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1. 发明专利

JP6106606B2 基板処理システム、基板処理装置及び基板処理装置のデータ蓄積方法並びにプログラム有权
公开(公告)号：JP6106606B2
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：JP2013550206
申请日：2012-12-05
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：小山良崇 , 岩倉裕幸
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05B23/0208 , G05B23/0264 , G06F11/3003 , G05B2219/2602

2. 发明专利

JP2008538254A Method and apparatus for setting a plasma cluster tool 有权
公开(公告)号：JP2008538254A
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：JP2007557072
申请日：2006-02-16
申请人：ラムリサーチコーポレーション
发明人：チャン，チン−チュァン , ハン，チャン−ホ , ファン，シー−ジュン
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： G05B19/0426 , G05B2219/23195 , G05B2219/23255 , G05B2219/24167 , G05B2219/25066 , G05B2219/25076 , G05B2219/25314 , G05B2219/2602
摘要：複数のモジュールを有する特定のプラズマクラスタツールを設定するための方法。この方法は、モジュールオプション定義ファイルのセットを提供することを含み、モジュールオプション定義ファイルのセットは一般的なプラズマクラスタツールのための一般的な設定定義を含む。この方法はツール特定保護情報のセットを提供することをさらに含み、ツール特定保護情報のセットは、設定が意図される特定のプラズマクラスタツールを特に識別するデータを含む。また、ツールに特定なオプション仕様のセットを提供することをさらに含み、ツールに特定なオプション仕様のセットは特定のプラズマクラスタツールのために指定されるオプションを指定する。さらにキーファイルを生成することを含み、キーファイルは特定のプラズマクラスタマツールに課される設定制約をカプセル化し、キーファイルは特定のプラズマツールを設定することにおいて必要とされるファイルとなるように設定されている。
【選択図】図４

3. 发明专利

JPWO2013125387A1 基板処理システム、管理装置、及び表示方法有权
标题翻译：基板处理系统，管理装置，以及显示方法
公开(公告)号：JPWO2013125387A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：JP2014500657
申请日：2013-02-12
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：一良山本 , 一良山本
IPC分类号： H01L21/02 , C23C14/54 , C23C16/52 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B23/0267 , G05B2219/24068 , G05B2219/2602 , H01J37/32082 , H01J37/32926 , H01L21/02 , H01L21/6719 , H01L21/67201 , H01L21/67288 , Y02P90/14
摘要：障害に至るまでの経緯の把握及び障害発生箇所の特定を容易にすることができる基板処理システム、管理装置、及び表示方法を提供する。基板処理システム1は、ウエハ4を処理する基板処理装置10と、この基板処理装置10から所定の情報を表示装置14に表示する管理装置12と、有し、基板処理装置10は、ウエハ4の処理環境に関する情報を経時的に測定する処理環境測定部と、該基板処理装置の障害に関する情報を通知する障害情報通知部と、を備え、管理装置12は、処理環境測定部が測定した測定情報と、障害情報通知部が通知した通知情報とを格納する格納部32、を備え、表示装置14は、格納部32に格納された測定情報と通知情報とを対応付けて表示する表示装置14とを備える。
摘要翻译：基板处理系统可便于在历史导致到失败，管理装置某些抓握和故障位置，并且提供了一种显示方法。基板处理系统1包括：基板处理装置10用于处理晶片4，以从基板处理装置10显示到显示装置14中的预定信息包括，在基板处理装置10中，晶片4的管理装置12 包括处理环境测量单元，用于关于所述处理环境，用于通知该基板处理装置的故障，管理单元12，测量信息的信息处理环境测量部周期性地测量信息和故障信息通知单元已经测量当与存储单元32，其存储通知信息的故障信息通知单元通知已经提供，显示装置14包括显示装置14，用于相关联地存储在存储单元32中的测量信息和所述通知信息显示配备了。

