专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2018520466A 電子光学システム内の清浄環境を提供するためのシステム及び方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018520466A
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：JP2017561622
申请日：2016-05-26
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：シュルツウィリアム , デルガドヒルダルド , ローズギャリー
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/28 , H01J7/18 , H01J37/244 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/28 , H01J3/027 , H01J3/40 , H01J7/18 , H01J37/065 , H01J2237/022 , H01J2237/06341 , H01J2237/182
摘要：汚染物質材料を抽出器に近接した空洞から吸収できる、電子源の電子抽出器が開示される。電子抽出器は、本体を含む。電子抽出器の本体は、1つ又は複数の非蒸発型吸着体材料から形成されている。1つ又は複数の非蒸発型吸着体材料は、電子抽出器の本体に近接した領域内に含まれる1つ又は複数の汚染物質を吸収する。電子抽出器の本体は、電子抽出器の本体に近接して置かれた1つ又は複数の放出器から電子を抽出するように更に構成されている。

2. 发明专利

JP6239401B2 荷電粒子ビーム装置有权
公开(公告)号：JP6239401B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2014024421
申请日：2014-02-12
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：上本敦 , 麻畑達也 , 鈴木秀和 , 山本洋
IPC分类号： H01L21/66 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/023 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/063 , H01J2237/14 , H01J2237/182 , H01J2237/206 , H01J2237/208 , H01J2237/2448 , H01J2237/2806 , H01J2237/2813 , H01J2237/31749

3. 发明专利

JP6207344B2 荷電粒子線装置有权
公开(公告)号：JP6207344B2
公开(公告)日：2017-10-04
申请号：JP2013225916
申请日：2013-10-30
申请人：日本電子株式会社
发明人：廣木靖 , 大▲崎▼ 光明
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/16 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/20 , H01J41/02 , H01J2237/182 , H01J2237/2002 , H01J2237/2605

4. 发明专利

JPWO2015016039A1 イオンミリング装置、及びイオンミリング装置を用いた加工方法有权
标题翻译：离子铣削装置，以及使用该离子铣削装置的处理方法
公开(公告)号：JPWO2015016039A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015529495
申请日：2014-07-11
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：敦史上野 , 久幸高須 , 宏史武藤
IPC分类号： H01J37/30 , H01J37/18 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/006 , H01J2237/06 , H01J2237/08 , H01J2237/182 , H01J2237/1825 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/31749
摘要：本発明のイオンミリング装置は、真空室(105)と、当該真空室内の真空排気を行う排気装置(101)と、前記真空室内にてイオンビームが照射される試料(102)を支持する試料台(103)と、前記真空室内を加熱する加熱装置(107)と、前記真空室内に熱媒体としてのガスを導入するガス源(106)と、当該ガス源を制御する制御装置(110)とを備え、当該制御装置は、前記加熱装置による加熱時に、前記真空室内の圧力が所定の状態となるように、前記ガス源を制御する。これにより、試料を冷却してイオンミリングを行った後に大気開放する際に生じる結露等を抑制するための温度制御を、短時間で行うことが可能となる。
摘要翻译：本发明的离子铣削装置，在真空室（105），用于执行所述真空室（101）的排气的排气系统，用于支撑所述离子束的样品（102）中的样品台在真空室中照射（103），加热装置（107），用于加热真空室中，用于将气体作为热介质的气体源，所述真空腔室（106），其控制所述气体源和（110）的控制装置提供，该控制装置中，当通过加热装置，压力在真空腔加热到预定的状态，用于控制该气体源。因此，为了抑制结露或空气开口样品之后冷却时产生等的温度控制是离子铣削，能够在很短的时间。

