー光を集光させるように加工対象物に対する対物レンズの相対位置を調整する相対位置調整手段と、を備える加工装置。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以在不改变光学系统的情况下根据任意偏移进行处理的处理装置。解决方案：处理装置包括：处理装置，其通过将处理的激光束集中到预定位置通过物镜加工的物体; 散光光学系统，其具有散光并且经由物镜接收从被处理物体反射的检测光的反射率; 偏移量调整单元，其能够调整用于处理的激光束的集中位置处的偏移量，并设置在像散光学系统上; 以及相对位置调节装置，其将物镜相对于待处理对象的相对位置调整为用于处理的激光束集中在与偏移量相对应的位置。

10. 发明专利

JP2015018085A 画像取得装置及び画像取得方法有权
标题翻译：图像获取装置和图像采集方法
公开(公告)号：JP2015018085A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2013144639
申请日：2013-07-10
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： TAKAHASHI SATOSHI , SUZUKI YASUKI
IPC分类号： G02B21/06 , G02B21/36 , H04N5/225 , H04N5/238
CPC分类号： G02B21/06 , F21V29/50 , G02B21/086 , G02B21/26 , G02B21/36 , H04N5/2256 , H04N5/2354 , H05B33/0803 , H05B33/0854 , H05B37/0281 , Y02B20/42
摘要：【課題】本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、発光素子の駆動制御を行うことにより、迅速かつ安定した試料の光像の連続した撮像が可能な画像取得装置に関するものである。【解決手段】この画像取得装置1は、画像取得の対象となる試料Sを載置する試料ステージ15と、発光素子35bと発光素子35bで発生した熱を放熱する放熱器35aを有し試料Sに対して光を照射するミクロ用光源35と、試料Sの光像を導光する導光光学系として、ステージ上の試料Sと対峙するように配置された対物レンズ32と、導光された試料Sの光像を撮像するミクロ画像取得部と、複数の試料Sの光像を撮像する画像取得期間の間の待機期間中に、ミクロ用光源35による光の照射を行うように発光素子35bを制御するミクロ用光源制御部と、を備えることを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过执行发光元件的驱动控制来快速，稳定地连续地拾取样品的光学图像的图像获取装置。解决方案：图像获取装置1包括样本台15 在其上放置有作为图像获取对象的样本S，包括发光元件35b的发光元件35b和散热器35a的微型光源35a和散发在发光元件35b中产生的热并且用光照射样品S，透镜32配置在台面上，以面对样品S，作为引导样品S的光学图像的导光光学系统，拾取样品S的引导光学图像的微图像获取部件和控制部件对于用于微控制发光元件35b的光源，以在用于拾取的图像获取周期期间的待机期间对由微光35的光源进行的光的照射多个样本S的光学图像

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式