4. 发明专利

JP2008537320A Safe universal configuration software for the cluster tool 有权
公开(公告)号：JP2008537320A
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：JP2007557066
申请日：2006-02-16
申请人：ラムリサーチコーポレーション
发明人：チャン，チン−チュァン , ハン，チャン−ホ , ファン，シー−ジュン
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05B19/0426 , G05B2219/23195 , G05B2219/23255 , G05B2219/24167 , G05B2219/25066 , G05B2219/25076 , G05B2219/25314 , G05B2219/2602 , Y10S438/907 , Y10S438/908
摘要：プラズマクラスタツールを設定する方法が開示されている。この方法はオプション仕様からキーファイルを生成することを含み、キーファイルはプラズマクラスタツールに特に課される設定制限をカプセル化する。この方法は、キーファイルを使用して、少なくとも１つのシステム全体設定ファイルと少なくとも１つのコンポーネントレベル設定ファイルを生成することも含む。さらに、この方法はオプション定義ファイル、少なくとも１つのシステム全体設定ファイル、及び少なくとも１つのコンポーネントレベル設定ファイルのデータベースからランタイム実行可能オブジェクトを生成することを含む。さらに、この方法はプラズマクラスタツールを設定するためにランタイム実行可能オブジェクトを利用することを含む。
【選択図】図４

5. 发明专利

JP2018178157A 半導体製造装置、半導体製造装置の故障予知方法、および半導体製造装置の故障予知プログラム审中-公开
公开(公告)号：JP2018178157A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017075436
申请日：2017-04-05
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：藤方淳平 , 荒木裕二 , 佐藤天星 , 小泉竜也
IPC分类号： C25D7/12 , C25D21/12
CPC分类号： H01L21/67276 , C25D3/12 , C25D17/001 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D21/06 , C25D21/10 , C25D21/12 , G05B19/058 , G05B2219/2602 , H01L21/67057 , H01L21/67086 , H01L21/67288 , H01L21/67751 , H01L21/68707
摘要：【課題】半導体製造装置の故障予知精度を向上させることにある。【解決手段】第1装置と、前記第1装置の状態を示す物理量を検出する1又は複数のセンサと、前記検出された物理量から前記第1装置の1又は複数の特徴量を算出する第1の算出回路と、前記第1の算出回路で算出された1又は複数の特徴量を、前記第1装置が故障に至るまでの1又は複数の特徴量の経時変化の複数のモデルデータとを比較し、前記複数のモデルデータのうち、前記算出された1又は複数の特徴量との差が最も小さいモデルデータを決定し、当該モデルデータにおいて、前記算出された1又は複数の特徴量との差が最小になる時点と、故障時点との差から故障予測時間を算出し、故障予測時間が所定の閾値未満である場合に、新規の基板の受け入れを停止する故障予知回路と、を備える半導体製造装置。【選択図】図10

6. 发明专利

JP6204344B2 基板処理システム、管理装置、及び表示方法有权
公开(公告)号：JP6204344B2
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：JP2014500657
申请日：2013-02-12
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：山本一良
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C14/54 , C23C16/52 , H01L21/02
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B23/0267 , H01J37/32082 , H01J37/32926 , H01L21/02 , H01L21/6719 , H01L21/67201 , H01L21/67288 , G05B2219/24068 , G05B2219/2602 , Y02P90/14