5. 发明专利

JP2016219412A 改良された画像化ガスを用いる電子ビーム顕微鏡およびその使用方法审中-公开
标题翻译：电子束显微镜和使用改进的成像气体及其使用方法
公开(公告)号：JP2016219412A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2016097239
申请日：2016-05-13
申请人：エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人：トビー・シェンリー , ジョン・スコット , ミロス・トス
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2448 , H01J2237/2605 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801 , H01J2237/2806
摘要：【課題】改良された画像化ガスを用いたガス増幅を使用する荷電粒子ビーム画像化および測定システムを提供すること。【解決手段】このシステムは、荷電粒子ビームを加工物に導く荷電粒子ビーム源と、荷電粒子を加工物上で集束させる集束レンズと、荷電粒子ビームによる加工物照射または他のガス・カスケード検出方式によって生成された2次電子を加速させる電極とを含む。このガス画像化は、CH 3 CH 2 OH(エタノール)蒸気を含む改良された画像化ガスを封入する高圧走査電子顕微鏡(HPSEM)室内で実行される。この電極は、CH 3 CH 2 OH中を通過している2次電子を加速させて、CH 3 CH 2 OHをイオン化カスケードによってイオン化し、それによって検出用の2次電子の数を増幅する。改良された画像化ガスを使用する最適な構成が提供され、有機液体および有機溶媒の画像化研究およびCH 3 CH 2 OHベースの他のプロセスを実施する技法が提供される。【選択図】図4c
摘要翻译：提供一种使用具有改进的成像气体的气体放大的带电粒子束成像和测量系统。该系统包括，工件照射或其它气体级联检测方法由所述带电粒子束的带电粒子束源引导带电粒子束到工件上，和用于聚焦带电粒子在所述工件的聚焦透镜和用于加速由产生的二次电子的电极。气体成像在包围含有CH3CH2OH（乙醇）的蒸气的改进的成像气体的高压扫描电子显微镜（HPSEM）室中进行。此电极加速二次电子通过传递CH3CH2OH，通过电离级联CH3CH2OH，从而扩增检测二次电子的数量电离。使用一种改进的成像气体最优配置设置，以实现成像研究和CH3CH2OH基其他处理有机液体和有机溶剂的技术。点域4C

6. 发明专利

JP2016533612A 空気中でのＸ線分析有权
标题翻译：的空气中的X射线分析
公开(公告)号：JP2016533612A
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：JP2016517384
申请日：2014-09-25
申请人：オックスフォードインストルメンツナノテクノロジーツールスリミテッド , オックスフォードインストルメンツナノテクノロジーツールスリミテッド
发明人：ピーターステイサム , ピーターステイサム
IPC分类号： H01J37/252 , G01N23/22 , G01N23/225 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/164 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/24415 , H01J2237/2445 , H01J2237/2608
摘要： X線分析装置は、第1のガス圧力環境内に集束電子ビームを生成する電子ビーム組立体を備える。サンプル組立体は、第2のガス圧力環境内にサンプルを保持するために使用され、サンプルは、電子ビーム組立体から電子ビームを受入れ、第2のガス圧力環境でのガス圧力は第1のガス圧力環境内のガス圧力より大きい。X線検出器は、第1のガス圧力環境内に少なくとも1つのX線センサを有するように配置される。第1のガス圧力環境内に少なくとも1つのX線センサ要素を有するX線検出器であって、センサ要素は、サンプル組立体の近位にある電子ビーム組立体の一部に取り付けられ、さらに使用時、電子ビームとサンプルと間の相互作用により発生するX線を受入れるように配置される。【選択図】図3
摘要翻译： X射线分析装置，包括电子束组件，用于在环境中的第一气体压力产生的聚焦电子束。样品组件用于容纳样品到环境内的第二气体压力，样品接受来自电子束组件的电子束，所述第二气体压力环境第一气体中的气体压力大于在环境中的压力的气体压力。 X射线检测器被布置为具有在环境内的第一气体压力的至少一个X射线传感器。具有在环境内的第一气体压力的至少一个X射线传感器元件的X射线检测器，该传感器元件被附接到电子束组件的近端到样品组件还使用一部分当被布置成接收由所述电子束和样品之间的相互作用产生的X射线。点域

7. 发明专利

JP2015153504A 荷電粒子ビーム装置有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2015153504A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：JP2014024421
申请日：2014-02-12
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：上本敦 , 麻畑達也 , 鈴木秀和 , 山本洋
IPC分类号： H01L21/66 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/023 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/063 , H01J2237/14 , H01J2237/182 , H01J2237/206 , H01J2237/208 , H01J2237/2448 , H01J2237/2806 , H01J2237/2813 , H01J2237/31749
摘要：【課題】操作者が荷電粒子ビームによる観察像を視認しながらニードルを移動させる際の操作性を向上させる。【解決手段】荷電粒子ビーム装置10は、集束イオンビーム鏡筒14と、電子ビーム鏡筒15と、ニードル18と、ニードル駆動機構19と、表示装置20と、制御部21とを備える。表示装置20は、荷電粒子ビームの照射によって生成された画像データを表示する。制御部21は、入力デバイス22に対する操作者の操作入力に応じて画像データ上におけるニードル18の目標位置を設定する。制御部21は、入力デバイス22によって設定された目標位置に応じてニードル駆動機構19によるニードル18の駆動を制御し、目標位置の変化に追従してニードル18を移動させる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种带电粒子束装置，其能够改善操作者在使用带电粒子束视觉识别观察图像的同时移动针的可操作性。解决方案：带电粒子束装置10包括聚焦离子束筒14 电子束筒15，针18，针驱动机构19，显示装置20和控制单元21.显示装置20显示通过照射带电粒子束产生的图像数据。控制单元21根据操作者对输入装置22的操作输入，将针18的目标位置设定在图像数据上。控制单元21根据由输入装置22设定的目标位置通过针驱动机构19控制针18的驱动，并且使针18在目标位置的变化之后移动。

