专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP4486692B2 Substrate processing apparatus 有权
公开(公告)号：JP4486692B2
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：JP2008333178
申请日：2008-12-26
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：一良山本 , 徳信赤尾
IPC分类号： H01L21/02 , C23C16/52 , G01D9/00 , H01L21/205 , H01L21/22 , H01L21/31
CPC分类号： G05B19/4183 , G05B2219/31291 , G05B2219/31304 , H01L21/67276 , Y02P90/10 , Y02P90/18

2. 发明专利

JPWO2013125387A1 基板処理システム、管理装置、及び表示方法有权
标题翻译：基板处理系统，管理装置，以及显示方法
公开(公告)号：JPWO2013125387A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：JP2014500657
申请日：2013-02-12
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：一良山本 , 一良山本
IPC分类号： H01L21/02 , C23C14/54 , C23C16/52 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B23/0267 , G05B2219/24068 , G05B2219/2602 , H01J37/32082 , H01J37/32926 , H01L21/02 , H01L21/6719 , H01L21/67201 , H01L21/67288 , Y02P90/14
摘要：障害に至るまでの経緯の把握及び障害発生箇所の特定を容易にすることができる基板処理システム、管理装置、及び表示方法を提供する。基板処理システム1は、ウエハ4を処理する基板処理装置10と、この基板処理装置10から所定の情報を表示装置14に表示する管理装置12と、有し、基板処理装置10は、ウエハ4の処理環境に関する情報を経時的に測定する処理環境測定部と、該基板処理装置の障害に関する情報を通知する障害情報通知部と、を備え、管理装置12は、処理環境測定部が測定した測定情報と、障害情報通知部が通知した通知情報とを格納する格納部32、を備え、表示装置14は、格納部32に格納された測定情報と通知情報とを対応付けて表示する表示装置14とを備える。
摘要翻译：基板处理系统可便于在历史导致到失败，管理装置某些抓握和故障位置，并且提供了一种显示方法。基板处理系统1包括：基板处理装置10用于处理晶片4，以从基板处理装置10显示到显示装置14中的预定信息包括，在基板处理装置10中，晶片4的管理装置12 包括处理环境测量单元，用于关于所述处理环境，用于通知该基板处理装置的故障，管理单元12，测量信息的信息处理环境测量部周期性地测量信息和故障信息通知单元已经测量当与存储单元32，其存储通知信息的故障信息通知单元通知已经提供，显示装置14包括显示装置14，用于相关联地存储在存储单元32中的测量信息和所述通知信息显示配备了。

3. 发明专利

JP5193244B2 Substrate processing apparatus, display method of the substrate processing apparatus, and a method of manufacturing a semiconductor device 有权
公开(公告)号：JP5193244B2
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：JP2010069703
申请日：2010-03-25
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：徳信赤尾 , 一良山本
IPC分类号： H01L21/02

4. 发明专利

JPWO2014189045A1 管理装置、基板処理システム、装置情報更新方法、及び記録媒体有权
标题翻译：管理装置，基板处理系统，该装置信息更新方法，和记录介质
公开(公告)号：JPWO2014189045A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015518259
申请日：2014-05-20
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：寿朗越巻 , 一秀浅井 , 英人清水 , 佳代子屋敷 , 一良山本 , 修久牧野
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G06F17/5045 , G05B19/042 , G05B2219/23295 , Y02P90/265
摘要：基板を処理するための装置情報を保有する基板処理装置と接続される管理装置を、前記装置情報のうち、前記装置情報の基準となる基準装置情報を設定する設定部と、前記設定部に設定された前記基準装置情報に基づき前記基板処理装置から取得された取得装置情報と前記基準装置情報との差異を抽出し得られた差異部と、前記基準装置情報を含む前記装置情報の内容をそれぞれ表示する操作表示部と、前記取得装置情報と前記基準装置情報との差異部の修正指示を前記操作表示部から受信すると、前記修正指示に基づいて、前記取得装置情報を修正して修正装置情報を作成し、該修正装置情報を前記基板処理装置へ送信するよう制御する制御部と、を備えるように構成する。【選択図】図3
摘要翻译：连接到衬底处理装置，用于载运用于处理基板的设备信息，设备信息，设定单元，其设定的参考设备信息作为设备信息的基准，在所述设置单元设置的管理装置每个是通过提取从基板处理装置基于所述信息和所述参考装置信息，装置信息包括参考装置信息的内容的基准设备获取的获取的设备信息的差而获得的差分单元用于显示，当所述获取设备信息和从操作显示部接收的参考设备的信息，根据所述修正指令之间的差异部分的校正指令，修改以校正获取的设备信息的设备信息的操作显示单元创建，并且被配置为包括：控制单元，用于控制发送修改的系统信息至基板处理装置。点域

5. 发明专利

JP5546197B2 A substrate processing system, the method of information analysis group management apparatus and a substrate processing apparatus 有权
公开(公告)号：JP5546197B2
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：JP2009231319
申请日：2009-10-05
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：一秀浅井 , 裕幸岩倉 , 一良山本
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC分类号： G05B23/0278 , G05B2219/31337

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式