7. 发明专利

JPWO2013094400A1 基板処理システム、基板処理装置及び基板処理装置のデータ蓄積方法有权
标题翻译：的基板处理系统，用于在衬底处理装置的数据存储方法和基板处理装置
公开(公告)号：JPWO2013094400A1
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013550206
申请日：2012-12-05
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：小山　良崇 , 良崇小山 , 岩倉　裕幸 , 裕幸岩倉
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05B23/0208 , G05B23/0264 , G05B2219/2602 , G06F11/3003
摘要：基板処理装置から出力される複数種類のモニタデータを受信し、一時記憶部が記憶できるデータ書込上限値と、受信するモニタデータが所定の第1の時間内において所定値以上に変化した延べ回数であるモニタデータレートとに基づき、所定の第2の時間内において各種類のモニタデータを一時記憶部に書き込む回数を算出してモニタデータの種類毎に割り当て、該割り当て回数に基づき、受信したモニタデータを一時記憶部に記憶し、一時記憶部に記憶したモニタデータを、所定の第3の時間毎に読み出して、蓄積記憶部に書き込む。
摘要翻译：接收多个类型的监视数据的是从基板处理装置的输出，数据写上限临时存储单元可以存储的总次数接收的监视数据具有预定的第一时间内改变大于预定值更基于监视的数据速率中，分配给每种类型的监视数据来计算预定的第二时间内的每个类型的监视器数据的临时存储单元写入的次数，分配数的基础上，监视接收存储在临时存储单元中的数据，存储在临时存储单元中的监视数据，读出每一个预定第三次写入存储存储单元中。

8. 发明专利

JP2015138786A 基板処理装置内の複数の処理ユニットを調整するための調整装置、および該調整装置を備えた基板処理装置有权
标题翻译：用于调整基板处理装置中的多个加工单元的调整装置以及包括调节装置的基板处理装置
公开(公告)号：JP2015138786A
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：JP2014007654
申请日：2014-01-20
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：武田晃一 , 中村貴正
IPC分类号： B24B37/34 , H01L21/02
CPC分类号： G05B19/4184 , G05B2219/2602 , G05B2219/31044 , G05B2219/32139 , Y02P90/04 , Y02P90/14 , Y02P90/16 , Y02P90/18 , Y02P90/185
摘要：【課題】より短い時間で基板処理装置の各種処理ユニットを調整することができる調整装置を提供する。【解決手段】調整装置は、処理ユニットU1〜UNを操作し、かつ所定の動作を調整するメイン操作装置71と、処理ユニットU1〜UNを操作し、かつ所定の動作を調整する端末操作装置T1〜TNと、処理ユニットU1〜UNとメイン操作装置71とを接続するネットワーク75と、端末操作装置T1〜TNをネットワーク75に接続し、かつネットワーク75から切り離す接続装置81,82とを備える。端末操作装置T1〜TNのそれぞれは、処理ユニットU1〜UNのうちの少なくとも1台を操作可能に構成されている。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在短时间内调整基板处理装置的各种处理单元的调节装置。解决方案：调整装置包括：主操作装置71，其操作处理单元U1至UN并调整预定的操作; 终端操作装置T1至TN，其操作处理单元U1至UN并调整预定操作; 将处理单元U1〜UN连接到主操作装置71的网络75; 以及将终端操作装置T1到TN连接到网络75并且从网络75断开设备T1至TN的连接装置81和82.终端操作装置T1至TN中的每一个被配置为操作处理中的至少一个单位U1到联合国。

9. 发明专利

JP5198878B2 Safe universal configuration software for the cluster tool 有权
公开(公告)号：JP5198878B2
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：JP2007557066
申请日：2006-02-16
申请人：ラムリサーチコーポレーション
发明人：ハン，チャン−ホ , ファン，シー−ジュン , チャン，チン−チュァン
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05B19/0426 , G05B2219/23195 , G05B2219/23255 , G05B2219/24167 , G05B2219/25066 , G05B2219/25076 , G05B2219/25314 , G05B2219/2602 , Y10S438/907 , Y10S438/908

10. 发明专利

JP4938692B2 Way to set the plasma cluster tool 有权
公开(公告)号：JP4938692B2
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：JP2007557072
申请日：2006-02-16
申请人：ラムリサーチコーポレーション
发明人：チャン，チン−チュァン , ハン，チャン−ホ , ファン，シー−ジュン
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： G05B19/0426 , G05B2219/23195 , G05B2219/23255 , G05B2219/24167 , G05B2219/25066 , G05B2219/25076 , G05B2219/25314 , G05B2219/2602

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