8. 发明专利

JP2015516690A 荷電粒子リソグラフィシステムおよびビーム発生器有权
标题翻译：带电粒子光刻系统和一个束发生器
公开(公告)号：JP2015516690A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：JP2015512032
申请日：2013-05-14
申请人：マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人：ファン・フェーン、アレクサンダー・ヘンドリク・ビンセント
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要：本発明は、荷電粒子リソグラフィシステムに関する。システムは、荷電粒子ビームを生成するためのビーム発生器と荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイを有しているビームレット発生器と、ビームレットをターゲット表面上に投影するためのビームレット投影器を有している。荷電粒子ビーム発生器は、発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、コリメーターシステム(5a,5b,5c)と、一つ以上のポンプ(220)と、高電圧シールド装置の外側のコンポーネントを高電圧シールド装置内の高電圧からシールドするための高電圧シールド装置(201)と、熱を取り除くための冷却装置(203)を有している。一つ以上のポンプは、高電圧シールド装置と冷却装置の間に配置されている。
摘要翻译：本发明涉及一种带电粒子光刻系统。系统项目具有用于形成从所述束发生器多个子束和用于产生带电粒子束的带电粒子束，子束到目标表面上的孔阵列的子束发生器和一子束投影机。带电粒子束发生器，用于产生发散带电粒子束和（3），准直系统（5A，5B，5C），并与一个或多个泵（220）的带电粒子源，高电压屏蔽的装置和用于在高电压屏蔽装置（201）从所述高电压屏蔽高压屏蔽装置的外部部件具有用于去除热量（203）的冷却装置。一个或多个泵被布置在高压屏蔽装置和冷却装置之间。

9. 发明专利

JP5514472B2 A charged particle beam apparatus 有权
公开(公告)号：JP5514472B2
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：JP2009103490
申请日：2009-04-22
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：創一片桐 , 卓大嶋 , 尚高見 , 真江角 , 隆土肥 , 祐二葛西
IPC分类号： H01J37/18 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/18 , H01J2237/06341 , H01J2237/182 , H01J2237/188

10. 发明专利

JP2009152087A Transmission electron microscope 审中-公开
标题翻译：传输电子显微镜
公开(公告)号：JP2009152087A
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：JP2007329552
申请日：2007-12-21
申请人： Jeol Ltd , 日本電子株式会社
发明人： FUKUSHIMA KURIO
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/09 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/006 , H01J2237/0451 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/2002 , H01J2237/206 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/2605 , H01J2237/2614
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device capable of observing an HAADF image based on high scattering angle annular detection without restricting maximum allowable pressure of a gas introduced into a sample chamber.
SOLUTION: This device is provided with: an electron gun 2; the sample chamber 7 for setting a sample 5 therein; a gas cylinder 37 supplying an atmosphere gas in the vicinity of a surface of the sample 5 through a gas flow control device 39 and a gas nozzle 40; an vacuum pump 36 evacuating the inside of the sample chamber 7; an object lens having the sample set between an upper electrode 8' and a lower electrode 9' and making an electron beam from the electron gun 2 pass therethrough; a detector 15 detecting electrons having passed through the sample; a display device 19 displaying a transmission image of the sample based on a detection signal; holders 51a, 51b, 51c and 51d movable in a direction crossing an electron beam optical axis O on the upper surface part and the lower surface part of each of the upper electrode 8' and the lower electrode 9' of the object lens, and supporting orifice plates 50a, 50b, 50c and 50d each having a plurality of minute holes A, B, C and D, respectively; and their drive devices 52 and movement control device 53.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够基于高散射角环形检测观察HAADF图像的装置，而不限制引入样品室的气体的最大允许压力。解决方案：该装置具有：电子枪2; 用于将样品5设置在其中的样品室7; 通过气体流量控制装置39和气体喷嘴40在样品5的表面附近供给气氛气体的气瓶37; 真空泵36抽出样品室7的内部; 具有在上电极8'和下电极9'之间并使来自电子枪2的电子束的样品的透镜通过其中的物镜; 检测器15，检测经过样品的电子; 基于检测信号显示样本的发送图像的显示装置19; 在物镜的上部电极8'和下部电极9'的上表面部分和下表面部分上沿与电子束光轴O交叉的方向移动的保持器51a，51b，51c和51d，孔板50a，50b，50c和50d分别具有多个微孔A，B，C和D; 及其驱动装置52和移动控制装置53.版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式